专利名称：光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及对尘埃等异物附着在被处理基板上的状态进行光学式检测的检测装置、和搭载该检测装置并向上述被处理基板涂布处理液的例如狭缝涂布(slit coat)式的处理液涂布装置。
背景技术：
例如，在LCD制造技术领域中，实施将在LCD基板上形成的半导体层、绝缘体层、电极层等选择性地蚀刻成规定图案的工序。此时，应用所谓的光刻技术，即在上述LCD基板上涂布光致抗蚀剂液，形成抗蚀剂膜，与电路图案对应地将抗蚀剂膜曝光，对其进行显影处理。
在上述LCD基板上涂布光致抗蚀剂液时，已知有采用使将感光性树脂溶解在溶剂中形成的抗蚀剂液呈带状喷出的抗蚀剂供给喷嘴，使方形的LCD基板在与上述喷嘴的抗蚀剂液喷出方向正交的方向上相对地平行移动从而进行涂布的方法。此时，上述抗蚀剂供给喷嘴具备具有在LCD基板的宽度方向上延伸的微小间隔的狭缝状喷出开口，将从该狭缝状喷出开口呈带状喷出的抗蚀剂液供给至基板的整个表面，形成抗蚀剂层。
根据这种方法，能够从上述基板的一边向另一边呈带状喷出(供给)抗蚀剂液，所以能够在基板的整个面上平均地涂布，有效地形成抗蚀剂层。对于这种狭缝涂布式的处理液涂布装置，在下面所示的专利文献1中有说明。
特开平10-156255号公报可是，在上述结构的处理液涂布装置中，为了通过一次涂布动作得到均匀的膜厚，从狭缝状喷出开口喷出上述抗蚀剂液时，伴有一边拉伸该膜厚一边使其形成为均匀的层状的动作。因此，喷出上述抗蚀剂液的喷嘴与上述基板间的间隙(空隙(air gap))，与膜厚对应，被设定得极小，例如两者具有100μm左右的间隙而进行相对移动。
在向基板涂布以上述抗蚀剂液为代表的处理液时，因为喷嘴与基板保持上述的微小间隔而进行相对移动，所以例如在基板上附着有尘埃等异物的情况下，在该涂布动作中，会产生上述异物与上述喷嘴的前端部接触的问题。另外，在异物介于上述基板与载置并保持该基板的载物台(stage)之间时，因为基板的一部分变形为山状，所以随着喷嘴与基板的相对移动，会产生基板被喷嘴的前端部强有力地按压的问题。
特别地，如后者那样，在异物介于上述基板与载物台之间的情况下，基板的破损是当然的，同时，喷嘴的前端部受损伤，在已涂布的处理液上产生所谓的划痕。因此，需要进行上述喷嘴的更换和与此相伴的调整操作，不可避免地使基板的制造线长时间停止运转的问题也进一步发展。
因此，在下面所示的专利文献2中公开了一种狭缝涂布式装置，其构成为在上述处理液喷出喷嘴的相对的行进方向的前方，安装板状部件，在异物或被处理基板与上述喷嘴接触之前，异物或被处理基板与上述板状部件的端面接触。
特开2000-24571号公报可是，根据上述专利文献2所示的狭缝涂布式涂布装置，构成为在上述板状部件上安装振动传感器，通过利用上述振动传感器对异物或基板与上述板状部件的端面的接触进行检测，从而使上述喷嘴与基板的相对移动停止。
但是，在上述装置的处理液涂布动作中，因为处理液供给喷嘴与被处理基板进行相对移动，所以，不可能完全不产生与它们的移动相伴的振动。所以，上述振动传感器容易发生检测出由于它们的驱动而引起的振动的误检测。
另一方面，为了防止上述的误检测的发生，需要在一定程度上抑制振动传感器的检测灵敏度，但是在这种情况下，难以有效地检测出存在于被处理基板上的异物等。总而言之，上述振动传感器的异常检测水平的设定极为困难，存在虽然正常但发生误检测、或者虽然处于异常状态但无法检测出的问题。
因此，考虑采用在处理液供给喷嘴相对于被处理基板相对移动方向的前方，沿水平方向投射光束，对被处理基板上的异物或上述基板由于异物而从载物台上隆起的异常状态进行检测的光学检测方法。
图8(A)、(B)示意性地表示其结构，符号1表示作为被处理基板的例如玻璃基板，此外，符号2表示以水平状态载置并保持上述玻璃基板1的载置台(载物台)。(A)表示在玻璃基板1的上面附着有尘埃等异物3的状态；此外，(B)示意性地表示在玻璃基板1和载物台2之间存在异物3，基板1的一部分如符号1a所示成为隆起状态的例子。
