1.一种触控显示面板，其特征在于，包括：
显示面板，具有封装盖板；
以及触控面板，位于所述显示面板上；
所述触控面板包括形成于所述封装盖板上的触控感应结构层；
所述触控感应结构层具有用于形成触控线路的第一刻痕以及用于形成仿真线路的第二刻痕；
所述第一刻痕与所述第二刻痕均呈锯齿状。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，
所述第一刻痕中锯齿的宽度为所述显示面板的像素宽度的1～4倍；
所述第一刻痕中锯齿的高度为所述显示面板的像素高度的1～4倍；
所述第二刻痕中锯齿的宽度为所述显示面板的像素宽度的1～4倍；
所述第二刻痕中锯齿的高度为所述显示面板的像素高度的1～4倍。
3.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控感应结构层包括：
消影层，形成于所述封装盖板上；所述第二刻痕位于所述消影层；
感应层；所述第一刻痕位于所述感应层；
以及透明绝缘层，位于所述感应层与所述消影层之间。
4.根据权利要求3所述的触控显示面板，其特征在于，所述消影层接地。
5.根据权利要求3所述的触控显示面板，其特征在于，所述透明绝缘层的厚度为50～300nm。
6.根据权利要求3所述的触控显示面板，其特征在于，所述透明绝缘层为二氧化硅层或氮化硅层。
7.根据权利要求3所述的触控显示面板，其特征在于，所述消影层为氧化铟锡层，所述感应层为氧化铟锡层。
8.一种触控显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
在所述封装盖板上形成所述触控感应结构层；其中，所述触控感应结构层具有用于形成触控线路的第一刻痕以及用于形成仿真线路的第二刻痕；
所述第一刻痕与所述第二刻痕均呈锯齿状。
9.根据权利要求8所述的触控显示面板的制备方法，其特征在于，形成所述触控感应结构层的步骤包括：
在所述封装盖板形成透明导电薄膜；
在所述透明导电薄膜上蚀刻出所述第一刻痕以及所述第二刻痕，以形成所述触控感应结构层。
10.根据权利要求8所述的触控显示面板的制备方法，其特征在于，形成所述触控感应结构层的步骤包括：
在所述封装盖板形成第一透明导电薄膜；
在所述第一透明导电薄膜上蚀刻出所述第二刻痕，以形成消影层；
在所述消影层上形成透明绝缘层；
在所述透明绝缘层上形成第二透明导电薄膜；
在所述第二透明导电薄膜上蚀刻出所述第一刻痕，以形成感应层。