专利名称：磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板、磁盘的制造方法及磁盘的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种安装于硬盘驱动装置的磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃 基板、磁盘的制造方法及磁盘。
背景技术：
作为安装于硬盘驱动装置(HDD装置)的磁记录介质具有磁盘。磁盘通过在由铝 镁合金等构成的金属板上附着NiP膜的基板、玻璃基板、陶瓷基板上层叠磁性层及保护层 而制作。以往，作为磁盘用基板广泛使用铝合金基板，但是，随着近年来的磁盘小型化、薄板 化、高密度记录化，正在使用与铝合金基板相比表面的平坦度及薄板的强度优良的玻璃基 板。这样的磁记录用玻璃基板经由如下工序制造，S卩，坯料加工工序及第一研磨工序 (第一磨削工序)、端部形状工序(形成孔部的去芯工序、在端部(外周端部及内周端部) 形成倒角面的倒角工序(倒角面形成工序))、端面抛光工序(外周端部及内周端部)、第二 研磨工序(第二磨削工序)、主表面抛光工序(第一及第二抛光工序)、化学强化工序等。磁盘的记录密度逐年增加，已开发出单面100GB以上的磁盘。现在，磁盘的两面 都满足所需要的记录密度，但是，若这样增加记录密度，则在不太需要记录密度的电子仪 器中，只要单面就能满足需要的记录密度。若这样用单面满足所需要的记录密度，则由于 在HDD装置侧对一张磁盘将磁头设为一个等可减少部件个数因而对成本有利，且可实现薄 型化。因此，可预想今后对只在单面设置磁性层的磁盘的需要将会增长(例如，参照特开 2001-351229号公报(专利文献1))。现有技术文献专利文献专利文献1 特开2001-351229号公报
发明内容
发明所要解决的课题这样，对于只在单面设置磁性层的磁盘用玻璃基板，省略了对不设置磁性层的主 表面的主表面抛光工序，可进行成本(抛光布、抛光剂(浆料)、加工费用、人工费等)的消 减。特别是通过省略使算术表面粗糙度达到非常低的水平的第二抛光工序，可有效谋求成 本消减。但是，作为磁盘用玻璃基板的玻璃，有时使用含有钠及锂等碱金属的铝硅酸盐玻 璃。这些碱金属有时因环境而在基板表面溶解析出。若这样在基板表面溶解析出碱金属， 则通过目视观察可识别出白色状的污垢(所谓的腐蚀)。虽然这样的污垢可通过洗涤工序 除去，但是，由于成为污染洗涤装置的原因，因而需要尽可能控制。本发明是鉴于这一点而完成的，其目的之一在于，提供一种可得到防止腐蚀的发生，只以单面作为记录面使用的、高记录密度的磁盘用玻璃基板的磁盘用玻璃基板的制造 方法及磁盘用玻璃基板。另外，本发明的另一目的在于提供一种在防止基板构成成分溶解 析出的状态下，可只以单面为记录面使用的高记录密度的磁盘及其该磁盘的制造方法。用于解决课题的手段本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛 光的主表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表 面以达到规定的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到使所述玻璃基 板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘 用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主 表面进行主表面抛光处理。根据该方法，由于在主表面抛光工序中，以达到为防止构成磁盘用玻璃基板的成 分的溶解析出的充分的粗糙度的方式进行主表面抛光处理，因而可防止基板构成成分从不 作为磁记录面使用的主表面溶解析出，由此可抑制在不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛 光的主表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表 面，以达到为了进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以 达到使所述玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为 防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表 面进行主表面抛光处理。