专利名称：涂覆装置以及喷嘴的维护方法
技术领域：
本发明涉及一种对被处理基板涂覆处理液的涂覆装置以及该涂覆装置所搭载的具有狭缝状的喷出口的喷嘴的维护方法。
背景技术：
例如，在FPD (平板显示器)的制造中，电路图案的形成通过所谓的光刻工序来进行。在该光刻工序中，在玻璃基板等被处理基板上成膜规定的膜之后，涂覆处理液、即光致抗蚀剂(下面，称为抗蚀剂)，从而形成抗蚀剂膜(感光膜)。然后，与电路图案相对应地曝光上述抗蚀剂膜，对该曝光后的抗蚀剂膜进行显影处理，并对该显影处理后的抗蚀剂膜进行图案形成。在这样的光刻工序中，作为对被处理基板涂覆抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜的方法， 存在从狭缝状的喷嘴喷出口带状地喷出抗蚀剂液而在基板上涂覆抗蚀剂的方法。利用图12简单地对使用该方法的以往的抗蚀剂涂覆装置进行说明。图12所示的抗蚀剂涂覆装置200具有载置基板G的载置台201、配置在该载置台 201的上方的抗蚀剂供给喷嘴202、使该喷嘴202移动的喷嘴移动部件203。在抗蚀剂供给喷嘴202上设有具有沿着基板的宽度方向延伸的微小间隙的狭缝状的喷出口 202a，使从抗蚀剂液供给源204供给的抗蚀剂液R从喷出口 20 喷出。然而，因为狭缝状的喷出口 20 由微小的间隙形成，所以如果在喷嘴待机时不实施喷嘴顶端的维护处理，则会由于抗蚀剂液的干燥等而产生堵塞。因此，如图12所示，抗蚀剂涂覆装置200具有用于对喷嘴顶端进行清洗的喷嘴维护部件208。该喷嘴维护部件208例如具有向喷嘴喷出口 20 喷出清洗液(稀释剂)而对喷嘴顶端进行清洗的喷嘴清洗部208a、用于在溶剂蒸汽气氛下保持喷出口 20 以使在待机时喷出口 20 不会干燥的喷嘴槽208b。并且，具有起动加注处理部208c，该起动加注处理部208c在对基板G进行涂覆处理之前，向旋转自如的圆柱形状的起动加注辊的表面喷出抗蚀剂液R，使附着在喷嘴顶端的抗蚀剂液R均勻化(起动加注处理)。在该结构中，在对基板G进行抗蚀剂涂覆处理时，一边利用喷嘴移动部件203使喷嘴202水平移动，一边从狭缝状的喷出口 20 将抗蚀剂液R带状地喷出到基板的整个表面，由此，进行抗蚀剂液R的涂覆处理。另外，在喷嘴202待机时，利用上述喷嘴维护部件208对喷嘴进行维护处理。在该维护处理中，首先，利用喷嘴移动部件203将喷嘴202移动到喷嘴清洗部208a。然后，在喷嘴清洗部208a对喷嘴顶端实施清洗处理，接着，如图13所示，喷嘴202保持在喷嘴槽208b 中以使喷嘴喷出口 20 不会干燥。另外，对下一个基板G进行涂覆处理之前，将喷嘴202移动到起动加注处理部 208c，通过向起动加注辊喷出抗蚀剂液，对喷嘴顶端实施起动加注处理。另外，在专利文献1中记载有进行这样的维护处理的装置结构。
专利文献日本专利第4040025号公报如上所述，在喷嘴待机期间进行的喷嘴202的维护处理中，喷嘴202的顶端部(喷出口 202a)被喷嘴清洗部208a清洗，如图13所示，喷嘴202被保持在喷嘴槽208b中以使喷嘴喷出口 20 不会干燥。在此，如果是在相同批内连续地处理的基板间的待机期间，则直到下一个基板G 的涂覆处理不会长时间空闲，因此，喷嘴202内的流路202b保持被处理液、即抗蚀剂液填充的状态。另一方面，在不同的批间的待机期间，有时也会成为长时间的待机，出于防止抗蚀剂的干燥附着、流路清洗等目的，喷嘴202内的流路202b从抗蚀剂液R置换成溶剂T (稀释剂)。然而，存在这种问题以在喷嘴流路202b内置换成溶剂T的状态长时间放置喷嘴流路202b时，随着待机中的时间推移，被填充到喷嘴顶端(喷出口 202a)的溶剂T发生蒸发，如图14所示，在溶剂T中溶出的抗蚀剂成分在溶剂T的界面T 1附近析出，在流路202b 内成为异物D而发生粘结。另外，像那样在流路202b中附着有异物D时，来自喷出口 20 的抗蚀剂喷出状态变得不均勻，有可能在对基板G进行抗蚀剂液R的涂覆处理中在涂覆膜中产生条状斑。另外，为了以不在流路202b内引起损伤的方式除去异物D，需要分解喷嘴202而进行清洗，存在麻烦和需要时间这种问题。另外，在流路202b内置换成溶剂T之后，为了防止喷出口 20 附近的干燥，存在喷出溶剂T的、即进行所谓虚拟分配的方法，但因为需要喷出而废弃大量的溶剂T，所以存在成本增大这种问题。