此外，虽然图8中未表示，但其构成为具有狭缝状喷出开口的处理液供给喷嘴沿着被载置在载物台2上的基板1的上面，在纸面的垂直方向上相对移动，上述狭缝状的喷出开口在其长度方向沿着图8所示的纸面的左右方向配置的状态下进行相对移动。此时，处理液供给喷嘴和上述基板1之间的间隙，如上所述，为100μm左右。
另一方面，其构成为沿着上述狭缝状喷出开口的长度方向，从投光部5投射光轴(光束)4，由受光部6接受该光束。使用具有例如670nm左右的波长的激光束作为从上述投光部5投射的光束4。而且，进行调整，使得上述光束4沿着基板1的上面、并通过其上面约50μm的位置。
在图8(A)所示的状态下，从投光部5投射的激光束受到基板1的上面附着的异物3的影响，激光束被遮断或者由受光部6接受的受光量减少。此外，在图8(B)所示的状态下，从投光部5投射的激光束受到基板的隆起部1a的影响，同样地，激光被遮断或者由受光部6接受的受光量减少。所以，通过将阈值设定为上述受光量，能够检测出基板1的异常状态。
但是，在上述异物较小的情况下，受光部6的受光量的变化减小，其变化量达不到上述阈值时，存在无法实现异物的检测功能的问题。
发明内容
本发明基于上述的技术观点而完成，其课题是提供一种能够通过沿着基板的上面投射以激光为代表的光束，从而以良好的灵敏度检测基板上的异物或者基板的一部分由于异物而处于隆起状态的异常状态的光学式的异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置。
为了解决上述课题而完成的本发明的光学式异物检测装置，具备包括沿着被载置在载物台上的被处理基板的上面投射光束的投光部和接受上述光束的受光部的光透过型传感器单元；和通过使上述传感器单元相对于被处理基板相对移动，从而使得上述光束的光轴沿着被处理基板的上面平行地扫描的相对移动单元，其特征在于，具备检测在上述相对移动单元的驱动状态下上述受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元；和检测上述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据上述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
在该情况下，优选上述受光部通过将多个受光元件(cell)排列成矩阵状而构成，构成为选择来自特定的受光元件的输出，作为上述光束的受光输出而利用。此外，优选还具备覆盖连结上述投光部和受光部的光束的直进路径的至少上部的光轴感应体。
另一方面，本发明的处理液涂布装置，其特征在于具备处理液供给喷嘴，该处理液供给喷嘴与被载置在载物台上的上述被处理基板相面对并相对移动，向上述被处理基板喷出处理液，由此将处理液涂布在上述基板的表面，在相对于上述被处理基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载上述光学式异物检测装置，由此利用处理液供给喷嘴作为上述相对移动单元。
在该情况下，优选在上述处理液供给喷嘴上设置有在上述基板的宽度方向上延伸的狭缝状喷出开口，构成为使得从处理液供给喷嘴的狭缝状喷出开口呈带状喷出的处理液涂布在上述基板的表面，形成以与上述狭缝状喷出开口的长度方向平行、并且沿着上述基板的跟前投射上述光束的方式配置上述传感器单元的结构。
另外，在优选的实施方式中，构成为在利用上述光学式异物检测装置探测到异物的存在时，使处理液供给喷嘴相对于上述基板的相对移动停止。
根据上述的光学式异物检测装置，具备检测光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元，由此，例如，如图8(A)所示，在基板的上面上存在比较大的异物时，或者如图8(B)所示，基板的一部分由于异物而处于隆起状态时，能够探测出该状态。