根据该方法，在作为磁记录面使用的主表面具有为进行磁记录而要求的算术平均 粗糙度，同时可防止基板构成成分从不作为磁记录面使用的主表面溶解析出，由此可防止 在不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选在所述主表面抛光工序中，对所 述玻璃基板的另一个主表面进行的主表面抛光处理的次数比对所述玻璃基板的一个主表 面进行的主表面抛光处理的次数少。根据该方法，可谋求成本的消减等。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选为防止构成所述磁盘用玻璃基板 的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度为5. Onm以下。另外，若是所述另一 个主表面的粗糙度为5. Onm以下的状态，则也可以在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃 基板的另一个主表面至少不进行最终的主表面抛光处理。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选对所述玻璃基板的一个主表面以 使算术平均粗糙度(Ra)达到0. 30nm以下的方式进行主表面抛光处理。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选还具备通过光学式自动外观检查 识别所述磁盘用玻璃基板的一个主表面的工序。本发明的磁盘用玻璃基板具有一对主表面，其特征在于，一个主表面具有规定的 算术平均粗糙度(Ra)，另一个主表面具有比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、 为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度。根 据该构成，可以在抑制不作为磁记录面使用的面发生腐蚀的状态下，只以单面为磁记录层 使用。本发明的磁盘用玻璃基板具有一对主表面，其特征在于，一个主表面具有为进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)，另一个主表面具有比所述一个主表面的算术平均粗 糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度。根据该 构成，可以在抑制不作为磁记录面使用的面发生腐蚀的状态下，实现可发挥所需要的特性 的单面磁记录层。本发明的磁盘的特征在于，在上述磁盘用玻璃基板的所述一个主表面上至少形成 有磁记录层。优选本发明的磁盘只在上述磁盘用玻璃基板的所述一个主表面上至少形成有磁 记录层，在所述另一个主表面上形成有防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的基 板构成成分溶解析出防止层。根据该构成，由于在磁盘用玻璃基板的主表面上形成有防止构成磁盘用玻璃基板 的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层，因而，在上述磁盘用玻璃基板的另一个 主表面具有为防止构成磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度的情况下，可进一 步阻止主表面的基板构成成分的溶解析出，由此，可进一步抑制在不作为磁记录面使用的 面发生腐蚀。本发明的磁盘是在具有一对主表面的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁记录层而 制成的磁盘，其特征在于，只在所述磁盘用玻璃基板的具有为进行磁记录而要求的算术平 均粗糙度(Ra)的一个主表面上至少形成有磁记录层，在另一个主表面上形成有防止构成 所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层。根据该构成，由于在磁盘用玻璃基板的主表面上形成防止构成所述磁盘用玻璃基 板的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层，因而可阻止主表面的基板构成成分的 溶解析出，由此，可抑制在不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。另外，在该情况下，优选形成 有基板构成成分溶解析出防止层一侧的磁盘用玻璃基板的主表面的粗糙度为6nm以下。若 粗糙度在该范围内，则可有效抑制腐蚀的发生。在本发明的磁盘中，优选所述基板构成成分溶解析出防止层的厚度为4nm以上。 通过设为4nm以上，作为基板构成成分溶解析出防止层可得到充分的效果。在本发明的磁盘中，优选所述基板构成成分溶解析出防止层由含有钛单体的钛合 金构成。