触控显示面板及其制备方法与流程

本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种触控显示面板及其制备方法。

背景技术：

触控显示面板，一般由触控面板搭配显示面板组成，以便用户可以直接点选图像操作，以达改善人机界面操作的目的。其中触控面板依其运作原理与结构不同，可分为电阻式、电容式、红外线式及超音波式等。以目前主流性的触控面板均为电容式。

电容式触控面板，一般具有多个导线(即线路)，多个导线彼此平行或交错而绝缘设置，从而形成各个感应单元布设在该触控面板的工作区域之内。通常线路是采用如下方法制成，将透明导电薄膜利用蚀刻工艺产生线路并划分出各个感应单元。透明导电薄膜，例如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、纳米碳管或有机导电高分子材料，虽为透明材料，不过相对于基材的透光度仍较低。而各该导线间彼此保持适当宽度的间隙，以达绝缘目的，而对于感应这些设置导线的感应单元的电极区和导线间非线路区域(亦即该透明导电薄膜的镂空部位)具有不同的透光率(Transmittance)，所以造成穿透该导电薄膜的光线折射不均，这样的结果将会导致人眼观察时会有明显的图形产生，尤其是当安置在显示幕前使用时，就会造成屏幕影像变形、模糊失真的困扰。

为避免前述缺失，目前有些做法是将透明导电薄膜上导线间的非线路区域内的原导电材料保留不去除，以降低该导电薄膜各部透光率的差异性，上述手段虽有助提升透明导电薄膜的透光率均一性，但是造成线路区和非线路区之间的刻痕明显。特别是在On-cell结构中，透明导电膜的阻值要求低，导致透明导电膜厚度增加，刻痕更加明显，视觉感受不好，影响显示效果。

技术实现要素：

基于此，有必要针对现有的触控显示面板刻痕明显的问题，提供一种弱化刻痕、改善视觉感受的触控显示面板。

一种触控显示面板，包括：

显示面板，具有封装盖板；

以及触控面板，位于所述显示面板上；

所述触控面板包括形成于所述封装盖板上的触控感应结构层；

所述触控感应结构层具有用于形成触控线路的第一刻痕以及用于形成仿真线路的第二刻痕；

所述第一刻痕与所述第二刻痕均呈锯齿状。

上述触控显示面板，由于在触控线路区(即有效线路区，该区域的线路参与触控)与仿真线路区(即非有效线路区，该区域的线路不参与触控，不传输触控信号，形成孤岛线路)均有刻痕，这样在整个触控显示面板上都分布有刻痕，从而使触控线路区与仿真线路区的差异较小，从视觉感受上弱化刻痕。另外，在上述触控显示面板中，触控线路区的的第一刻痕与仿真线路区的第二刻痕均采用锯齿状设计，这样第一刻痕和第二刻痕采用同种设计，使整个触控显示面板的刻痕更加统一，也有利于从视觉上弱化刻痕；还有，相对直线状的刻痕，锯齿状的刻痕从视觉感受上，也可以使刻痕变得不明显，具有弱化刻痕的效果。