此外，根据上述的光学式异物检测装置，具备检测光束的受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，由此，特别是如图8(A)所示，在基板的上面上存在异物时，即使在该异物比较小的情况下，也能够以良好的灵敏度探测到其存在。
根据在处理液供给喷嘴上搭载有上述光学式异物检测装置的处理液涂布装置，随着处理液供给喷嘴相对于处理基板的相对移动，在其移动方向的前方，能够以良好的灵敏度探测到异物或者基板的一部分由于异物而处于隆起状态的状态。根据该探测，进行控制，使得处理液供给喷嘴相对于上述基板的相对移动停止，由此能够避免给基板和处理液供给喷嘴造成损伤的问题。
图1是表示本发明的处理液涂布装置的实施方式的截面图。
图2是表示从图1的A-A观察的状态的截面图。
图3是说明在图1和图2所示的处理液涂布装置中搭载的光透过型传感器单元的作用的示意图。
图4是表示光透过型传感器单元的电路结构的框图。
图5A是说明同一传感器单元的第一检测单元的电气作用的波形图。
图5B是说明同一传感器单元的第二检测单元的电气作用的波形图。
图6是说明同一传感器单元的元件选择单元的功能的示意图。
图7A是表示同一传感器单元的第一动作例的示意图。
图7B是表示同一传感器单元的第二动作例的示意图。
图7C是表示同一传感器单元的第三动作例的示意图。
图7D是表示同一传感器单元的第四动作例的示意图。
图7E是表示同一传感器单元的第五动作例的示意图。
图8是说明现有的光透过型传感器单元的作用的示意图。
符号说明
1 被处理基板(玻璃基板)1a基板的隆起部2 载置台(载物台)3 异物4 光轴(光束)4a衍射光5 投光部6 受光部6a受光元件6b有效元件11处理液供给喷嘴11a 处理液供给口11b 处理液喷出开口13光轴感应体21元件选择单元22参数设定单元24比较器(第一检测单元)25阈值设定单元26微分器27比较器(第二检测单元)28阈值设定单元29OR(逻辑和)电路R 处理液具体实施方式
下面，对本发明的光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置进行说明，首先说明处理液涂布装置的整体结构，然后说明在上述涂布装置中搭载的光学式的异物检测装置的详细结构。
图1和图2是以互为截面图的方式表示该处理液涂布装置的主要部分的图。即，图1是从图2的B-B线沿箭头方向观察到的状态的截面图，而图2是从图1的A-A线沿箭头方向观察到的状态的截面图。在下面表示的各图中，用相同符号表示与已经说明的图8中表示的结构发挥相同功能的部分。
在图1和图2中，符号1表示作为已经说明的被处理基板的例如方形的玻璃基板；符号2表示将上述玻璃基板1以水平状态载置、并且例如通过负压而吸附保持该基板的载置台(载物台)。符号11表示处理液供给喷嘴，该喷嘴11的外观大致形成为长方体状，在其上端部形成有处理液供给口11a，并且在其下端部形成有狭缝状的处理液喷出开口11b。
在该图1和图2所示的实施方式中，其被构成为将玻璃基板1以水平状态载置的载物台2为固定状态，上述处理液供给喷嘴11沿着玻璃基板1的上面，在图1中的空心箭头C所示的方向上移动。即，处理液供给喷嘴11沿着与其狭缝状开口11b的长度方向正交的方向水平移动。而且，以如下方式进行动作上述喷嘴11的前端部(图中所示的下端部)与玻璃基板1之间保持大约100μm左右的间隔而进行移动，同时从狭缝状开口11b将处理液R呈线状喷出，由此将处理液R在玻璃基板1上涂布成带状。
在上述处理液供给喷嘴11移动方向的前方的侧壁上，安装有支架部件12。该支架部件12由比上述喷嘴11的狭缝状开口11b的长度方向尺寸更长尺寸的例如板状或柱状的部件形成。并且，在支架部件12的两端部，以互相面对的方式安装有投光部5和受光部6，由此构成光透过型传感器单元。