在本发明的磁盘中，优选在所述基板构成成分溶解析出防止层上形成有磁盘翘曲 防止层。 在本发明的磁盘中，优选在所述基板构成成分溶解析出防止层或磁盘翘曲防止层 上形成有在所述磁盘记录层上形成的保护层。在本发明的磁盘中，优选形成于所述一个主表面上的层的合计厚度和形成于所述 另一个主表面上的层的合计厚度相同。根据该构成，可达到两主表面的膜应力的均衡，抑制 磁盘翘曲。本发明的磁盘的制造方法为在经由对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主 表面抛光工序而得到的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁记录层的磁盘的制造方法，其特征 在于，只在一个主表面上至少形成有磁记录层。本发明的磁盘的制造方法为在经由对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主 表面抛光工序而得到的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁记录层而制成的磁盘的制造方法，其特征在于，只在一个主表面上至少形成有磁记录层，在另一个主表面上，形成有防止构成 所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层。根据该方法，由于在磁盘用玻璃基板的主表面上形成防止构成磁盘用玻璃基板的 成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层，因而可抑制主表面的基板构成成分的溶解 析出，由此，可抑制在不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。发明效果由于本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法是，在主表面抛光工序中，对玻璃基板 的一个主表面以达到规定算术平均粗糙度的方式进行主表面抛光处理，以达到使玻璃基板 的另一个主表面比一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成磁盘用玻璃基板 的成分从另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对另一个主表面进行主表面抛光 处理，因而，可防止基板构成成分从不作为磁记录面使用的主表面溶解析出，由此可抑制在 不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。因为本发明的磁盘用玻璃基板的一个主表面具有规定的算术平均粗糙度(Ra)，另 一个主表面具有比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用 玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度，因此，可防止基板构成成 分从不作为磁记录面使用的主表面溶解析出，由此可防止在不作为磁记录面使用的面发生 腐蚀。由于本发明的磁盘只在具有一对主表面的磁盘用玻璃基板的具有为进行磁记录 而要求的算术平均精糙度(Ra)的一个主表面上至少形成有磁记录层，在另一个主表面上 形成有防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层，因 而可阻止不作为磁记录面使用的主表面的基板构成成分的溶解析出，由此，可抑制在不作 为磁记录面使用的面发生腐蚀。因为本发明的磁盘的制造方法为只在经由对具有一对主表面的玻璃基板进行抛 光的主表面抛光工序而得到的磁盘用玻璃基板的一个主表面上至少形成有磁记录层，在另 一个主表面上形成有防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出 的基板构成成分溶解析出防止层，因此，可阻止不作为磁记录面使用的主表面的基板构成 成分的溶解析出，由此，可抑制在不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。
图1是表示由铝硅酸盐玻璃构成的玻璃基板的算术平均粗糙度(Ra)和构成玻璃 基板的成分即碱金属的溶解析出量之间的关系的特性图；图2是表示本发明实施方式的磁盘用玻璃基板的制造工序的具体顺序的图；图3是表示光学式自动外观检查的外观检查装置的概略图；图4是表示由铝硅酸盐玻璃构成的玻璃基板的基板构成成分溶解析出防止层厚 度和构成玻璃基板的成分即碱金属的溶解析出量之间的关系的特性图；图5是表示本发明实施方式的磁盘构成的一例的图。