发明内容
本发明是鉴于上述那样的以往技术的问题点而做成的，本发明提供一种涂覆装置以及喷嘴的维护方法，在向被处理基板涂覆处理液的涂覆装置中，防止在喷嘴内的流路内的异物的附着，并且在对被处理基板进行处理液的涂覆时，能够从狭缝状的喷嘴喷出口均勻地喷出处理液。为了解决上述的问题，本发明的涂覆装置包括喷嘴，其用于从以被处理基板的宽度方向为长度方向的狭缝状的喷出口喷出处理液；维护部件，其在上述喷嘴的待机期间保持上述喷嘴内的流路中被从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的状态，本发明的涂覆装置用于从上述喷嘴的喷出口向上述基板喷出处理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述维护部件具有向上述喷嘴供给上述溶剂的溶剂供给部件、在与上述喷嘴的喷出口之间形成规定的间隙的液保持面，在上述待机期间，以向上述液保持面喷出规定量的溶剂的状态保持上述喷嘴，上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面。或者，本发明的涂覆装置包括喷嘴，其用于从以被处理基板的宽度方向为长度方向的狭缝状的喷出口喷出处理液；维护部件，其在上述喷嘴的待机期间保持上述喷嘴内的流路中被从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的状态，本发明的涂覆装置用于从上述喷嘴的喷出口向上述基板喷出处理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述维护部件具有向上述喷嘴供给上述溶剂的溶剂供给部件、用于存储至少能够浸渍上述喷出口的规定量的溶剂的存储容器；在上述待机期间，以上述喷嘴的喷出口被浸渍在上述存储容器所存储的溶剂中的状态保持上述喷嘴，上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面。通过这样构成，即使在溶剂中溶出的处理液的成分由于溶剂的蒸发而在界面附近析出，也能够防止析出的异物向流路内的附着。S卩、使流路内成为洁净的状态，对被处理基板涂覆处理液时，能够从狭缝状的喷嘴喷出口均勻地喷出处理液。另外，由从溶剂析出的处理液成分构成的异物附着在喷嘴外表面，因此，不分解喷嘴就能够容易地进行异物的除去作业。为了解决上述的问题，本发明的喷嘴的维护方法如下所述喷嘴的喷出口呈以被处理基板的宽度方向为长度方向的狭缝状，在从该喷出口喷出处理液的喷嘴中，在上述喷嘴的待机期间，以从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的方式保持上述喷嘴内的流路， 本发明的喷嘴的维护方法的特征在于，其包括向上述喷嘴供给上述溶剂以置换上述处理液的步骤；在上述喷出口的下方配置液保持面、并在上述喷出口与上述液保持面之间形成规定的间隙的步骤；以从上述喷出口向上述液保持面喷出规定量的溶剂的状态保持上述喷嘴、将上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面的步骤。或者，本发明的喷嘴的维护方法如下所述喷嘴的喷出口呈以被处理基板的宽度方向为长度方向的狭缝状，在从该喷出口喷出处理液的喷嘴中，在上述喷嘴的待机期间，以从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的方式保持上述喷嘴内的流路，本发明的喷嘴的维护方法的特征在于，其包括向上述喷嘴供给上述溶剂以置换上述处理液的步骤；将至少能够浸渍上述喷出口的规定量的溶剂存储在存储容器中的步骤；以浸渍在上述存储容器所存储的溶剂中的状态保持上述喷嘴的喷出口、将上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面的步骤。