专利名称：一种发光二极体支架及其制造方法
技术领域：
本发明关于涉及发光二极体其中用以承载发光晶片以及抗静电晶片的支架制造技术，旨在提供一尤适合应用在抗静电发光二极体的支架结构及其制造方法。
背景技术：
如图1及图2所示，是为一般习用发光二极体支架在各个制造过程中的半成品平面图及半成品侧视图；其中，支架10是以冲压加工作业先在一平直的金属料带11上冲制成型两个相互对应而且相对应端不相连的承载部12，接着以注塑加工作业在两个承载部12的区域成型一塑料本体13，接着在以冲压加工作业将承载部12伸出塑料本体13的区段冲制成为既定形状的接脚14区段，再经过至少一道冲压动作将接脚14区段朝向相对应于塑料本体的既定位置弯折，以成为完整的接脚14构造，即完成整体支架的加工制程，而获致可于承载部12定置发光晶片，并且于塑料本体13填入相关荧光材料或封装材料的发光二极体支架构造。
再者，金属料带11在前述的加工制程中，除了有两个承载部12所延伸的部位与塑料本体13相包覆联结之外，另外至少设有一个连接区段15嵌入塑料本体13一适当的深度，以在后续利用冲压用加工作业成型接脚，或者是更进一步的发光二极体封装成型的加工制程当中，能够让半成品保持在金属料带11的既定位置，而有利于自动化加工的进料作业。
然而，习用发光二极体的支架10在两个承载部12的成型过程中，直接以平直状的金属料带11板面做为两个承载部12的最后成型高度，因此此支架10是应用在其有抗静电功能的发光二极体时，两个承载部12必须分别供发光晶片21以及抗静电晶片22的定置，但由于两个承载部12的高度一样，加上发光晶片21以及抗静电晶片22的厚度相当，而将使发光晶片21所产生的光源遭到抗静电晶片22的阻挡，而使得整体发光二极体的亮度表现效果不如预期。
发明内容
本发明关于发光二极体其中用以承载发光晶片以及抗静电晶片的支架制造技术，旨在提供一尤适合应用在抗静电发光二极体的支架结构及其制造方法。
本发明一种发光二极体支架及其制造方法，主要是在进行塑料本体注塑加工作业之前，即已预先对其中一个承载部的区段进行至少一道冲压加工程序，使该承载部的区段形成一有别于原金属料带板面的阶级，以让整体支架具有相互对应但却具有一既定高度落差的两个承载部，可利用其中一个高度较高的承载部供发光晶片的定置，另一个高度较低的承载部则可供抗静电晶片的定置，使发光晶片所产生的光源不致于遭受抗静电晶片的阻挡，故尤适合应用在具有抗静功能的发光二极体。
图1为习用发光二极体支架在各个制造过程中的半成品平面结构图；图2为习用发光二极体支架在各个制造过程中的半成品侧面结构图；图3为本发明的发光二极体支架在各个制造过程中的半成品平面结构图；图4本发明的发光二极体支架在各个制造过程中的半成品侧面结构图。
图号说明10 支架 14 接脚
11金属料带 15连接区段12承载部 21发光晶片13塑料本体 22抗静电晶片具体实施方式
为能使贵审查员清楚本发明的结构组成，以及整体运作方式，兹配合图式说明如下本发明一种发光二极体支架及其制造方法，其整体支架的制造方法如图3及图4所示，是以冲压加工作业先在一平直的金属料带11上冲制成型两个相互对应而且相对应端不相连的承载部12形状，其中一个承载部12的长度较长，并且对其中长度较长的一个承载部12的区段进行至少一道冲压加工程序，使该承载部12的区段形成一有别于原金属料带11板面的阶级，接着以注塑加工作业在两个承载部12的区段成型一塑料本体13，接着在以冲压加工作业将承载部12伸出塑料本体13的区段冲制成为既定形状的接脚14区段，再经过至少一道冲压动作将接脚14区段朝向相对应于塑料本体的既定位置弯折，以成为完整的接脚14构造，即完成整体支架的加工制程，而获致可于承载部12定置发光晶片，并且于塑料本体13填入相关荧光材料或封装材料的发光二极体支架构造。
