磁盘用玻璃基板的制造方法

专利名称：磁盘用玻璃基板的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种磁盘用玻璃基板的制造方法。
背景技术：
随着信息化技术的提高，信息记录技术、特别是磁记录技术正在显著进步。在用于磁记录介质之一的HDD (硬盘驱动器)等的磁盘中，正在持续进行快速的小型化、薄板化及记录密度的增加和存取速度的高速化。在HDD中，使具有磁性层的磁盘在圆盘状的基板上高速旋转，使磁头在该磁盘上浮起飞行，与此同时进行记录和再生。由于伴随存取速度的高速化，磁盘的旋转速度也变快，因而对磁盘来说要求更高的基板强度。另外，伴随记录密度的增加，磁头也从薄膜磁头向磁阻磁头(MR磁头)、巨磁阻 磁头(GMR磁头)发展，进而，通过导入DHl (动态飞行高度)控制机构，磁头自磁盘的浮起量(磁头和磁盘的间隙之中最窄的距离)变窄至2nm左右。因此，当磁盘面上具有凹凸形状时，有时会出现磁头碰撞所致的破碎损害、和/或由空气的绝热压缩或接触导致加热而出现读取错误的过热(thermal asperity)损害。为了抑制这种对磁头产生的损害,将磁盘的主表面预先加工成极平滑的表面变得极为重要。因而目前，作为磁盘用的基板，逐渐使用玻璃基板代替以往的铝基板。这是因为，与由软质材料的金属构成的铝基板相比，由硬质材料的玻璃构成的玻璃基板在基板表面的平坦性方面优异。另外，玻璃基板比铝基板硬，因此可以抑制高速旋转时基板的变形或错舌L。由此可以降低与磁头碰撞的风险。另一方面，即使在使用玻璃基板的情况下，由于在提高记录密度的同时磁头的浮起量下降，因此，磁盘用玻璃基板的表面的平滑化和颗粒(污染物)的除去变得更加重要。特别是在新一代的比特图形化介质、分离磁道介质中，由于磁性粒子被分别区分，因此可以预料，玻璃基板表面的微细凹凸和/或附着在玻璃基板表面的微细颗粒的存在变严重。因此，为了提高玻璃基板的平滑化而除去玻璃基板表面的颗粒，对玻璃基板进行抛光工序和/或超声波处理工序(例如，参照专利文献I)。现有专利文献专利文献专利文献I :日本特开2004-335081号公报

发明内容
发明要解决的课题近年来，为了提高玻璃基板表面的平滑化，玻璃基板的抛光中所使用的抛光磨粒的粒径正在不断缩小。另一方面，为了实现浮起量的进一步下降，逐渐发展成就连磁盘表面上极微小的凸出形状也不被允许的清况。因此，玻璃基板的抛光中所使用的微小的抛光磨粒的除去成为重要的课题。可是，在以除去玻璃基板表面的颗粒为目的而在抛光工序后进行的超声波洗涤工序中，为了确定对对象粒径适用的频带，必须随着洗涤对象的粒径缩小而提高频率。例如，在专利文献I中，使用0. 8iim的抛光磨粒进行抛光后，实施50KHZ的超声波洗涤。因此，一般认为，在抛光磨粒变得更小的情况下，必须更高地设定超声波的频率。但是，已知超声波频率变高时，无法充分除去抛光磨粒。推测这是因为，由于超声波频率变高，导致洗涤对象粒径以外的微粒的运动也变得活跃，碰撞而凝集成大的粒子。例如已知，通过照射较高频率(120 950KHz)的超声波，粒径20nm左右的颗粒未被除去而凝集。另一方面，存在如下问题对于粒径20nm的颗粒，即使照射较低频率(例如SOKHz)的超声波也无法顺利地除去。另外，近年来，为了进一步提高记录密度，开发了在磁头上搭载Dra (动态飞行高度)技术的HDD。利用该技术可以使磁头元件部比以往更加接近介质表面而减小磁性间隔。另一方面，已知，在使用DHl磁头的情况下，必须使磁盘的主表面比以往更平滑且洁净至异物等缺陷更少。认为这是由于对Dra磁头而言，并不是降低磁头主体的浮起量来接近磁盘表面，而是仅突出磁头元件部周边来接近介质表面，因此，即使是极少的表面凹凸的紊乱或与异物的接触，磁头元件部也会受到影响。例如，为了实现每张2. 5英寸的磁盘具有500GB以上的记录密度，要求将突出的磁头元件部和磁盘之间的间隔优选设定为Inm以下。