在其中一个实施例中，

所述第一刻痕中锯齿的宽度为所述显示面板的像素宽度的1～4倍；

所述第一刻痕中锯齿的高度为所述显示面板的像素高度的1～4倍；

所述第二刻痕中锯齿的宽度为所述显示面板的像素宽度的1～4倍；

所述第二刻痕中锯齿的高度为所述显示面板的像素高度的1～4倍。

采用上述锯齿与像素的关系，可以使锯齿状的刻痕绕着像素设置，进一步使像素发出的光，基本不受刻痕影响，从而降低刻痕对显示效果的影响，有利于提高显示效果。

在其中一个实施例中，所述触控感应结构层包括：

消影层，形成于所述封装盖板上；所述第二刻痕位于所述消影层；

感应层，所述第一刻痕位于所述感应层；

以及透明绝缘层，位于所述感应层与所述消影层之间。

在其中一个实施例中，所述消影层接地。

在其中一个实施例中，所述透明绝缘层的厚度为50～300nm。

在其中一个实施例中，所述透明绝缘层为二氧化硅层或氮化硅层。

在其中一个实施例中，所述消影层为氧化铟锡层，所述感应层为氧化铟锡层。

本发明还提供了一种触控显示面板的制备方法。

一种触控显示面板的制备方法，包括如下步骤：

在所述封装盖板上形成所述触控感应结构层；其中，所述触控感应结构层具有用于形成触控线路的第一刻痕以及用于形成仿真线路的第二刻痕；

所述第一刻痕与所述第二刻痕均呈锯齿状。

上述触控显示面板的制备方法，可以从视觉感受上弱化刻痕；并且降低刻痕对显示效果的影响。

在其中一个实施例中，形成所述触控感应结构层的步骤包括：

在所述封装盖板形成透明导电薄膜；

在所述透明导电薄膜上蚀刻出所述第一刻痕以及所述第二刻痕，以形成所述触控感应结构层。在其中一个实施例中，形成所述触控感应结构层的步骤包括：

在所述封装盖板形成第一透明导电薄膜；

在所述第一透明导电薄膜上蚀刻出所述第二刻痕，以形成消影层；

在所述消影层上形成透明绝缘层；

在所述透明绝缘层上形成第二透明导电薄膜；

在所述第二透明导电薄膜上蚀刻出所述第一刻痕，以形成感应层。

附图说明

图1为本发明一实施方式的触控显示面板的结构示意图。

图2为本发明一实施方式的刻痕布局设计局部示意图。

图3为图2中A处的放大图。

图4为本发明另一实施方式的刻痕布局设计局部示意图。

图5为图4中圆圈处的放大图。

图6为本发明另一实施方式的触控显示面板的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

参见图1，本发明实施例一的触控显示面板100，包括：显示面板200以及位于显示面板200上的触控面板300。

其中，显示面板200为触控显示面板100的显示部分；其主要作用是，用于显示图像。触控面板300为触控显示面板100的触控部分；其主要作用是，用于检测用户触摸以获取位置信息。

具体地，显示面板200包括封装盖板210，触控面板300形成于该封装盖板210上。也就是说，封装盖板210同时还作为触控面板300基材，触控面板300不单独设置基材，也即显示面板200的封装盖板210与触控面板300的基板合二为一。整个触控显示面板100为on-cell结构。这样可以有利于降低整个触控显示面板100的厚度。

当然，显示面板200除了封装盖板210，还包括衬底220以及形成于衬底220上的像素结构层230。在像素结构层230中含有若干像素单元(未示出)。显示面板200的具体结构可以采用本领域技术人员所公知的结构，在此不再赘述。

在本实施例中，显示面板200为OLED屏，当然可以理解的是，显示面板200并不局限于OLED屏，还可以其它显示屏，例如LCD屏。

具体地，触控面板300包括形成于封装盖板210上的触控感应结构层；触控感应结构层，在触摸时检测电容变化并获取该点的位置信息。

在本实施例中，触控感应结构层为单层结构。也就是说，触控感应结构层由一层透明导电薄膜在其上刻蚀出刻痕形成。

在本实施例中，触控感应结构层由氧化铟锡薄膜刻蚀得到。当然，可以理解的是，还可以由其它透明导电薄膜刻蚀得到，例如氧化铟锌层、氧化锌铝层、聚乙撑二氧噻吩层等。

结合图1参见图2-5，具体地，触控感应结构层具有用于形成触控线路的第一刻痕301以及用于形成仿真线路的第二刻痕302。也就是说，触控感应结构层划分为触控线路区300a和仿真线路区300b，触控线路区300a即有效线路区，其中的线路与外部控制线路连接，用于获得触摸点的位置信息；仿真线路区300b即非有效线路区，其中的线路不与外部控制线路连接，不参与触控；而是形成孤岛线路，不传输触摸信号电流。在触控线路区300a的透明导电薄膜利用第一刻痕301刻画出触控线路，在仿真线路区300b的透明导电薄膜利用第二刻痕302刻画出仿真线路。

具体地，第一刻痕301与第二刻痕302均呈锯齿状。相对直线状的刻痕，锯齿状的刻痕从视觉感受上，也可以使刻痕变得不明显，具有弱化刻痕的效果。

优选地，第一刻痕301中锯齿的宽度为显示面板的像素宽度的1～4倍；第一刻痕301中锯齿的高度为显示面板的像素高度的1～4倍；第二刻痕302中锯齿的宽度为显示面板的像素宽度的1～4倍；第二刻痕302中锯齿的高度为显示面板的像素高度的1～4倍。

其中，刻痕中锯齿的宽度是指一个锯齿中两条斜线在像素宽度方向的跨度，也即图中一个锯齿最左侧到最右侧的距离。刻痕中锯齿的高度是指一个锯齿中两条斜线在像素高度方向上跨度，也即图中一个锯齿的齿根到齿尖的距离。

由于上述特殊的刻痕设计，第一刻痕301与第二刻痕302可以绕着像素设置，进一步使像素发出的光，基本不受刻痕影响，从而降低刻痕对显示效果的影响，有利于提高显示效果。

在本实施例中，第二刻痕302中锯齿的宽度为像素宽度的2倍；第二刻痕302中锯齿的高度为像素高度的4倍。

图2和图3为本发明一种刻痕的布局设计。在图2和图3中，为了方便显示，只对其中一个仿真线路区300b及其附近的第一刻痕301进行了显示，其它部分的刻痕未示出。

在图2和图3的设计中，第二刻痕302基本以平行状态排布，也即第二刻痕302的锯齿朝向一直，即沿垂直于锯齿的延伸方向，不同的第二刻痕302中，锯齿的齿尖对齿尖，齿凹对齿凹。

图4和图5为本发明另一种第二刻痕的布局设计。在图4和图5的设计中，间隔的第二刻痕302的锯齿朝向相对。即沿垂直于锯齿的延伸方向，不同的第二刻痕302中，锯齿的齿尖对齿凹，齿凹对齿尖。

