) (3)同样地制作具有透明绝缘膜的玻璃 基板。
[0229] (6)MAM布线的制作 在上述（5)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (4)同样地制作MAM布线，完成触控面 板基板（图6)。
[0230] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0231](实施例 116) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例115同样地实施了操作。
[0232](实施例117) 除了在（3)透明树脂膜的制作的工序中不使用掩模进行曝光以外，与实施例115同样 地完成触控面板基板（图7)。
[0233] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0234](实施例118) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例117同样地实施了操作。
[0235](实施例119) 在（3)透明树脂膜的制作的工序中，使用高速等离子体CVD成膜装置（PD- 270STL;SAMC0 (株)制)，将四乙氧基硅烷作为原料，形成膜厚0. 3μm的氧化硅薄膜，除此以外，与实 施例117同样地实施了操作。
[0236](实施例 120) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例119同样地实施了操作。
[0237](实施例 121) 除了更换（2)黑色遮光性固化膜的制作的工序和（3)透明树脂膜的制作的工序的顺序 以外，与实施例61同样地完成触控面板基板（图8)。
[0238] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0239](实施例 122) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例121同样地实施了操作。
[0240](实施例 123) 除了更换（2)黑色遮光性固化膜的制作的工序和（3)透明树脂膜的制作的工序的顺序 以外，与实施例62同样地完成触控面板基板（图9)。
[0241] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0242](实施例 124) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例123同样地实施了操作。
[0243](实施例 125) (1)白色遮光图案的制作 使用制备例29中得到的负型感光性白色组合物（W- 29)，与上述（vii)同样地制作具 有白色遮光图案的玻璃基板。
[0244] ( 2 )透明树脂膜的制作 在上述（1)中得到的玻璃基板上，使用制备例50中得到的负型感光性透明组合物(Cr一 1)，将膜厚设为2μπι，不隔着掩模进行曝光，除此以外，按照与上述（vii)同样的步 骤，制作具有透明树脂膜的玻璃基板。
[0245] (3)黑色遮光性固化膜的制作 在上述（2)中得到的玻璃基板上，使用制备例51中得到的负型感光性黑色组合物(Bk- 1 )，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案小400μm的图案掩模进行曝光，将显影 液设为〇. 045%Κ0Η水溶液，除此以外，按照与上述（vii)同样的步骤，制作黑色遮光性固化 膜。
[0246] (4)透明树脂膜的制作 在上述（3)中得到的玻璃基板上，使用制备例50中得到的负型感光性透明组合物(Cr- 1)，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案大400μm的图案掩模进行曝光，除此以 外，按照与上述（vii)同样的步骤，制作具有透明树脂膜的玻璃基板。
[0247] (5)图案ΙΤ0的制作 在上述（4)中得到的玻璃基板上，与上述（vii)同样地制作具有膜厚150nm的经过图案 加工的ΙΤ0的玻璃基板。
[0248] ( 6)透明绝缘膜的制作 在上述（5)中得到的玻璃基板上，与上述（vii)同样地制作具有透明绝缘膜的玻璃基 板。
[0249] (7)MAM布线的制作 在上述（6)中得到的玻璃基板上，与上述（vii)同样地制作MAM布线，完成触控面板基 板（图10)。
[0250] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0251](实施例 126) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例125同样地实施了操作。
[0252](实施例 127) (1)白色遮光图案一 1的制作 按照膜厚=10μm、线宽=2600μm的方式，使用制备例29中得到的负型感光性白色组 合物（W- 29)，与上述（vii)同样地制作具有白色遮光图案的玻璃基板。
[0253] (2)白色遮光图案一 2的制作 在上述（1)中得到的玻璃基板上，按照膜厚=5μπκ线宽=3000μπι的方式，使用制备 例29中得到的负型感光性白色组合物（W- 29)，与上述（vii)同样地制作具有白色遮光图 案的玻璃基板。