或者，本发明的喷嘴的维护方法如下所述在从喷出口喷出处理液的长条状的喷嘴中，在上述喷嘴的待机期间防止在上述喷嘴内的流路内的异物的附着，其特征在于，该喷嘴的维护方法包括在上述喷出口的下方配置液保持面、并在上述喷出口与上述液保持面之间形成规定的间隙的步骤；以从上述喷出口向上述液保持面喷出规定量的处理液的状态保持上述喷嘴、将上述处理液的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面的步骤。采用这样的方法，即使在溶剂中溶出的处理液的成分由于溶剂的蒸发而在界面附近析出，也能够防止析出的异物向流路内的附着。S卩、使流路内成为洁净的状态，对被处理基板涂覆处理液时，能够从狭缝状的喷嘴喷出口均勻地喷出处理液。另外，由从溶剂析出的处理液成分构成的异物附着在喷嘴外表面，因此，不分解喷嘴就能够容易地进行异物的除去作业。采用本发明，能够获得一种涂覆装置以及喷嘴的维护方法，其在向被处理基板涂覆处理液的涂覆装置中，防止在喷嘴内的流路内的异物的附着，对被处理基板涂覆处理液时，能够从狭缝状的喷嘴喷出口均勻地喷出处理液。
图1是表示本发明的一实施方式的整体概略结构的俯视图。
图2是表示本发明的一实施方式的整体概略结构的侧视图。图3是图1的A-A向视剖视图。图4是本发明的涂覆装置所具有的待机部的剖视图。图5是图4的B-B向视剖视图。图6是图4的待机部所具有的喷嘴槽的局部放大剖视图。图7是表示本发明的涂覆装置的动作的流程的流程图。图8的(a)、(b)是表示本发明的涂覆装置的其他的方式的剖视图。图9是表示本发明的涂覆装置的其他的方式的剖视图。图10是表示本发明的涂覆装置的其他的方式的剖视图。图11的(a)、图11的(b)是表示本发明的涂覆装置的其他的方式的剖视图。图12是用于对以往的涂覆处理单元的概略结构进行说明的立体图。图13是以往的涂覆处理单元所具有的喷嘴槽的剖视图。图14是表示配置在图13的喷嘴槽中的喷嘴的顶端部的状态的局部放大剖视图。图15是表示本发明的喷嘴的其他的方式的剖视图。
具体实施例方式下面，根据附图对本发明的涂覆装置以及喷嘴的维护方法的一实施方式进行说明。另外，在该实施方式中，以这样的情况为例进行说明将涂覆装置应用于抗蚀剂涂覆处理单元，该抗蚀剂涂覆处理单元一边悬浮输送被处理基板、即玻璃基板，一边对上述基板进行处理液、即抗蚀剂液的涂覆处理。如图1、图2所示，该抗蚀剂涂覆处理单元1包括悬浮输送部2A，其用于一张一张地悬浮输送玻璃基板G ；辊输送部2B，其从上述悬浮输送部2A接收基板G，并进行辊输送， 该抗蚀剂涂覆处理单元1构成为使基板G被所谓水平输送。在上述悬浮输送部2A中设有沿着基板输送方向、即X方向延长的悬浮载置台3。 在悬浮载置台3的上表面上，如图示那样在X方向和Y方向以固定间隔交替地设有多个气体喷出口 3a和多个气体吸气口 3b，通过使来自气体喷出口 3a的非活性气体的喷出量与来自气体吸气口北的吸气量之间的压力负载恒定，使玻璃基板G悬浮。另外，在该实施方式中，利用气体的喷出以及吸气使基板G悬浮，但不限定于此， 也可以只利用气体喷出的结构使基板悬浮。另外，在辊输送部2B中，在载置台3之后并行设有被辊驱动部40旋转驱动的多根辊轴41。在各辊轴41上安装有多个输送辊42，成为利用上述输送辊42的旋转来输送基板 G的结构。在悬浮输送部2A的悬浮载置台3的宽度方向(Y方向)的左右侧方设有沿着X方向平行地延伸的一对导轨5。在该一对导轨5上设有从下方对玻璃基板G的四角的缘部进行吸附保持而在导轨5上移动的四个基板承载件6。利用上述基板承载件6使悬浮在悬浮载置台3上的玻璃基板G沿着输送方向(X方向)移动。