参见图6，图6为本发明实施例二的触控显示面板的结构示意图。本实施例的触控显示面板400与实施例一的触控显示面板100基本相同，与实施例一所不同的是，触控感应结构层为复合层结构。

具体地，触控感应结构层包括感应层310、消影层320、以及位于感应层310和消影层320之间的透明绝缘层330。

结合参见图2-6，其中，感应层310的主要作用是，感应触摸并获取触摸点的位置信息。也就是说，触控线路设置在感应层310上，对应地，第一刻痕301位于感应层310上。感应层310的触控线路区300a的透明导电薄膜被第一刻痕301蚀刻出触控线路。

其中，消影层320的主要作用是，设置第二刻痕302，从而从视觉上弱化第一刻痕301。也就是说，第二刻痕302位于消影层320上，对应地，仿真线路设置在消影层320上。消影层320的仿真线路区300b的透明导电薄膜被第二刻痕302蚀刻出仿真线路。

其中，透明绝缘层330的主要作用是，将感应层310和消影层320绝缘。在本实施例中，透明绝缘层330的厚度为50～300nm。这样既可以保证感应层310和消影层320之间具有良好的绝缘效果，同时有利于光线穿过，减少透明绝缘层330对光的吸收。

优选地，透明绝缘层330为二氧化硅层或氮化硅层。当然，可以理解的是，本发明的透明绝缘层330还可以是其它透明导电材料薄膜构成。

在本实施例中，消影层320形成于封装盖板210上。也就是说，在触控感应结构层中，消影层320靠近显示面板，而感应层310远离显示面板。这样感应层310更靠近用户一侧，从而更有利于感应用户触摸，提高触控面板300的灵敏度。

在本实施例中，消影层320接地。这样消影层320的透明导电薄膜起到屏蔽层的作用，可以有效屏蔽显示面板200的噪音干扰，进一步提高触控面板300的性能。具体地，可以在透明绝缘层330中开设过孔(未示出)，将消影层320的透明导电薄膜通过过孔与接地电路连接以实现接地。

当然，可以理解的是，本发明的消影层320并不局限于接地，还可以是消影层320不接地。

在本实施例中，感应层310、以及消影层320均由氧化铟锡薄膜刻蚀得到。当然，可以理解的是，还可以由其它透明导电薄膜刻蚀得到，例如氧化铟锌层、氧化锌铝层、聚乙撑二氧噻吩层等。还可以理解的是，感应层310与消影层320的透明导电薄膜的材料可以相同，也可以不同。

本发明所提供的触控显示面板，由于在触控线路区(即有效线路区，该区域的线路参与触控)与仿真线路区(即非有效线路区，该区域的线路不参与触控，不传输触控信号，形成孤岛线路)均有刻痕，这样在整个触控显示面板上都分布有刻痕，从而使触控线路区与仿真线路区的差异较小，从视觉感受上弱化刻痕。另外，在上述触控显示面板中，触控线路区的的第一刻痕与仿真线路区的第二刻痕均采用锯齿状设计，同时满足与像素的之间关系，这样第一刻痕和第二刻痕采用同种设计，使整个触控显示面板的刻痕更加统一，也有利于从视觉上弱化刻痕；并且锯齿状的刻痕可以绕着像素设置，像素发出的光，基本不受刻痕影响，从而降低刻痕对显示效果的影响，有利于提高显示效果，还有，相对直线状的刻痕，锯齿状的刻痕从视觉感受上，也可以使刻痕变得不明显，具有弱化刻痕的效果。

本发明还提供了一种触控显示面板的制备方法。

一种触控显示面板的制备方法，包括如下步骤：

在封装盖板上形成触控感应结构层；其中，触控感应结构层具有用于形成触控线路的第一刻痕以及用于形成仿真线路的第二刻痕；

所述第一刻痕与所述第二刻痕均呈锯齿状。

当然，可以理解的是，触控显示面板的制备方法还包括其它步骤，其它步骤可以采用本领域技术人员所公知的步骤和步骤顺序。

若触控感应结构层为单层结构，则形成触控感应结构层的具体步骤包括：

在封装盖板形成透明导电薄膜；在透明导电薄膜上蚀刻出第一刻痕以及第二刻痕，以形成所述触控感应结构层。

优选地，在透明导电薄膜上，采用一张掩膜板同时蚀刻出第一刻痕以及第二刻痕。

若触控感应结构层为复合层结构，则形成触控感应结构层的步骤包括：

在封装盖板形成第一透明导电薄膜；在第一透明导电薄膜上蚀刻出第二刻痕，以形成消影层；

在消影层上形成透明绝缘层；

在透明绝缘层上形成第二透明导电薄膜；在第二透明导电薄膜上蚀刻出第一刻痕，以形成感应层。

上述触控显示面板的制备方法，可以从视觉感受上弱化刻痕；并且降低刻痕对显示效果的影响。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。