如图2所示，将上述投光部5和受光部6安装在上述支架部件12上，使得连结它们的直线、即光轴(光束)4与处理液供给喷嘴11的狭缝状喷出开口11b的长度方向平行、并且位于上述喷嘴11的移动方向的前方。
作为从上述投光部5投射的光束4，例如使用具有670nm左右波长的激光束。并且，上述光束4的光轴被设定为沿着基板1的上面平行、即在本实施方式中通过基板1的上面约50μm的位置，上述光束4随着处理液供给喷嘴11的移动而沿着基板1的上面进行扫描。
另一方面，在上述支架部件12上，形成为棱柱状的光轴感应体13沿着支架部件12的长度方向，被安装在该支架部件12上。该光轴感应体13的下侧面13a形成为大致平面状，在本实施方式中，该下侧面13a被实施黑色的消光处理。而且，上述光轴感应体13以覆盖将上述投光部5和受光部6连结的光束4的直进路径的上部的方式，安装在支架部件12上。
在图1和图2所示的实施方式中，上述光轴感应体13的下侧面13a与上述处理液供给喷嘴11的前端部被设定为在同一位置(同一高度)、即距离玻璃基板1的上面大约100μm左右。
图3对上述图1和图2所示的结构的作用、特别是具备光轴感应体13时的作用进行说明。即，图3(A)所示的结构表示不具备光轴感应体的例子，与此相对，图3(B)所示的结构示意性地表示具备光轴感应体13的例子。并且，图3(A)和(B)均表示与在玻璃基板1和载物台2之间存在异物3的已经说明的图8(B)同样的状态。
如上所述，在利用具有670nm的波长的激光束时，在投光部5和受光部6间的距离为700mm以下的范围的情况下，激光的会聚性较好，观察不到光的衍射。所以，在这种情况下，上述光轴感应体13不是特别需要。但是，近来，出现了如下状况作为被处理基板的玻璃基板1的尺寸越来越大型化，与此相伴，不得不将上述投光部5与受光部6的距离设定为隔开2000mm或其以上的距离的状态。
本发明的发明人等通过实验等观察到，在这种条件下，激光的衍射变得非常大。即，如图3(A)中示意性地所示，来自投光部5的激光束的一部分，如符号4a所示，发生绕过玻璃基板1的隆起部1a而衍射、并到达受光部6的现象。因此，产生不能根据在受光部6侧接受的激光的光量，准确地判定是否为异常状态的问题，难以确保这种光学的异常检测方法的可靠性。
因此，如图3(B)所示，在具备光轴感应体13的情况下，要绕过上述隆起部1a而到达受光部6的衍射光4a被投射到光轴感应体13的下侧面13a上而衰减，从而阻止其到达受光部6。所以，根据图3(B)所示的结构，受到激光的上述衍射影响的程度减小，能够提高是否为异常状态的判定精度。
根据上述图1和图2所示的结构，因为以覆盖从投光部5到受光部6的光束的直进路径的上部的方式设置有光轴感应体13，所以，在该光轴感应体13与基板1之间形成如同隧道状的狭窄的直线状空间。由此，光轴感应体13能够构成以通过连结投光部5和受光部6的直进路径的光束4为对象的光透过型传感器。
于是，上述光轴感应体13使由于光的衍射而绕过从投光部5到受光部6的直进路径并到达受光部的衍射光4a衰减，所以能够有效地抑制由于如上所述的光的衍射而引起的误检测。
此外，在图1和图2所示的实施方式中，构成为在上述的光透过型传感器单元检测出异常状态时，使处理液供给喷嘴11相对于上述基板1的相对移动停止，由此，能够将处理液供给喷嘴的损伤和给被处理基板带来的损伤防于未然。
此外，在如上述说明那样从投光部5到受光部6的距离相当大的情况下，上述光轴感应体13有效地发挥作用。所以，在从投光部5到受光部6的距离较短的情况下，上述光轴感应体13不一定是必需的。
图4是说明在上述的处理液供给喷嘴11上搭载的光透过型传感器单元的详细结构的图。由符号5表示的块表示上述的投光部，由符号6表示的块表示上述的受光部，如已经说明的那样，从投光部5向受光部6投射激光束4。