本发明正是鉴于上述课题而完成的，其目的之一在于，即使在玻璃基板的抛光工序中使用粒径较小的抛光磨粒、且在抛光工序后的超声波洗涤工序中以高频率进行超声波处理的情况下，也能有效除去玻璃基板表面的颗粒。解决课题的手段本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，包括对玻璃基板使用具有规定粒径的抛光磨粒进行抛光的抛光工序、和在抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序，超声波洗涤工序为在以使具有规定粒径的颗粒凝集的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子后，以将二次粒子作为洗涤对象的频率进行第二超声波洗涤。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，包括对玻璃基板进行抛光的抛光工序、和在抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序；在抛光工序中使用粒径为IOnm 30nm的抛光磨粒，在超声波洗涤工序中，以300KHz lOOOKHz的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子后，以30KHz IOOKHz的频率进行第二超声波洗涤。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选通过进行第一超声波洗涤，形成粒径为IOOOnm 3000nm的二次粒子。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，上述抛光工序优选为对玻璃基板进行的多个抛光工序中的最终的抛光工序。发明效果在对玻璃基板进行抛光后而进行的超声波洗涤工序中，以较高频率进行第一超声波洗涤后，以较低频率进行第二超声波洗涤，由此，即使在抛光工序中使用粒径较小的抛光磨粒，也能抑制由抛光磨粒等弓I起的凝集颗粒残留，从而有效除去玻璃基板表面的颗粒。
具体实施例方式本发明人以更进一步提高玻璃基板表面的平滑化为目的，并且以缩小抛光工序中使用的抛光磨粒的粒径、同时除去微细的颗粒为目的，在抛光后的超声波洗涤工序中采用较高频率进行超声波洗涤，结果面临如下以往不会成为问题的问题来自于抛光磨粒的颗粒(粒径IOnm 30nm)凝集而残留在玻璃基板表面。S卩，已知，即使伴随抛光磨粒的微小化而提高超声波频率，异物也会残留在玻璃基板表面。对该异物进行了分析，结果为微小的抛光磨粒的凝集体。由此认为是由于通过高频率的超声波，以异物为核心等，抛光磨粒凝集变大，因此，最初的高频率对于洗涤去除来说变得不适合。因此，为了解决该问题进行了潜心研究，结果发现，在抛光工序后实施的超声波洗涤工序中，在以较高频率(300KHz lOOOKHz)照射超声波使来自抛光磨粒的颗粒凝集后，通过切换成较低频率(30KHz IOOKHz)照射超声波，可以有效除去玻璃基板表面的颗粒，并且不会在玻璃基板上产生由超声波引起的凹陷。以下，具体说明本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法。本实施方式所示的磁盘用玻璃基板的制造方法至少包括对玻璃基板使用具有规定粒径的抛光磨粒进行抛光的抛光工序、和在抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序，超声波洗涤工序为在以使具有规定粒径的颗粒凝集的频率进行第一超声 波洗涤而形成二次粒子后，以将二次粒子作为洗涤对象且不会在玻璃基板表面产生凹陷的频率进行第二超声波洗涤。例如，在抛光工序中使用粒径为IOnm 30nm的抛光磨粒的情况下，可以以300KHz lOOOKHz的频率进行第一超声波洗涤，以30KHz IOOKHz的频率进行第二超声波洗涤。在上述超声波洗涤工序中，使用相对较高的频率(300KHZ lOOOKHz)的第一超声波洗涤的目的是，除去作为洗涤对象的粒径的颗粒，同时使洗涤对象外的具有IOnm 30nm粒径的颗粒(抛光磨粒等)凝集而形成二次粒子(凝集物)，使用相对较低的频率(30KHz IOOKHz)的第二超声波处理的目的是，除去第一超声波处理中凝集的二次粒子但不会在玻璃基板上产生凹陷。