[0254] (3)黑色遮光性固化膜的制作 在上述（2)中得到的玻璃基板上，使用制备例51中得到的负型感光性黑色组合物(Bk- 1 )，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案小400μm的图案掩模进行曝光，将显影 液设为〇. 045质量％Κ0Η水溶液，除此以外，与上述（vii) (1)同样地制作黑色遮光性固化 膜。
[0255] (4)透明树脂膜的制作 在上述（3)中得到的玻璃基板上，使用制备例50中得到的负型感光性透明组合物(Cr- 1)，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案大400μm的图案掩模进行曝光，除此以 外，与上述（vii) (3)同样地制作具有透明树脂膜的玻璃基板。
[0256] (5)图案ΙΤ0的制作 在上述（4)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (2)同样地制作具有膜厚150nm的经过 图案加工的ΙΤ0的玻璃基板。
[0257] (6)透明绝缘膜的制作 在上述（5 )中得到的玻璃基板上，与上述（vii)(3 )同样地制作具有透明绝缘膜的玻璃 基板。
[0258] (7)MAM布线的制作 在上述（6)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (4)同样地制作MAM布线，完成触控面 板基板（图11)。
[0259] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0260](实施例 128) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例127同样地实施了操作。
[0261](实施例 129) 在白色遮光图案一 1的制作中，使用制备例104中得到的非感光性白色组合物（HW- 2)代替负型感光性白色组合物（W- 29)，使用丝网印刷机进行涂布，使用热板将基板在 KKTC下预烘3分钟后使用烘箱将基板在空气中230°C固化30分钟，由此进行制作，除此以 外，与实施例127同样地实施了操作。
[0262](实施例130) 除了在白色遮光图案一 2的制作中使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感 光性白色组合物（W- 29)以外，与实施例129同样地实施了操作。
[0263](实施例 131) 除了变更白色遮光图案一1的制作条件和白色遮光图案一 2的制作条件以外，与实施 例127同样地实施了操作。
[0264](实施例 132) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例131同样地实施了操作。
[0265](实施例133) (1)白色遮光图案一 1的制作 按照膜厚=5μm、线宽=3000μm的方式，使用制备例29中得到的负型感光性白色组 合物（W- 29)，与上述（vii)同样地制作具有白色遮光图案的玻璃基板。
[0266] (2)白色遮光图案一2的制作 在上述（1)中得到的玻璃基板上，按照膜厚=10μm、线宽=2800μm的方式(按照不 会从白色遮光图案一 1露出的方式)，使用制备例104中得到的非感光性白色组合物（HW- 2)，使用丝网印刷机进行涂布，使用热板将基板在KKTC下预烘3分钟。接着，使用烘箱将基 板在空气中以230Γ固化30分钟，制作具有白色遮光图案的玻璃基板。
[0267] (3)黑色遮光性固化膜的制作 在上述（2)中得到的玻璃基板上，使用制备例51中得到的负型感光性黑色组合物(Bk- 1 )，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案小400μm的图案掩模进行曝光，将显影 液设为〇. 045质量％Κ0Η水溶液，除此以外，与上述（vii) (1)同样地制作黑色遮光性固化 膜。
[0268] (4)透明树脂膜的制作 在上述（3)中得到的玻璃基板上，使用制备例50中得到的负型感光性透明组合物(Cr- 1)，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案大400μm的图案掩模进行曝光，除此以 外，与上述（vii) (3)同样地制作具有透明树脂膜的玻璃基板。
[0269] (5)图案ΙΤ0的制作 在上述（4)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (2)同样地制作具有膜厚150nm的经过 图案加工的ΙΤ0的玻璃基板。
[0270] (6)透明绝缘膜的制作 在上述（5 )中得到的玻璃基板上，与上述（vii)(3 )同样地制作具有透明绝缘膜的玻璃 基板。
[0271] (7)MAM布线的制作 在上述（6)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (4)同样地制作MAM布线，完成触控面 板基板（图12)。
[0272] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0273](实施例 134) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例133同样地实施了操作。