具体实施例方式下面，参照附图详细说明本发明的实施方式。在本实施方式中，作为磁盘用玻璃基板的材料可使用铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼 硅酸盐玻璃等。特别是出于能提供可实施化学强化，且主表面的平坦性及基板强度优良的 磁盘用玻璃基板这一点，可优选使用铝硅酸盐玻璃。磁盘用玻璃基板的制造工序包括坯料加工工序及第一研磨工序、端部形状工序 (形成孔部的去芯工序、在端部(外周端部及/或内周端部)形成倒角面的倒角工序(倒 角面形成工序))、第二研磨工序、端面抛光工序(外周端部及内周端部)、主表面抛光工序 (第一及第二抛光工序)、化学强化工序等工序。下面，对磁盘用玻璃基板的制造工序的各工序进行说明。另外，还对使用了所制作 的磁盘用玻璃基板的磁盘的制造工序进行说明。另外，也可以适宜改变各工序的顺序。(1)坯料加工工序及第一研磨工序首先，在坯料加工工序中，例如可以熔融玻璃为材料，使用压制法及浮法、下拉法、 多级拉伸法、熔融法等公知的制造方法进行制造。这些方法中，若使用压制法则可廉价制造 板状玻璃。在第一研磨工序，对板状玻璃的两主表面进行研磨加工，做成盘状的玻璃基材。该 研磨加工可通过利用行星齿轮机构的双面研磨装置，使用氧化铝系游离磨粒进行。具体而 言，使研磨平台从上下按压到板状玻璃的两面，将含有游离磨粒的磨削液供给到板状玻璃 的主表面上，使它们相对移动来进行研磨加工。通过该研磨加工，可得到具有平坦的主表面 的玻璃基板。(2)端部形状工序(形成孔部的去芯工序、在端部(外周端部及内周端部)形成倒 角面的倒角工序(倒角面形成工序))在去芯工序中，例如，使用圆筒状的金刚石钻头在该玻璃基板的中心部形成内孔， 做成环状的玻璃基板。在倒角工序中，通过金刚石砂轮对内周端面及外周端面进行磨削，实 施规定的倒角加工。(3)第二研磨工序在第二研磨工序中，对得到的玻璃基板的两主表面与第一研磨工序同样进行第二 研磨加工。通过进行该第二研磨工序，去除在前面工序形成于主表面的微细凹凸形状/表 面损伤 伤痕等，且通过使表面粗糙度比第一研磨更低，使得可用短时间完成后续的对主表 面的抛光工序。(4)端面抛光工序在端面抛光工序中，通过刷磨方法对玻璃基板的外周端面及内周端面进行镜面抛 光。此时，作为抛光磨粒可使用例如含有氧化铈磨粒的浆料(游离磨粒)。通过该端面抛光 工序，因进行在玻璃基板的端面的污染·损伤·伤痕的去除，而成为可防止发生作为钠及钾 那样的腐蚀原因的离子析出的状态。(5)主表面抛光工序(第一抛光工序)作为主表面抛光工序，首先实施第一抛光工序。第一抛光工序是以去除因上述的 两级研磨工序残留于主表面的伤痕及变形以及用于在最终抛光工序中的表面粗糙度形成 的前阶段粗糙度调整为主要目的的工序。在该第一抛光工序中，通过具有行星齿轮机构的双面抛光装置，使用硬质树脂抛光具进行主表面的抛光。作为抛光剂可使用氧化铈磨粒。在该第一抛光工序中，为防止构成玻璃基板的成分(例如碱金属)从玻璃基板的 磁记录面的相反侧的面(不设置磁记录层的面)溶解析出而以达到充分的粗糙度的方式进 行抛光处理。本发明人注意到玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)和构成玻璃基板的成分 的溶解析出之间的关系。图1是表示由铝硅酸盐玻璃构成的玻璃基板的算术平均粗糙度(Ra) 和构成玻璃基板的成分即碱金属的溶解析出量之间的关系的特性图。在此，例如可使用原子 力显微镜，以256 X 256像素的分辨率测定2 μ mX 2 μ m角的测定区域而求出算术平均粗糙度。 另外，该碱金属的溶解析出量表示将玻璃基板在80°C、80% RH环境下暴露7天进行腐蚀试验 时的溶解析出量。另外，计数是用光学显微镜(X200倍率)按腐蚀试验后的玻璃基板每单位 面积(约200μπιΧ300μπι的区域)的亮点数。该“亮点”是在高温高湿环境下碱扩散加速， 扩散到玻璃基板表面的碱成分而引起的。因此，该亮点数越多表明耐腐蚀性越差。由图1得知，当算术平均粗糙度(Ra)提高到一定程度时，则耐腐蚀性下降。因此， 为防止构成玻璃基板的成分的溶解析出而存在充分的粗糙度。本发明人基于该认识，发现 在只以单面作为记录面使用的磁盘用玻璃基板中，还必须对不作为记录面使用的面以达到 一定程度的算术平均粗糙度的方式实施抛光处理，以至于完成了本发明。S卩，本发明的要点在于，在主表面抛光工序，对玻璃基板的一个主表面以达到规定 的算术平均粗糙度的方式进行主表面抛光处理，以达到使玻璃基板的另一个主表面比一个 主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成磁盘用玻璃基板的成分从另一个主表面 溶解析出的充分的粗糙度的方式对另一个主表面进行主表面抛光处理，由此，来抑制在只 以单面为磁记录面使用的磁盘用玻璃基板的不作为记录面使用的面发生腐蚀。