总而言之，对于抛光后的玻璃基板，首先，通过以较高频率进行超声波处理，除去附着在玻璃基板表面的作为洗涤对象的粒径的颗粒，同时使洗涤对象外的颗粒碰撞而凝集成大的粒子。然后，通过以较低频率进行超声波处理，除去凝集的粒径大的颗粒。另外，此时，即使以较低频率进行超声波处理，也可以在不使大部分一时凝集的颗粒呈分散状态的情况下除去。认为这是由于有机物介于凝集物的界面，导致结合力变强的缘故。认为该有机物来自于伴随抛光磨粒的微小化而添加到浆料中的分散剂和/或再凝集防止剂。予以说明，这些分散剂和/或再凝集防止剂根据浆料的PH值来选择最佳物质添加，因此，例如在酸性浆料中发挥效果的分散剂在碱性条件下就无法发挥充分的分散效果。第一超声波洗涤的频率设定为可除去附着在玻璃基板表面的作为洗涤对象的粒径的颗粒、且使洗漆对象以外的颗粒(在此，为IOnm 30nm的抛光磨粒等颗粒)凝集的频率即可。例如，作为满足这样的条件的频率，设为300KHz lOOOKHz即可。频率低于300KHz时，粒径为IOnm 30nm的颗粒无法顺利形成二次粒子，频率超过lOOOKHz时，导致形成三次粒子、四次粒子，难以除去。第二超声波洗涤的频率设定为以通过第一超声波洗涤的频率凝集生成的颗粒的粒径作为洗涤对象的频率即可。例如，将第一超声波洗涤的频率设为950KHz时的凝集的颗粒的粒径虽然根据超声波的施加时间的不同而不同，但是为IOOOnm 3000nm,因此,第二超声波洗涤的频率设定为对象粒径为IOOOnm 3000nm的30KHz IOOKHz即可。予以说明，超声波洗涤的频率和作为洗涤对象的颗粒的粒径可以通过使用振幅和声速来表示超声波频带的洗涤对象直径的关系的下述式(I)求得。Sac= (2 v/o ) °-5 (在水中).(I)予以说明，上述式(I)中，Sa。表示声压边界层的厚度，V表示声速，Co表示Hz(频率)。第二超声波洗涤的频率数低于30KHz时，虽然能除去颗粒，但对玻璃基板表面赋予较强的冲击，有时导致表面粗糙度变差，频率数超过IOOKHz时，难以除去颗粒。
另外，第一超声波洗涤和第二超声波洗涤既可以划分在2个不同的洗涤槽中进行，也可以在I个洗涤槽中通过中途切换频率来连续进行。从第一超声波洗涤的频率切换至第二超声波洗涤的频率的时机，优选预先测定通过照射第一超声波洗涤中使用的频率而形成二次粒子的时间等来反馈其条件。由此，通过第一超声波洗涤，可以在充分形成作为第二超声波洗涤对象的粒径的二次粒子后，进行第二超声波洗涤。这样，对抛光后的玻璃基板以不同的频率连续进行超声波洗涤，使来自抛光磨粒的颗粒凝集而形成二次粒子，然后除去该二次粒子，由此，即使在抛光工序中使用微小的抛光磨粒(粒径IOnm 30nm)、且在抛光工序后的超声波洗涤工序中以较高频率(300KHz lOOOKHz)进行超声波处理时，也可有效除去玻璃基板表面的颗粒。另外，第一超声波洗涤和第二超声波洗涤均优选在调节成碱性的液体中进行。根据本发明人的研究，在酸性条件下，难以使微小的抛光磨粒凝集而得到二次粒子。予以说明，在碱性条件下实施第一超声波洗涤、在酸性条件下实施第二超声波洗涤时，由第一超声波洗涤生成的二次粒子在第二超声波洗涤时分解，因此，与将第一超声波洗涤及第二超声波洗涤均设为碱性条件的情况相比，无法顺利地除去。理想的是，优选将第一超声波洗涤和第二超声波洗涤的洗涤液的PH设定为12 14的范围，更优选将pH设定为13 14的范围。当然，优选调节至不使基板的表面粗糙度变差的范围。予以说明，可以认为，本实施方式的磁盘用玻璃基板的制造方法包括使附着在玻璃基板表面的抛光磨粒凝集而形成二次粒子的凝集处理和除去该二次粒子的洗涤处理的组合工序。具体来说，进行利用含有抛光磨粒的浆料抛光玻璃基板表面的抛光处理后，使附着在玻璃基板表面的抛光磨粒凝集而形成二次粒子(凝集处理)，然后，通过洗涤除去二次粒子(洗涤处理)。凝集处理可以为在调成碱性的液体中对上述抛光磨粒施加超声波的处理。洗涤处理可以使用擦洗洗涤等，但优选使用超声波洗涤。另外，抛光工序优选使用含有硅氧化物磨粒的浆料。若为硅氧化物，则可以粒径比较一致地得到中间粒径为IOnm 30nm的极微小的粒径的磨粒，且由于其主成分与抛光对象的玻璃基板相同，因此硬度之间的差异小，因此，最适于将玻璃基板表面抛光成极其平滑。另外，抛光工序优选在酸性条件下使用含有硅氧化物磨粒的浆料。可利用酸的蚀刻效果等来提高抛光速率。以下，对上述包括超声波洗涤工序的磁盘用玻璃基板的制造工序进行详细说明。予以说明，各工序的顺序并不限定于以下的记载，可适宜改换。