同样的，金属料带11在前述的加工制程当中，除了有两个承载部12所延伸的部位与塑料本体13相包覆联结之外，另外至少设有一个连接区段15嵌入塑料本体13一适当的深度，以在后续利用冲压用加工作业成型接脚，或者是更进一步的发光二极体封装成型的加工制程当中，能够让半成品保持在金属料带11的既定位置，而有利于自动化加工的进料作业。
值得一提的是，由于本发明在支架10的加工制程当中，是在进行塑料本体注塑加工作业之前，即已预先对其中一个承载部12的区段进行至少一道冲压加工程序，使该承载部12的区段形成一有别于原金属料带11板面的阶级，以让整体支架10具有相互对应但却具有一既定高度落差的两个承载部12。
可利用其中一个高度较高的承载部12供发光晶片21的定置，另一个高度较低的承载部12则可供抗静电晶片22的定置，使发光晶片21所产生的光源不致于遭受抗静电晶片22的阻挡，故可获致一尤适合应用在抗静发光二极体的支架构造。
如上所述，本发明提供另一较佳可行的发光二极体支架构造以及该支架的制造方法，于是，依法提呈新型专利的申请；然而，以上的实施说明及图式所示，是本发明较佳实施例之一，并非以此局限本发明，因此，凡一切与本发明构造、装置、特征等近似、雷同的，均应属本发明的创设目的及申请专利的保护范围之内。
权利要求
1.一种发光二极体支架，其特征在于具有相互对应但却具有一既定高度落差的两个承载部，可利用其中一个高度较高的承载部供发光晶片的定置，另一个高度较低的承载部则可供抗静电晶片的定置。
2.如权利要求1所述的发光二极体支架，其特征在于该两个承载部的位置是包覆有一塑料本体。
3.一种发光二极体支架的制造方法，其特征在于每一个支架是在平直的金属料带上冲制成型两个相互对应而且相对应端不相连的承载部形状，并且对其中一个承载部的区段进行至少一道冲压加工程序，使该承载部的区段形成一有别于原金属料带板面的阶级，接着以注塑加工作业在两个承载部的区域成型一塑料本体，接着在以冲压加工作业将承载部伸出塑料本体的区段冲制成为既定形状的接脚区段，再经过至少一道冲压动作将接脚区段朝向相对应于塑料本体的既定位置弯折，以成为完整的接脚构造。
4.如权利要求3所述的发光二极体支架的制造方法，其特征在于该金属料带在整体的加工制程中，是有两个承载部所延伸的部位与塑料本体相包覆联结，另外至少设有一个连接区段嵌入塑料本体一适当的深度。
5.如权利要求3所述的发光二极体支架的制造方法，其特征在于该支架在将平直的金属料带上冲制成型两个相互对应而且相对应端不相连的承载部形状的步骤中，是将其中一个承载部的长度设计为较长，接着对该长度较长的承载部进行至少一道冲压加工程序，使该承载部的区段形成一有别于原金属料带板面的阶级。
全文摘要
本发明涉及的支架是具有相互对应但却具有一既定高度落差的两个承载部，可利用其中一个高度较高的承载部供发光晶片的定置，另一个高度较低的承载部则可供抗静电晶片的定置，使发光晶片所产生的光源不致于遭受抗静电晶片的阻挡，故尤适合应用在具有抗静功能的发光二极体。
文档编号H01L21/02GK1773734SQ200410090610
公开日2006年5月17日 申请日期2004年11月9日 优先权日2004年11月9日
发明者吴清沂, 林正宗, 詹益洪 申请人:金利精密工业股份有限公司