因此，在第一抛光工序中，以至少使磁记录面的相反侧的面的算术平均粗糙度达 到用于防止构成磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度的方式，对主表面进行抛 光处理。另外，作为用于防止构成磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度例如为 5. Onm以下。这样，通过对磁记录面的相反侧的面以使其算术平均粗糙度达到用于防止构成 磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度的方式实施抛光处理，可抑制在只以单面 作为记录面使用的高记录密度的磁盘用玻璃基板的不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。(6)主表面抛光工序(最终抛光工序)然后，作为最终抛光工序，实施第二抛光工序。第二抛光工序是以只将两主表面中 作为记录面的面精加工成镜面状为目的的工序。在该第二抛光工序中，通过具有行星齿轮 机构的双面抛光装置使用软质发泡树脂抛光具进行主表面的镜面抛光。作为浆料，可使用 比在第一抛光工序中使用的氧化铈磨粒细的氧化铈磨粒或胶态硅石等。在本发明的方法中，优选只对用作磁记录面的主表面进行最终抛光处理。即，如图 2所示，对用作磁记录面的主表面(Α面)进行最终抛光处理，对不用作磁记录面的主表面 (B面)不进行最终抛光处理。因此，这样得到的磁盘用玻璃基板的A面具有规定的算术平 均粗糙度(Ra)，B面比A面的算术平均粗糙度粗糙，具有足够用于防止构成玻璃基板的成 分从B面溶解析出的粗糙度。该规定粗糙度是指例如为进行磁记录而要求的算术平均粗糙 度。另外，为进行磁记录而要求的算术平均粗糙度可根据磁记录层的记录密度来确定。为了对A面进行最终抛光处理，对B面不进行最终抛光处理。例如在对不作为磁记录面使用的主表面进行遮蔽的状态下进行最终抛光处理。通过这样操作，可只对一个主 表面进行需要成本的最终抛光处理，防止基板成分在不作为磁记录面使用的面溶解析出， 从而可抑制腐蚀的发生，可谋求成本消减。由此，可以使对磁盘用玻璃基板的不用作磁记录层的主表面进行的主表面抛光处 理的次数少于对磁盘用玻璃基板的用作磁记录层的主表面进行的主表面抛光处理的次数。 因此，使磁盘用玻璃基板的不用作磁记录层的主表面的算术平均粗糙度比用作磁记录层的 主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙。另外，在该最终抛光工序中，优选以使磁盘用玻璃基 板的用作磁记录层的主表面的算术平均粗糙度(Ra)达到0. 30nm以下的方式对其进行主表 面抛光处理。另外，在图2中，说明了不对B面进行最终抛光处理的情况，但是，在本发明中，例 如在B面不是足够用于防止构成玻璃基板的成分溶解析出的粗糙度的情况下，也可以对B 面进行最终抛光处理。另外，在上述说明中，说明了只是不对B面进行最终抛光处理的情 况，但是，本发明不限于此，在B面为足够用于防止构成玻璃基板的成分溶解析出的粗糙度 的情况下，也可以对B面不进行第一抛光处理及最终抛光处理的任一项。(7)化学强化工序在化学强化工序中，对完成了上述的研磨工序及抛光工序的玻璃基板实施化学强 化。作为用于化学强化的化学强化液，例如可使用硝酸钾(60% )和硝酸钠(40% )的混合 溶液等。通过将化学强化液加热到300°C 400°C，将完成洗涤的玻璃基板预热到200°C 300°C，将其在化学强化液中浸渍3小时 4小时来进行化学强化。在该浸渍时，为了对玻 璃基板的表面整体进行化学强化，优选在使多个玻璃基板以端面保持的方式，收纳于保持 架中的状态下进行。这样，通过在化学强化溶液中进行浸渍处理，将玻璃基板表层的锂离子及钠离子 分别置换为化学强化溶液中离子半径相对较大的钠离子及钾离子，使玻璃基板得到强化。这样，根据本发明，在主表面抛光工序中，由于对磁盘用玻璃基板的一个主表面以 达到规定的算术平均粗糙度的方式进行主表面抛光处理，以达到使磁盘用玻璃基板的另一 个主表面比一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成磁盘用玻璃基板的成分 从另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对另一个主表面进行主表面抛光处理，因 而，可防止基板构成成分从不用作磁记录面使用的主表面溶解析出，由此，可抑制在不用作 磁记录面的面发生腐蚀。