另外，为了顺利地进行从悬浮输送部2A向辊输送部2B的基板交付，导轨5不仅延伸设置到悬浮载置台3的左右侧方，还延伸设置到辊输送部2B的侧方。如图3 (图1的A-A向视断面)所示，各基板承载件6具有能够沿着导轨5移动地设在导轨5上的滑动构件6a、能够通过吸引动作、放开动作对基板G的下表面进行吸附的吸附构件6b、使吸附构件6b升降移动的升降驱动部6c。另外，在吸附构件6b上连接有吸引泵(未图示)，该吸引泵吸引基板G与附构件 6b之间的接触区域的空气而使该接触区域接近真空状态，由此，使吸附构件6b吸附在基板 G上。另外，上述滑动构件6a、升降驱动部6c、上述吸引泵各自的驱动被由计算机构成的控制部50控制。另外，如图1、图2所示，在悬浮输送部2A的悬浮载置台3上设有向玻璃基板G喷出抗蚀剂液的喷嘴16。喷嘴16形成为例如长度方向沿Y方向的大致长方体形状，形成得长于玻璃基板G在Y方向上的宽度。如图2、图3所示，在喷嘴16的下端部形成有以悬浮载置台3的宽度方向为长度方向的狭缝状的喷出口 16a。另外，抗蚀剂液从抗蚀剂液供给部30经由送出泵31以及切换阀32被供给到该喷嘴16。另一方面，在喷嘴16的维护时(待机时)，从溶剂供给部33经由送出泵34以及切换阀32供给抗蚀剂的溶剂(稀释剂液)。即、溶剂供给部件由溶剂供给部33以及送出泵 34构成。另外，如图1所示，在喷嘴16的两侧设有沿着X方向延伸的一对导轨10。在该导轨10上设有能够沿着该导轨10滑动移动的一对滑动构件17，如图3所示，在各滑动构件 17上铅垂地竖立设置有轴18。在上述轴18上设有能够沿着该轴18升降移动的升降驱动部19，在Y方向相对的一对升降驱动部19之间架设有用于保持喷嘴16的直棒状的喷嘴臂 11。通过上述结构使喷嘴16能够升降移动，并且能够沿着导轨10在X方向移动。另外，在载置台3上方，在比喷嘴16靠上游的一侧，作为喷嘴16的维护部件设有清洗喷嘴顶端(喷出口 16a)并使喷嘴16待机规定时间的待机部14、用于在涂覆处理前使附着在喷嘴顶端的抗蚀剂液均勻化的起动加注处理部20。待机部14具有将附着在喷嘴16的喷出口 16a上的多余的抗蚀剂液清洗并除去的喷嘴清洗部对、用于待机时将喷出口 16a保持在溶剂(稀释剂)的蒸汽气氛下以使喷出口 16a不会干燥的喷嘴槽26。另外，起动加注处理部20具有壳体21，其呈箱状，具有在基板宽度方向(Y方向) 细长的上部开口 21a;起动加注辊23，其呈圆筒或者圆柱形状，利用电动机等旋转驱动部22 能够绕轴线旋转地设在壳体21内。如图2所示，起动加注辊23的上部设为突出于壳体21 的上部开口 21a的状态。如上述那样使喷嘴16能够升降移动并且能够沿着导轨10在X方向移动，并且使喷嘴16能够在向玻璃基板G喷出抗蚀剂液的喷出位置与位于比该喷出位置靠上游的一侧的起动加注处理部20以及待机部14之间移动。S卩、构成为在喷嘴待机时，喷嘴16被移动到待机部14，在该位置进行喷嘴清洗等， 在涂覆处理前，喷嘴16被移动到起动加注处理部20，实施起动加注处理。进一步详细说明上述待机部14。如图4的剖视图所示，喷嘴清洗部M具有喷嘴清洗头25。
喷嘴清洗头25具有向喷嘴喷出口 16a附近喷出稀释剂等清洗液的稀释剂喷出喷嘴25a、对清洗使用后的稀释剂进行吸引回收的稀释剂排出管25b、将氮气等规定的气体向喷嘴喷出口 16a附近喷射的气体喷射喷嘴25c。使该喷嘴清洗头25能够利用头扫描机构(未图示)在基板宽度方向(Y方向)扫描移动，由此，能够从喷嘴喷出口 16a的一端到另一端地进行清洗。另外，喷嘴槽沈具有壳体27，该壳体27呈箱状，具有在基板宽度方向(Y方向)细长的上部开口 27a，在该壳体27内存储有规定量的溶剂T (稀释剂)。在壳体27的侧部设有排出管27b，使被存储的溶剂T不会超过规定的容量。如图4所示，在喷嘴待机时，以喷嘴顶端部(喷出口 16a)从上述上部开口 27a插入到壳体27内的状态保持喷嘴顶端部(喷出口 16a)。