在本实施方式中，上述受光部6通过将多个受光元件排列成矩阵状而构成，由符号21表示的元件选择单元接受来自参数设定单元22的控制信号，选择来自特定的受光元件的输出作为上述光束的受光输出而利用。此外，对于具备多个受光元件的上述受光部6和选择来自受光元件的输出的功能，将在后面详细说明。
由上述元件选择单元21得到的光束的受光输出，通过低通滤波器23，被供给至比较器24。由阈值设定单元25向该比较器24供给预先设定的阈值电压，在比较器24中，实施判定来自上述元件选择单元21的受光输出是否为来自阈值设定单元25的阈值电压以上的动作。换言之，在比较器24中，检测上述光束的受光输出是否为规定值以上。由上述比较器24和阈值设定单元25构成第一检测单元。
图5A是说明由上述第一检测单元进行的检测动作的图。纵轴表示上述光束的受光量，横轴表示传感器单元的扫描位置。即，上述光束利用传感器单元，在图5A中的从左向右的方向上依次扫描。实线表示从上述元件选择单元21供给至比较器24的受光输出，沿水平方向描绘的虚线SL1表示由上述阈值设定单元25供给的阈值电压的水平。在该图5A所示的例子中，当用实线表示的受光输出在用虚线表示的阈值SL1的水平以下时，以从比较器24产生输出的方式进行动作。
回到图4，其构成为将来自上述低通滤波器23的输出供给至微分器26。该微分器26以与受光输出的单位时间的变化量对应地产生输出的方式发挥作用。并且，来自微分器26的输出被供给至比较器27。由阈值设定单元28向上述比较器27供给预先设定的阈值电压，在比较器27中，实施判定来自上述微分器26的输出是否为来自阈值设定单元28的阈值电压以上的动作。由上述微分器26、比较器27和阈值设定单元28构成第二检测单元。
图5B是说明由上述第二检测单元进行的检测动作的图。纵轴表示上述微分器26的输出值，横轴与图5A同样表示传感器单元的扫描位置。实线表示从上述微分器26供给至比较器27的微分输出的绝对值。即，图5B中用实线表示的微分输出，表示图5A中用实线表示的受光输出的微分值。
此外，在图5B中沿水平方向描绘的虚线SL2表示从上述阈值设定单元28供给的阈值电压的水平。在该图5B所示的例子中，当用实线表示的受光输出的微分值为用虚线表示的阈值SL2的水平以上时，以从比较器27产生输出的方式进行动作。
如图4所示，上述的构成第一检测单元的比较器24和构成第二检测单元的比较器27的各输出，分别采用由OR电路29得到的逻辑和，作为传感器单元的检测输出而输出。此外，对于利用上述逻辑和的输出而得到的效果，将在后面进行详细说明。
图6是说明利用图4所示的元件选择单元21，选择来自特定的受光元件的输出，作为光束的受光输出而利用的例子的图。在图6所示的受光部6中，如符号6a所示，多个受光元件呈矩阵状排列。其例如由CCD构成，由各元件得到的受光输出能够通过指定各元件的纵横方向的地址而进行选择，而且图4所示的元件选择单元21构成为能够将来自己选择的各元件的输出以相加后的状态取出。
在图6中，以相对于受光部6向由符号4A表示的区域投射光束的情况为例，表示将来自由符号6a表示的元件排列区域中的、由6b表示的区域的元件的输出相加，作为检测输出而取出的例子。即，在图6所示的例子中，位于f-f线上部的元件的排列区域，由于上述的光轴感应体13的存在，所以不投射光束，此外，位于g-g线下部的元件的排列区域，由于上述被处理基板1的存在，也不投射光束。
在将由投光部5和受光部6构成的传感器单元搭载在处理液供给喷嘴上的图1和图2所示的状态中，实际地从投光部5向受光部6投射激光，由此能够从此时的各元件的输出，确定存在于f-f线和g-g线之间的元件的地址。
此外，由符号6b表示的有效元件的选择宽度W，预先在软件(software)上设定上述选择宽度W，能够根据接受到达由符号4A表示的区域的光束的各元件的输出，确定选择宽度W内的元件的地址。由符号6b表示的有效元件的区域被设置到图4所示的参数设定单元22中，然后，进行控制，使得将来自由6b表示的区域的元件的输出相加并输出。