(8)磁盘制造工序(记录层等形成工序)如图3所示，通过在经上述工序得到的玻璃基板的A面，依次在玻璃基板11的表 面形成附着层12、软磁性层13、非磁性基底层14、垂直磁记录层15、保护层16及润滑层17， 制造垂直磁记录盘。作为构成附着层12的材料，可列举Cr合金等。作为构成软磁性层13 的材料，可列举CoTa^ 基合金等。作为非磁性基底层14，可列举颗粒状非磁性层等。作为 垂直磁记录层15，可列举颗粒状非磁性层等。作为构成保护层16的材料，可列举氢化碳等。 作为构成润滑层17的材料，可列举氟树脂等。例如，更具体地说，这些记录层等是使用串联 式溅射装置，在玻璃基板上依次形成CrTi附着层、CoTaZr/Ru/CoTaZr软磁性层、CoCrSiO2 非磁性颗粒状基底层、CoCrPt-SiO2* TW2颗粒状磁性层、氢化碳保护层，再通过浸渍法形成 全氟聚醚润滑层。
在该记录层等形成工序中，优选在用作磁记录层的主表面上至少形成磁记录层， 在不用作磁记录层的主表面上形成防止构成磁盘用基板的成分从该主表面溶解析出的基 板构成成分溶解析出防止层(缓冲层)。通过在B面形成缓冲层，可进一步抑制不用作磁记 录面的主表面的基板构成成分的溶解析出，由此可进一步抑制在不作为磁记录面使用的面 发生腐蚀。作为该缓冲层的材料，只要是可防止构成磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的材 料就无特别限制，但是，从可减薄层厚的观点、与玻璃基板的附着性好的观点、成本低的观 点等出发，优选含有钛单体的钛合金膜、含有铬单体的铬合金膜，特别优选CrTi膜。另外，在上述说明中，示出了将磁盘用玻璃基板的B面做成足够用于防止构成磁 盘用玻璃基板的成分溶解析出的粗糙度，具体而言是做成5nm以下的构成，但是，在B面设 置缓冲层的情况下，不限于此。这是因为通过在B面形成缓冲层，可抑制该成分的溶解析 出。例如，即使磁盘用玻璃基板B面的粗糙度具体而言是在超过5nm而不足6nm的范围，通 过在B面形成缓冲层，也可抑制该成分的溶解析出至在组装有磁盘用玻璃基板的HDD装置 的使用中不存在问题的程度。本发明人注意到缓冲层的厚度和构成玻璃基板的成分的溶解析出之间的关系。图 4是表示形成于由含有铝硅酸盐玻璃的多成分系玻璃构成的玻璃基板上的缓冲层的厚度和 构成玻璃基板的成分即碱金属的溶解析出量之间的关系的特性图。另外，关于该碱金属的 溶解析出量，是将磁盘在65°C、90% RH环境下暴露5天，将该磁盘组装在HDD装置中实施查 找试验(4000万次查找，计算其间的读出/写入错误(R/W错误))，将该计数值作为碱金属 溶解析出量。另外，B面的粗糙度为6nm。即，在高温高湿环境下，促进腐蚀，由于磁盘旋转 使从不作为磁记录层使用的面(B面)产生的腐蚀生成物飞散，在用作磁记录层的面(A面) 的查找试验中该飞散物附着于磁头上，诱发R/W错误。因此，该计数值越大则碱金属溶解析 出量越大(耐腐蚀性差)。另外，所谓多成分系玻璃是指除形成玻璃主骨架的Si之外为改 善玻璃的熔融特性及其它特性而添加其它成分的玻璃，除上述铝硅酸盐玻璃之外还有许多 玻璃。其中，特别是作为磁盘用玻璃基板，特别优选铝硅酸盐玻璃、硼铝硅酸盐玻璃及钠钙 玻璃。由图4得知，若缓冲层的厚度薄到一定程度，则耐腐蚀性下降。因此，为防止构成 玻璃基板的成分的溶解析出要有足够的缓冲层厚度。本发明人基于该认识发现，为了阻止 基板构成成分的溶解析出，必须在磁盘用玻璃基板的不用作磁记录面的面形成一定程度厚 度的缓冲层，以至于完成了本发明。S卩，本发明的要点在于，通过在一个主表面上至少形成磁记录层，在另一个主表面 上形成防止构成磁盘用玻璃基板的成分从该另一个主表面溶解析出的基板构成成分溶解 析出防止层，可阻止不用作磁记录面的主表面的基板构成成分的溶解析出，抑制在不用作 磁记录面的面发生腐蚀。如图3所示，在本发明中，在磁盘用玻璃基板的不用作磁记录层的面(在图3中为 下面)上，至少形成基板构成成分溶解析出防止层即缓冲层18。根据如图4所示，优选该缓 冲层18的厚度为4nm以上。另外，作为构成缓冲层18的材料，可列举Ti、Cr、碳等。另外，还认为若在用作磁记录层的主表面(A面)形成磁记录层等，在不用作磁记 录层的主表面(B面)不形成层，则打破A面和B面之间的膜应力的平衡而造成磁盘的翘曲。 如图3所示，考虑到这样的情况，优选在缓冲层18上形成防止磁盘翘曲层19。作为构成防止磁盘翘曲层19的材料，可列举构成形成于A面的层的材料，例如Cr合金等。该情况下， 优选形成于A面上的层的合计厚度和形成于B面上的层的合计厚度相同。