[0274](实施例 135) (1)白色遮光图案一 1的制作 按照膜厚=10μπκ线宽=300μπι的方式，使用制备例29中得到的负型感光性白色组 合物（W- 29)，与上述（vii)同样地制作具有白色遮光图案的玻璃基板。
[0275] (2)白色遮光图案一 2的制作 在上述（1)中得到的玻璃基板上，按照膜厚=15μπκ线宽=2950μm的方式（内侧端部 与白色遮光图案一 1的中央部的位置一致。），使用制备例104中得到的非感光性白色组合 物（HW- 2)，使用丝网印刷机进行涂布，使用热板将基板在KKTC下预烘3分钟。接着，使 用烘箱将基板在空气中以230Γ固化30分钟，制作具有白色遮光图案的玻璃基板。
[0276] (3)黑色遮光性固化膜的制作 在上述（2)中得到的玻璃基板上，使用制备例51中得到的负型感光性黑色组合物(Bk- 1 )，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案小400μm的图案掩模进行曝光，将显影 液设为〇. 045质量％Κ0Η水溶液，除此以外，与上述（vii) (1)同样地制作黑色遮光性固化 膜。
[0277] (4)透明树脂膜的制作 在上述（3)中得到的玻璃基板上，使用制备例50中得到的负型感光性透明组合物(Cr- 1)，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案大400μm的图案掩模进行曝光，除此以 外，与上述（vii) (3)同样地制作具有透明树脂膜的玻璃基板。
[0278] (5)图案ΙΤ0的制作 在上述（4)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (2)同样地制作具有膜厚150nm的经过 图案加工的ΙΤ0的玻璃基板。
[0279] (6)透明绝缘膜的制作 在上述（5 )中得到的玻璃基板上，与上述（vii)(3 )同样地制作具有透明绝缘膜的玻璃 基板。
[0280] (7)MAM布线的制作 在上述（6)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (4)同样地制作MAM布线，完成触控面 板基板（图13)。
[0281] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0282](实施例136) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例135同样地实施了操作。
[0283](实施例 137) 在（2)透明树脂膜的制作中，使用负型感光性着色组合物（V- 1)来形成颜色调整层， 除此以外，与实施例123同样地实施了操作（图14)。
[0284](实施例 138) 除了代替负型感光性白色组合物（W- 29)而使用负型感光性白色组合物（W- 56)以 外，与实施例137同样地实施了操作。
[0285](实施例139) (1)颜色调整层的制作 使用负型感光性着色组合物（V- 2)，隔着与白色遮光图案相同大小的图案掩模进行 曝光，除此以外，与上述（vii) (3)同样地制作具有颜色调整层的玻璃基板。
[0286] (2)白色遮光图案的制作 在（1)中得到的玻璃基板上，使用制备例29中得到的负型感光性白色组合物（W- 29)，与上述（vii) (1)同样地制作具有白色遮光图案的玻璃基板。
[0287] (3)黑色遮光性固化膜的制作 在（2)中得到的玻璃基板上，使用制备例51中得到的负型感光性黑色组合物（Bk- 1)，将膜厚设为2μm，隔着比白色遮光图案小400μm的图案掩模进行曝光，将显影液设为 0.045质量％Κ0Η水溶液，除此以外，与上述（vii) (1)同样地制作黑色遮光性固化膜。
[0288] (4)图案ΙΤ0的制作 在（3)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (2)同样地制作具有膜厚150nm的经过图案 加工的ΙΤ0的玻璃基板。
[0289] ( 5 )透明绝缘膜的制作 在上述（4)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (3)同样地制作具有透明绝缘膜的玻璃 基板。
[0290] (6)MAM布线的制作 在上述（5)中得到的玻璃基板上，与上述（vii) (4)同样地制作MAM布线，完成触控面 板基板（图15)。
[0291] 对所得的触控面板基板实施了导通试验。另外，对白色固化膜部位的反射色度、0D 值及粘接性实施了评价。
[0292](实施例 140) 除了使用负型感光性白色组合物（W- 56)代替负型感光性白色组合物（W- 29)以外， 与实施例139同样地实施了操作。
[0293] 将实施例107~实施例140的评价结果示于表13中。
[0294][表 13]
[0295] 符号说明 a:白色遮光性固化膜形成后的俯视图b:透明电极形成后的俯视图 c:绝缘膜形成后的俯视图 d:金属布线形成后的俯视图 1 :玻璃基板 2:白色遮光固化膜 2 - 1:白色遮光固化膜(第1层） 2 - 2 :白色遮光固化膜(第2层） 3 :透明电极 4 :透明绝缘膜 5 :布线电极 6 :透明膜 7 :黑色遮光性固化膜 8 :颜色调整层。
