专利名称：300mm立式氧化炉的报警系统的制作方法
技术领域：
本实用新型属于一种硅片加工装置，具体的是一种用于硅片氧化工艺的立式氧化炉 的报警系统。
背景技术：
硅片是一种重要的半导体材料，它的加工工艺，特别是氧化工艺是一种对系统稳定 性要求非常高的工艺。目前国内设计的硅片氧化炉大多是卧式结构的，系统稳定性需要
改进。特别是工艺过程中的报警、安全性报警需要进一步完善。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决上述技术问题，提出一种300mm立式氧化炉的报警系 统，该报警系统设计完善合理，控制集中灵活，保证设备正常安全运行效果好。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的300mra立式氧化炉的报警系统，其 特征在于设有冷却系统水流量报警装置、工艺气体压力报警装置、源温控制与渥液报 警装置、工艺气体泄漏报警装置、内环境压力报警装置、设备安全门互锁报警装置、点 火器火焰检测报警装置；
所述冷却系统水流量报警装置设有流量计组，该流量计组中的流量计分别与立式 氧化炉的石英管法兰、外点火器、石英舟、炉体法兰、工艺门、炉体、PTI冷凝器的水冷 却管连通，并且该所有流量计都集中安装在水盒中，在该水盒底部设置有进行液位检测 的光电传感器，该流量计及光电传感器与可编程控制器PLC进行连接；
所述工艺气休压力报警装置，包括气休压力传感器组，该压力传感器设置在工艺气 体氮、氢、氧和一氧化氮的管路中，设有气路箱，所述气体压力传感器都集中安装在
该气路箱里；气路箱还设置有门开关；所述气休压力传感器及门开关与可编程控制器PLC
连接；
所述源温控制与漏液报警装置，设有源温控制器和流量开关，该源温控制器和流量 开关设置在工艺液体的液源管路上，并设有漏液检测传感器，还设有源温控制器盒，所 述源温控制器、流量开关、检测传感器都集中安装在该控制器盒内，该控制器盒设有门
开关，该门开关及所述源温控制器、检测传感器与可编程控制器PLC连接；
所述工艺气休泄漏报警装置，包括在炉口处设置的HCL检测传感器；在外点火器处设置的H2检测传感器、在源温控制器卜设置的HCL检测传感器、在气路盒内部设置的H2 和N0检测传感器；所述传感器与控制器及可编程控制器PLC连接；
所述内环境压力报警装置，包括控制气路柜排气出口、炉体棑气出口和炉口排气出
口排气压力的压差计组，该压差计组与控制器PLC连接；
所述设备安全门互锁报警装置，包括在后检修门卜.安装的门开关，并设有氧气分析
仪，该门开关及氧气分析仪与控制器PLC连接；
所述外点火器火焰检测报警装置，包括在外点火器处设置的火焰检测器。该火焰检 测器与可编程控制器PLC连接；所述控制器PLC与上位机连接。
所述可编程控制器PLC为一个或多个。
本实用新型设置了大量的报警信息提供装置和信息处理的控制器PLC,以及接收PLC 信息并进行判断和发出报警控制信号的卜，位机，这些组成了完备的报警系统，使设备的 一些故障及时反馈给操作者，方便操作人员査找故障，尽快恢复相应工序的运行，避免 不必要的损失。这个报警系统保证了立式氧化炉在做工艺时的安全可靠性，减少了故障 的发生概率，提高产品的合格率。系统还充分从操作人员的安全性方面考虑，设置了一 些工作环境的检测报警，防止一些有毒或者大量惰性气体对人体产生伤害和使人窒息等 情况的发生。在系统运行过程中还增加了一些问询报警，这些报警对正在运行的炉体系 统不产生影响，主要是为了提醒操作人员炉体某些工序目前的运行状况，提醒工作人员 注意，及时消除隐患。因此，本实用新型具有结构完善，整体性强，报警控制全面，控 制灵活，能充分保障氧化炉正常安全行的优点。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下而结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明；实施例；参见附图，300mm 立式氧化炉的报警系统，设有冷却系统水流量报警装置、工艺气体压力报警装置、源温 控制与漏液报警装置、工艺气体泄漏报警装置、内环境压力报警装置、设备安全门互锁 报警装置、点火器火焰检测报警装置；
所述冷却系统水流量报警装置设有流量计组，该流量计组中的流量计1.2分别与 立式氧化炉的石英管法兰11、外点火器6、石英舟13、炉体法兰14、工艺门15、炉体 16、 PTI冷凝器19的水冷却管连通，并且该所有流量计1,2都集中安装在水盒1中，在 该水盒底部设置有进行液位检测的光电传感器1. l，该流量计及光电传感器与可编程控制器PLC IO进行连接；