因此，为使两主 表面上的层的合计厚度相同，希望考虑形成于A面上的层的构成及厚度，适宜确定防止磁 盘翘曲层19的厚度。这样，通过在缓冲层18上设置防止磁盘翘曲层19，可更有效阻止基板 构成成分的溶解析出，可防止磁盘翘曲。另外，也可以根据需要，在缓冲层18或者防止磁盘 翘曲层19上形成有在A面上形成的保护层及润滑层。在此，说明对所制造的磁盘用玻璃基板识别用作磁记录面的主表面(A面)，在该 主表面上形成磁记录层等来制造磁盘的情况。所制造的磁盘用玻璃基板具备用作磁记录面的主表面(A面)、和不用作磁记录 面的主表面(B面)。因此，考虑到磁盘制造工序，为了准确无误地在A面形成磁记录层等， 必须识别所制造的磁盘用玻璃基板的A面。由于玻璃基板为透明体，而且B面也具有规定 水平的算术平均粗糙度，因而很难通过目视高精度识别A面。因此，例如使用如图5所示的 光学式自动外观检查(Α0Ι Automated Optical Inspection)的外观检查装置2高精度识 别A面。图5所示的外观检查装置2具备两个缺陷检测探针用激光器21a、21b、和分别检 测激光的大致全方向的散射光的四个检测器2 22d。两个缺陷检测探针用激光器21a、 21b使激光输出方向相同并分开配置。缺陷检测探针用激光器21a输出测定用激光，缺陷检 测探针用激光器21b输出参照用激光。检测器22a、22b、22c配置于可检测缺陷检测探针用 激光器21a的激光照射位置的衍射 散射光的位置，分别检测来自磁盘用玻璃基板10的衍 射 散射光，获得散射光强度信息。另外，检测器22b以检测被配置于检测器22c的前段的 分光器23分割后的一方的光的方式配置。另外，检测器22d配置于可检测缺陷检测探针用 激光器21b的激光照射位置的衍射 散射光的位置，检测作为磁盘用玻璃基板10的基准的 衍射·散射光，获得参照散射光强度信息。根据这样得到的散射光强度信息及参照散射光 强度信息判定算术平均粗糙度的大小。即，由于算术平均粗糙度大的主表面(B面)散射光 强度相对较大，算术平均粗糙度小的主表面(A面)散射光强度相对较小，因而在B面散射 光强度和参照散射光强度之间的差值相对较大，在A面散射光强度和参照散射光强度之间 的差值相对较小。使用另外制作的样品调查算术平均粗糙度(Ra)和散射光强度之间的关系。其结 果如表1所示。根据这样的关系，可通过AOI识别A面及B面。表 权利要求
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主 表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表面以达 到规定的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到使所述玻璃基板的另 一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃 基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进 行主表面抛光处理。
2.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主 表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表面，以 达到为了进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到 使所述玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止 构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进 行主表面抛光处理。
3.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述主表面抛光 工序中，对所述玻璃基板的另一个主表面进行的主表面抛光处理的次数比对所述玻璃基板 的一个主表面进行的主表面抛光处理的次数少。
4.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，为防止构成所述磁 盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度为5. Onm以下。
5.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，对所述玻璃基板的 一个主表面以使算术平均粗糙度(Ra)达到0. 30nm以下的方式进行主表面抛光处理。