(I)坯料加工工序在坯料加工工序中，可以使用板状玻璃。作为玻璃，可以使用铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等。特别是从可提供主表面平坦性和基板强度优异的磁盘用玻璃基板的角度考虑，优选使用铝硅酸盐玻璃。板状玻璃可以以这些玻璃为材料，使用压制法和/或浮法、下拉法、再拉伸(redraw)法、熔融法等公知的制造方法制造。在这些方法中，使用压制法时，可以廉价地制造板状玻璃。(2)第一磨削(研磨)工序在第一磨削工序中，对盘状玻璃基板的主表面进行磨削加工，调整玻璃基板的形状。第一磨削工序可以通过利用行星齿轮机构的双面磨削装置，使用氧化铝系游离磨粒来进行。具体来说，在盘状玻璃基板的两面从上下按压研磨平板，将含有游离磨粒的磨削液供给到玻璃基板的主表面上，使它们相对移动来进行磨削加工。通过该磨削加工，可以得到具有平坦主表面的玻璃基板。(3)形状加工工序(形成孔部的去芯工序、在端部(外周端部和内周端部)形成倒角面的倒角工序(倒角面形成工序))·在去芯工序中，例如，可以使用圆筒状的金刚钻在该盘状的玻璃基板的中心部形成内孔，制成圆环状的玻璃基板。在倒角工序中，利用金刚石磨石对内周端面和外周端面进行磨削，对玻璃基板实施规定的倒角加工。(4)第二磨削工序在第二磨削工序中，对所得玻璃基板的两主表面实施第二磨削加工。通过进行第二磨削工序，可以除去在前一工序即形状加工工序中形成于玻璃基板主表面的微细的凹凸形状，可以在短时间内完成后续的对主表面的抛光工序。第二磨削工序可以通过利用行星齿轮机构的双面磨削装置，使用由金刚石片构成的固定磨粒的抛光垫来进行磨削。金刚石片具备金刚石颗粒作为磨削磨粒即可，例如可以使用在由PET构成的基材上设置有金刚石颗粒的金刚石片。(5)端面抛光工序在端面抛光工序中，通过刷磨法对玻璃基板的外周端面和内周端面进行镜面抛光。此时，作为抛光磨粒，例如可以使用含有氧化铈磨粒的浆料。通过该端面抛光工序，玻璃基板的端面成为镜面状态，(6)主表面抛光工序(第一抛光工序)作为主表面抛光工序，首先实施第一抛光工序。第一抛光工序是以除去在上述磨削工序中残留于两主表面的伤痕和/或变形为主要目的的工序。在该第一抛光工序中，通过具有行星齿轮机构的双面抛光装置，使用硬质树脂抛光器进行两主表面的抛光。作为抛光剂，可以使用氧化铈磨粒。将完成了第一抛光工序的玻璃基板用中性洗剂、纯水、IPA等进行清洗。予以说明。作为双面抛光装置，可以在上下侧平板的主表面部贴附使用一对抛光布(硬质树脂抛光器的抛光垫)。在该双面抛光装置中，可以将玻璃基板设置在贴附于上下侧平板的抛光布之间，使上下侧平板中的一者或两者移动，由此对玻璃基板的两主表面进行抛光。(7)化学强化工序
在化学强化工序中，将玻璃基板浸溃在化学强化液中实施化学强化处理。作为用于化学强化处理的化学强化液，例如可以使用硝酸钾(60%)和硝酸钠(40%)的混合溶液等。在化学强化处理中，将化学强化液加热至300°C 40(TC，将玻璃基板预热至20(TC 300°C，在化学强化溶液中浸溃3小时 4小时，由此进行化学强化。在该浸溃时，为了使玻璃基板的两表面整体被化学强化，优选在使多个玻璃基板以保持端面的方式收纳于保持架(holder)中的状态下进行。这样，通过在化学强化溶液中进行浸溃处理，玻璃基板表层的锂离子和钠离子分别置换成化学强化溶液中离子半径相对较大的钠离子和钾离子，使玻璃基板得到强化。另外，经过化学强化处理后的玻璃基板用硫酸清洗后，用纯水、IPA等清洗即可。( 8 )主表面抛光工序(最终抛光工序)作为最终抛光工序，实施第二抛光工序。第二抛光工序是以将两主表面加工成镜面状为目的的工序。在第二抛光工序中，通过具有行星齿轮机构的双面抛光装置，使用软质发泡树脂抛光器进行两主表面的镜面抛光。作为抛光磨粒，可以使用具有比第一抛光工序 中使用的氧化铺磨粒微细的粒径IOnm 30nm的胶体二氧化娃等的衆料。