所述工艺气体压力报警装置，包括气体压力传感器组，该压力传感器2. 2设置在工 艺气体；氮、氢、氧和一氧化氮的管路中，设有气路箱2，所述气体压力传感器都集中安
装在该气路箱里，气路箱还设置有门开关2.1，所述气体压力传感器及门开关与可编程控
制器PLC IO连接;
所述源温控制与漏液报警装置，设有源温控制器5. 2和流量开关5. 1，该源温控制器 和流量开关设置在工艺液体的液源管路h，并设有漏液检测传感器5， 4，还设有源温控制 器盒5，所述源温控制器、流量开关、检测传感器都集中安装在该控制器盒内，该控制器 盒设有门开关5.3，该门开关及所述源温控制器、检测传感器与可编程控制器PLC 10连 接。
所述丁艺气体泄漏报警装置，包括在炉口处设置的HCL检测传感器8， 1，在外点火器 6处设置的H2检测传感器6. 1、在源温控制器上设置的HCL检测传感器5. 5、在气路盒2 内部设置的氢(H2) 2. 3和氮(N0) 2.4检测传感器；所述传感器与控制器组3及可编程 控制器PLC IO连接。
所述内环境压力报警装置，包括控制气路柜排气出口 7、炉体排气出口 9和炉口排气 出口 8排气压力的压差计组4，该压差计组与控制器PLC连接。
所述设备安全门互锁报警装置，包括在后检修门17卜安装的门开关12，并设有与氧 气分析仪18，该门开关及氧气分析仪与控制器PLC IO连接。
所述外点火器火焰检测报警装置，包括在外点火器6处设置的火焰检测器6. 2。该火 焰检测器与可编程控制器PLC IO连接；所述控制器PLC与上位机连接。
权利要求1、一种300mm立式氧化炉的报警系统，其特征在于设有冷却系统水流量报警装置、工艺气体压力报警装置、源温控制与漏液报警装置、工艺气体泄漏报警装置、内环境压力报警装置、设备安全门互锁报警装置、点火器火焰检测报警装置；所述冷却系统水流量报警装置设有流量计组，该流量计组中的流量计(1.2)分别与立式氧化炉的石英管法兰(11)、外点火器(6)、石英舟(13)、炉体法兰(14)、工艺门(15)、炉体(16)、PTI冷凝器(19)的水冷却管连通，并且该所有流量计(1.2)都集中安装在水盒(1)中，在该水盒底部设置有进行液位检测的光电传感器(1.1)，该流量计及光电传感器与可编程控制器PLC(10)进行连接；所述工艺气体压力报警装置，包括气体压力传感器组，该压力传感器(2.2)设置在工艺气体氮、氢、氧和一氧化氮的管路中，设有气路箱(2)，所述气体压力传感器都集中安装在该气路箱里，气路箱还设置有门开关(2.1)，所述气体压力传感器及门开关与可编程控制器PLC(10)连接；所述源温控制与漏液报警装置，设有源温控制器(5.2)和流量开关(5.1)，该源温控制器和流量开关设置在工艺液体的液源管路上，并设有漏液检测传感器(5.4)，还设有源温控制器盒(5)，所述源温控制器、流量开关、检测传感器都集中安装在该控制器盒内，该控制器盒设有门开关(5.3)，该门开关及所述源温控制器、检测传感器与可编程控制器PLC(10)连接；所述工艺气体泄漏报警装置，包括在炉口处设置的HCL检测传感器(8.1)，在外点火器(6)处设置的H2检测传感器(6.1)、在源温控制器上设置的HCL检测传感器(5.5)、在气路盒(2)内部设置的H2(2.3)和NO(2.4)检测传感器；所述传感器与控制器组(3)及可编程控制器PLC(10)连接；所述内环境压力报警装置，包括控制气路柜排气出口(7)、炉体排气出口(9)、炉口排气出口(8)排气压力的压差计组(4)，该压差计组与控制器PLC连接；所述设备安全门互锁报警装置，包括在后检修门上安装的门开关(12)，和氧气分析仪(18)，该门开关及氧气分析仪与控制器PLC(10)连接；所述外点火器火焰检测报警装置，包括在外点火器(6)处设置的火焰检测器(6.2)。该火焰检测器与可编程控制器PLC(10)连接；所述控制器PLC与上位机连接。
专利摘要本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉的报警系统，其特征在于设有冷却系统水流量报警装置、工艺气体压力报警装置、源温控制与漏液报警装置、工艺气体泄漏报警装置、内环境压力报警装置、设备安全门互锁报警装置、外点火器火焰检测报警装置和可编程控制器PLC、上位机；所述控制器PLC与上位机连接。本实用新型适用于立式氧化炉的运行安全报警，结构完善，控制集中灵活，能保证立式氧化炉的安全正常地运行和操作人员的安全，并提高工艺的质量和效率。
文档编号G08B19/00GK201382681SQ200820234109
公开日2010年1月13日 申请日期2008年12月31日 优先权日2008年12月31日
发明者曾艳丽, 王晓卫, 程朝阳, 米奇.阿伽穆罕默德 申请人:北京七星华创电子股份有限公司