[0296] 产业上的可利用性 使本发明的触控面板用负型感光性白色组合物固化而成的固化膜适合用作触控面板 的遮光图案等。
【主权项】
1. 触控面板用负型感光性白色组合物，其含有（A)白色颜料、（B)碱可溶性树脂、（C)多 官能单体及（D)光聚合引发剂。2. 根据权利要求1所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其中，作为所述（B)碱可 溶性树脂，含有（b- 1)硅氧烷树脂。3. 根据权利要求1或2所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其中，作为所述（B) 碱可溶性树脂，含有（b- 2)丙締酸类树脂。4. 根据权利要求1~3中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其还含有 (E) 硫醇化合物。5. 根据权利要求1~4中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其中，作为 所述(A)白色颜料，含有氧化铁。6. 根据权利要求1~5中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其中，作 为所述（C)多官能单体，含有具有下述通式（1)所示结构的化合物和/或具有下述通式（2) 所示结构的化合物，其中，Ri分别独立地表示氨原子、甲基、乙基、丙基或苯基，n表示1~30的整数，7. 根据权利要求1~6中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其中，作为 所述（D)光聚合引发剂，含有酷基氧化麟系光聚合引发剂。8. 根据权利要求1~7中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其还含有 (F) 抗氧化剂。9. 根据权利要求1~8中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其还含有 下述通式（3)所示的（G)硅烷偶联剂，其中，R2分别独立地表示碳原子数1~6的烷基或它们的取代物，1表示0或1，r3表 示碳原子数3~30的3价有机基团，R4分别独立地表示碳原子数1~6的烷基、碳原子数 1~6的烷氧基、苯基或苯氧基、或者它们的取代物。10. 根据权利要求1~9中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其还含有 (H)紫外线吸收剂。11. 根据权利要求1~10中任一项所述的触控面板用负型感光性白色组合物，其还含 有（I)着色剂。12. 触控面板，其具备使权利要求1~11中任一项所述的触控面板用负型感光性白色 组合物固化而成的白色遮光性固化膜图案。13. 触控面板的制造方法，其具备使用权利要求I~11中任一项所述的触控面板用负 型感光性白色组合物来形成白色遮光性固化膜图案的工序。14. 根据权利要求13所述的触控面板的制造方法，其具备多次W上的所述形成白色遮 光性固化膜图案的工序。15. 根据权利要求14所述的触控面板的制造方法，其中，在将所述形成白色遮光性固 化膜图案的工序重复n次时，为第n层的线宽形成得比第n- 1层宽、膜厚比第n- 1层形 成得薄的工序，其中，n为2W上的整数。16. 根据权利要求13或14所述的触控面板的制造方法，其具备至少各1次W上的所述 形成白色遮光性固化膜图案的工序和利用非感光性白色组合物的图案印刷而形成固化膜 的工序。17. 根据权利要求13~16中任一项所述的触控面板的制造方法，其还具备在所述白色 遮光性固化膜图案的上部形成黑色遮光性固化膜的工序。18. 根据权利要求13~17中任一项所述的触控面板的制造方法，其还具备在所述白色 遮光性固化膜图案的上部形成透明膜的工序。19. 根据权利要求13~18中任一项所述的触控面板的制造方法，其还具备在所述白色 遮光性固化膜图案的上部形成颜色调整层的工序。20. 根据权利要求13~19中任一项所述的触控面板的制造方法，其还具备在所述白色 遮光性固化膜图案的下部形成颜色调整层的工序。
【专利摘要】本发明的目的在于提供利用光刻法便可实现厚膜且高分辨率、并且具备较高的反射性及遮光性的白色遮光图案的形成，进而在热处理、药液处理及布线加工等触控面板制造工艺中不易发生黄变、剥离或断线等不良情况的触控面板用负型感光性白色组合物。本发明提供触控面板用负型感光性白色组合物，其含有（A）白色颜料、（B）碱可溶性树脂、（C）多官能单体及（D）光聚合引发剂。
【IPC分类】G03F7/029, G03F7/075, G06F3/041, G06F3/044, G03F7/038, G03F7/027, G03F7/004
【公开号】CN105378615
【申请号】CN201480041963
【发明人】荒木齐, 诹访充史, 三井博子, 冈泽彻
【申请人】东丽株式会社
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2014年7月18日
【公告号】US20160161847, WO2015012228A1