在该最终抛光工序中，可以使用利用行星齿轮机构的双面抛光装置与上述第一抛光工序同样地进行。(9)超声波洗涤工序在最终抛光工序后对玻璃基板实施采用超声波的洗涤工序。超声波洗涤工序是以在最终抛光工序后使用2种以上的超声波频带除去附着在玻璃基板表面的颗粒为目的的工序。在超声波洗涤工序中，将实施了最终抛光工序的玻璃基板浸溃在纯水、KOH水溶液等中后，照射超声波。具体来说，首先，以相对较高的频率(300KHz lOOOKHz)进行第一超声波洗涤而形成二次粒子，接着，通过以相对较低的频率(30KHz IOOKHz)进行第二超声波洗涤，从玻璃基板表面除去包含由第一超声波洗涤凝集成的二次粒子的颗粒。第一超声波洗涤和第二超声波洗涤可以通过在I次的超声波洗涤工序中切换频率来进行。对于从第一超声波洗涤的频率切换至第二超声波洗涤的频率的时间，优选预先规定以较高频率照射超声波时形成的二次粒子的大小(例如IOOOnm 3000nm)和超声波洗涤时间的关系等来反馈其条件。由此，可以在通过第一超声波洗涤充分形成二次粒子后，进行第二超声波洗涤。<磁盘制造工序(记录层等形成工序)>在经由上述工序得到的玻璃基板的主表面上，依次形成例如附着层、软磁性层、非磁性基底层、垂直磁记录层、保护层和润滑层的膜，可以制造垂直磁记录盘。作为构成附着层的材料，可举出Cr合金等。作为构成软磁性层的材料，可举出CoTaZr基合金等。作为非磁性基底层，可举出颗粒非磁性层等。作为垂直磁记录层，可举出颗粒磁性层等。作为构成保护层的材料，可举出氢化碳等。作为构成润滑层的材料，可举出氟树脂等。例如，更具体来说，对于这些记录层等，可以使用串联式溅射装置，在玻璃基板上依次形成CrTi附着层、CoTaZr/Ru/CoTaZr软磁性层、CoCrSiO2非磁性颗粒基底层、CoCrPt-SiO2 *Ti02颗粒磁性层、氢化碳保护膜的膜，进而可以通过浸溃法形成全氟聚醚润滑层的膜。予以说明，也可以使用Ru基底层来代替CoCrSiO2非磁性颗粒基底层。另外，在软磁性层和基底层之间可以追加Niff晶种层。另外，在颗粒磁性层和保护层之间可以追加CoCrPtB磁性层。
以下，说明为了明确本发明效果而进行的实施例和比较例。对实施了第一抛光工序和第二抛光工序(最终抛光工序)的玻璃基板进行超声波洗涤工序后，评价残留在玻璃基板表面的颗粒的尺寸和个数。作为玻璃基板，使用含有SiO2 58重量％ 75重量％、Al2O3 5重量％ 23重量％、1^20 :3重量％ 10重量％4&20:4重量％ 13重量％作为主成分的铝硅酸盐玻璃。予以说明，Li2O的含量也可以为大于0重量％且在7重量％以下。〈主表面抛光工序(第一抛光工序)〉作为主表面抛光工序，首先实施第一抛光工序。在第一抛光工序中，通过具有行星齿轮机构的双面抛光装置，使用硬质树脂抛光器进行主表面的抛光。作为抛光剂，使用含有粒径为0. 2nm 4. 5nm的氧化铺的衆料。将完成了该第一抛光工序的玻璃基板依次浸溃在中性洗剂、纯水、IPA (异丙醇)的 各洗涤槽中进行洗涤。〈主表面抛光工序(最终抛光工序)〉接着，作为主表面抛光工序，实施第二抛光工序。该第二抛光工序以将主表面精加工成镜面状为目的。在第二抛光工序中，通过具有行星齿轮机构的双面抛光装置，使用软质发泡树脂抛光器进行主表面的镜面抛光。作为抛光剂，使用含有比第一抛光工序中使用的氧化铺磨粒更微细的胶体二氧化娃磨粒(平均粒径IOnm 30nm)的衆料。予以说明，在本实施例、比较例中，将上述浆料的pH值设定为2来进行抛光。此时，在上述浆料中加入含有乙酸和乙酸盐的添加剂来进行抛光。这是为了在抛光工序中将浆料的PH值控制为一定。作为上述浆料(抛光液)，使用在超纯水中加入有上述胶体状二氧化硅粒子的混合液，作为添加剂，使用添加有0. 5重量％柠檬酸的添加剂。〈超声波洗涤工序〉将完成了最终抛光工序的玻璃基板浸溃在浓度为2重量％的KOH水溶液中，在表I所示的各条件下进行超声波洗涤工序。然后，依次浸溃在中性洗剂、纯水、纯水、IPA、IPA(蒸汽干燥)的各洗涤槽中进行洗涤，然后，使用光学测定仪对残留在玻璃基板表面的颗粒的个数及基板表面有无裂纹进行评价。(评价结果)评价结果示于表I。