所以，能够比较粗略地确定上述受光部6的机械的设置位置，在粗略地设置受光部6的状态下，通过上述方法，能够从各元件的输出来确定有效的元件区域6b。因此，由此，省略对投光部5和受光部6的位置关系进行严密地调整的操作，能够根据软件上讲授的方法确定有效元件区域，所以能够在极短的时间内，进行传感器单元的设置和有效元件区域6b的调整操作。
此外，在图6所示的有效元件区域6b的选择例中，f-f线由上述光轴感应体13的存在而确定，但是在不使用该光轴感应体13的处理液涂布装置中，能够以上述g-g线为基准，通过预先在软件上设定其上侧的有效元件数，来确定有效元件区域6b。
图7A～图7E分成几种假定的情况，对根据上述图4说明的传感器单元的第一检测单元和第二检测单元的检测功能进行详细地说明。即，图7A～图7E中的(A)表示由于异物的附着或者其它原因引起的异常状态，(B)分别表示此时的第一检测单元的受光量，此外(C)分别示意性地表示此时的第二检测单元的微分值的输出。
首先，图7A与图3所示的例子同样地表示在玻璃基板1与载物台2之间存在有尘埃等异物3的例子。在该情况下，因为玻璃基板1的一部分由于异物3而处于隆起状态，所以在第一检测单元中，如(B)所示，能够检测出较大幅度的受光量的下降状态。另外，在第二检测单元中，如(C)所示，其微分值以较大的水平进行输出。所以，能够利用上述第一和第二检测单元的逻辑和，可靠地检测出上述的异常状态。
图7B表示在玻璃基板1上存在有尘埃等异物3的例子。在该情况下，如(B)所示，虽然为较小幅度，但能够由第一检测单元检测出受光量的下降。此外，在第二检测单元中，如(C)所示，能够检测出规定水平以上的微分输出。所以，在这种情况下，也能够利用上述第一和第二检测单元的逻辑和，可靠地检测出存在有尘埃等异物3。
图7C表示在玻璃基板1上形成有例如溅射痕迹7而无法将其除去的例子。这样的溅射痕迹比较微小，在第一检测单元中，如(B)所示，大多情况下无法检测出其受光量的微小降低。另一方面，在第二检测单元中，如(C)所示，能够将突起状的溅射痕迹作为较大水平的微分值而检测出。所以，在这种情况下，也能够利用上述第一和第二检测单元的逻辑和，可靠地检测出较微小的异常状态。
图7D表示在玻璃基板1的一部分上产生裂缝1c的情况。在这样的裂缝1c中，有时其规模较微小，在这种情况下，第一检测单元中，如(B)所示，有时无法检测出其受光量的微小下降。另一方面，在第二检测单元中，如(C)所示，能够将其作为较大水平的微分值而检测出。所以，在这种情况下，也能够利用上述第一和第二检测单元的逻辑和，可靠地检测出较微小的异常状态。
图7E表示玻璃基板1由于某些原因而浮起、并且倾斜的情况。在这样的情况下，在第一检测单元中，如(B)所示，可检测出受光量随着上述倾斜而缓慢变化的状态。另一方面，在第二检测单元中，如(C)所示，其微分值的水平低，无法根据其微分值检测出异常状态。但是，即使在上述的情况下，也能够利用上述第一和第二检测单元的逻辑和，检测出异常状态。
由以上的说明可知，根据利用第一和第二检测单元的逻辑和来检测异常状态的本发明的光学式异物检测装置，能够利用第一检测单元检测出在扫描方向上变化较少的异常状态，能够利用第二检测单元以良好的灵敏度检测出较微小的异常状态，所以能够有效地检测出各种异常状态。
另外，根据搭载有上述异物检测装置的本发明的处理液图布装置，能够直接享有上述异物检测装置的功能。所以，能够有效地避免对被处理基板和处理液供给喷嘴造成损伤的问题，能够有助于提高产品的成品率。
此外，在以上说明的实施方式中，载置有被处理基板1的载物台2处于固定状态，处理液供给喷嘴11与包括投光部5和受光部6的传感器单元在被处理基板上移动，但是与此相反，使处理液供给喷嘴11与包括投光部5和受光部6的传感器单元处于固定状态，载置有被处理基板的载物台在水平方向上移动，也能够得到同样的作用效果。