6.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，还具备通过光学式 自动外观检查识别所述玻璃基板的一个主表面的工序。
7.—种磁盘用玻璃基板，具有一对主表面，其特征在于，一个主表面具有规定的算术平 均粗糙度(Ra)，另一个主表面具有比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止 构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度。
8.—种磁盘用玻璃基板，具有一对主表面，其特征在于，一个主表面具有为进行磁记 录而要求的算术平均粗糙度(Ra)，另一个主表面具有比所述一个主表面的算术平均粗糙度 (Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分的溶解析出的充分的粗糙度。
9.一种磁盘，其特征在于，在权利要求7或者8所述的磁盘用玻璃基板的所述一个主表 面上至少形成有磁记录层。
10.一种磁盘，其特征在于，在权利要求7或者8所述的磁盘用玻璃基板的所述另一个 主表面上形成有防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出 防止层。
11.一种磁盘，在具有一对主表面的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁记录层，其特征在于，只在所述磁盘用玻璃基板的具有为进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)的一个 主表面上至少形成有所述磁记录层，在另一个主表面上形成有防止构成所述磁盘用玻璃基 板的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层。
12.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，所述基板构成成分溶解析出防止层的厚度 为4nm以上。
13.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，所述基板构成成分溶解析出防止层由含有 钛单体的钛合金构成。
14.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，在所述基板构成成分溶解析出防止层上形 成有磁盘翘曲防止层。
15.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，在所述基板构成成分溶解析出防止层上形 成有在所述磁记录层上形成的保护层。
16.权利要求14所述的磁盘，其特征在于，在所述磁盘翘曲防止层上形成有在所述磁 记录层上形成的保护层。
17.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，形成于所述一个主表面上的层的合计厚度 和形成于所述另一个主表面上的层的合计厚度相同。
18.—种磁盘的制造方法，其是在权利要求7或者8所述的磁盘用玻璃基板上至少形成 有磁记录层而制成的磁盘的制造方法，其特征在于，只在一个主表面上至少形成磁记录层。
19.一种磁盘的制造方法，其是在经由对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主表 面抛光工序而得到的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁记录层的磁盘的制造方法，其特征在 于，只在所述磁盘用玻璃基板的一个主表面上至少形成有磁记录层，在另一个主表面上，形 成有防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的基板构成成分 溶解析出防止层。
20.权利要求19所述的磁盘的制造方法，其特征在于，对所述磁盘用玻璃基板的另一 个主表面至少不进行最终的主表面抛光处理。
全文摘要
本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，在主表面抛光工序中，对玻璃基板的一个主表面以达到规定的算术平均粗糙度的方式进行主表面抛光处理，以达到使玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进行主表面抛光处理。
文档编号G11B5/73GK102150209SQ200980135240
公开日2011年8月10日 申请日期2009年9月2日 优先权日2008年9月10日
发明者友永忠, 西森贤一 申请人:Hoya株式会社, Hoya玻璃磁盘(泰国)公司