权利要求
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括对玻璃基板使用具有规定粒径的抛光磨粒进行抛光的抛光工序、和在所述抛光工序后对所述玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序， 所述超声波洗涤工序为在以使所述具有规定粒径的颗粒凝集的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子后，以将所述二次粒子作为洗涤对象的频率进行第二超声波洗涤。
2.权利要求I所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述抛光工序中使用粒径为IOnm 30nm的抛光磨粒，在所述超声波洗涤工序中，以300KHz lOOOKHz的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子后，以30KHz IOOKHz的频率进行第二超声波洗涤。
3.权利要求I或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，通过进行所述第一超声波洗涤，形成粒径为IOOOnm 3000nm的所述二次粒子。
4.权利要求I 3任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述抛光工序为对所述玻璃基板进行的多个抛光工序中的最终抛光工序。
5.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括在利用含有抛光磨粒的浆料对玻璃基板的表面进行抛光的抛光处理之后，除去所述抛光磨粒的洗涤处理，其特征在于， 在所述抛光处理后，进行使附着于所述玻璃基板表面的抛光磨粒凝集而形成二次粒子的凝集处理，然后，通过所述洗涤处理除去所述二次粒子。
6.权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述抛光磨粒包含硅氧化物。
7.权利要求5或6所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述凝集处理对所述抛光磨粒施加超声波而生成二次粒子。
8.权利要求5 7任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述凝集处理为在调节为碱性的液体中对所述抛光磨粒施加超声波的处理。
9.权利要求5 8任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述浆料为含有硅氧化物抛光磨粒的调节为酸性的浆料。
10.权利要求5 9任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述洗涤处理为超声波洗涤。
全文摘要
本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其目的之一在于，即使在玻璃基板的抛光工序中使用粒径小的抛光磨粒、且在抛光工序后的超声波洗涤工序中以高频率进行超声波处理的情况下，也可有效除去玻璃基板表面的颗粒。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括对玻璃基板进行抛光的抛光工序和抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序，在抛光工序中使用粒径10nm～30nm的抛光磨粒，在超声波洗涤工序中，以300KHz～1000KHz的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子，然后以30KHz～100KHz的频率进行第二超声波洗涤。
文档编号G11B5/84GK102812514SQ20118001501
公开日2012年12月5日 申请日期2011年3月31日 优先权日2010年4月1日
发明者铃木阳介 申请人:Hoya株式会社