产业上的可利用性本发明的处理液涂布装置不限于上述说明的对LCD基板例如涂布抗蚀剂液时的涂布装置，能够适合应用于在半导体晶片、印刷基板、其它电子设备的制造领域、或者其它领域中采用的狭缝涂布式涂布装置等。此外，本发明的光学式异物检测装置不仅可以用于上述的处理液涂布装置，而且能够适合用于特别是需要监视呈平面状的基板面的自动机构等。
权利要求
1.一种光学式异物检测装置，具备包括沿着被载置在载物台上的被处理基板的上面投射光束的投光部和接受所述光束的受光部的光透过型传感器单元；和通过使所述传感器单元相对于被处理基板相对移动，从而使得所述光束的光轴沿着被处理基板的上面平行地扫描的相对移动单元，其特征在于具备检测在所述相对移动单元的驱动状态下所述受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元；和检测所述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据所述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
2.如权利要求1所述的光学式异物检测装置，其特征在于所述受光部通过将多个受光元件排列成矩阵状而构成，构成为选择来自特定的受光元件的输出，作为所述光束的受光输出而利用。
3.如权利要求1或2所述的光学式异物检测装置，其特征在于还具备覆盖连结所述投光部和受光部的光束的直进路径的至少上部的光轴感应体。
4.一种处理液涂布装置，其特征在于具备处理液供给喷嘴，该处理液供给喷嘴与被载置在载物台上的所述被处理基板相面对并相对移动，向所述被处理基板喷出处理液，由此将处理液涂布在所述基板的表面，在相对于所述被处理基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载权利要求1或2所述的光学式异物检测装置，由此利用所述处理液供给喷嘴作为所述相对移动单元。
5.如权利要求4所述的处理液涂布装置，其特征在于在所述处理液供给喷嘴上设置有在所述基板的宽度方向上延伸的狭缝状喷出开口，构成为使得从处理液供给喷嘴的所述狭缝状喷出开口呈带状喷出的处理液涂布在所述基板的表面，所述传感器单元以与所述狭缝状喷出开口的长度方向平行、并且沿着所述基板的跟前投射所述光束的方式配置。
6.如权利要求4所述的处理液涂布装置，其特征在于构成为在利用所述光学式异物检测装置探测到异物的存在时，使处理液供给喷嘴相对于所述基板的相对移动停止。
全文摘要
本发明提供一种能以良好的灵敏度检测平面状基板的异常状态的光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置。使以水平状态被载置在载物台上的被处理基板与具有沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口的处理液供给喷嘴相对移动，将从处理液供给喷嘴呈带状喷出的处理液涂布在基板的表面。在相对于上述基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载有由投光部和受光部构成的光透过型传感器单元。上述传感器单元构成为具有检测受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元、和检测上述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据上述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
文档编号H01L21/66GK1940537SQ200610159929
公开日2007年4月4日 申请日期2006年9月26日 优先权日2005年9月26日
发明者大塚庆崇, 中满孝志, 高木贵生, 稻益寿史 申请人:东京毅力科创株式会社