另外，如图4、图5 (图4的B-B向视截面)所示，在壳体27内，在被存储的溶剂T 的上方以例如被棒状的支承构件36从下方支承的方式设有沿着基板宽度方向延伸的长方形板状的液保持板观(板构件)。在该液保持板观的上表面上形成有与该液保持板观的上表面处于同一平面的液保持面，该液保持面由具有耐药品性(耐抗蚀剂性、耐溶剂性)、低摩擦系数的材质构成。另外，在批与批间的待机期间使用该液保持板观，但在该待机期间，在控制部50 的控制下，喷嘴16内的流路16b从抗蚀剂液置换成溶剂T (稀释剂)。另外，使规定量的溶剂T从喷嘴喷出口 16a喷出到液保持板28 (液保持面^a)上。由此，如图6(喷嘴顶端部的放大图)所示，溶剂T以利用其表面张力进行形状维持的状态被保持在喷嘴喷出口 16a与液保持板观之间。并且，使溶剂T的相对于喷嘴16 的界面Tl不是形成在喷嘴16的流路16b内，而是形成在喷嘴16的外表面。接着，进一步利用图7对在这样构成的抗蚀剂涂覆处理单元1中包括从对基板G 涂覆抗蚀剂液到在待机时的喷嘴的起动加注处理的一系列的流程进行说明。在抗蚀剂涂覆处理单元1中，重新向悬浮载置台3上输入玻璃基板G时，基板G被在载置台3上形成的非活性气体的气流从下方支承，并被基板承载件6保持(图7的步骤 Si)。然后，在控制部50的控制下驱动基板承载件6，开始向基板输送方向输送(图7的步骤S2)。另外，从抗蚀剂喷嘴16的喷出口 16a喷出处理液、即抗蚀剂液，对通过喷嘴16的下方的基板G实施涂覆处理(图7的步骤S3)。向基板G上的抗蚀剂液的涂覆处理结束时，停止来自喷嘴16的抗蚀剂液的喷出， 从悬浮输送部2A向辊输送部2B交付涂覆处理完毕的基板G，利用辊输送向之后的处理部送出(图7的步骤S4)。成为待机期间时，控制部50使喷嘴16沿着导轨10向待机部14的上方移动(图 7的步骤S5)。然后，首先，在待机部14的喷嘴清洗部M，喷嘴清洗头25对喷嘴16的顶端部进行扫描，使用清洗液(稀释剂)进行清洗处理(图7的步骤S6)。接着，喷嘴16移动到喷嘴槽沈处，以喷嘴顶端部从壳体27的上部开口 27a插入到壳体27内的状态保持喷嘴16 (图7的步骤S7)。
在此，对批内的所有的基板G的涂覆处理未完毕时(图7的步骤S8)，原样不动地以规定时间保持喷嘴16，在此期间，将喷出口 16a暴露在溶剂T的蒸汽中以使喷出口 16a不会干燥(图7的步骤S9)。在喷嘴槽沈处进行规定时间的待机之后，喷嘴16移动到起动加注处理部20的上方。然后，将规定量的抗蚀剂液从喷出口 16a喷出到起动加注辊23的表面，并且，通过起动加注辊23向规定方向旋转来实施喷嘴顶端的起动加注处理(图7的步骤S10)。另外，将被实施了起动加注处理的喷嘴16移动到对基板G涂覆抗蚀剂液的涂覆处理位置，对下一个基板G进行涂覆处理(图7的步骤S3)。另一方面，在步骤S8中，对批内的所有的基板G进行的涂覆处理完毕时，控制部50 对切换阀32进行切换控制，从溶剂供给部33对喷嘴16供给溶剂T (稀释剂)。由此，喷嘴 16内的流路16b从抗蚀剂液置换成溶剂T，使喷嘴16内的流路16b成为被溶剂T填充的状态(图7的步骤S11)。另外，还从喷嘴喷出口 16a对液保持板观喷出规定量的溶剂T(图 7的步骤S12)。由此，如图6所示，在喷出口 16a与液保持板观(液保持面^a)之间，使溶剂T成为利用其表面张力进行形状维持的状态，以该状态保持规定时间(图7的步骤S13)。另外，在该状态下，溶剂T的相对于喷嘴16的界面Tl形成在喷嘴16的外表面。因此，即使在溶剂T中溶出的抗蚀剂成分由于溶剂T的蒸发而在界面Tl附近析出，也能够防止析出的异物向流路16b内的附着。另外，在抗蚀剂涂覆处理单元1中有重新进行涂覆处理的批时(图7的步骤S14)， 喷嘴16移动到起动加注处理部20的上方。然后，控制部50对切换阀32进行切换控制，从抗蚀剂供给部30对喷嘴16供给抗蚀剂液。由此，在喷嘴16内的流路16b内再次从溶剂T置换成抗蚀剂液(图7的步骤S15)。然后，将规定量的抗蚀剂液从喷出口 16a喷出到起动加注辊23的表面，并且，通过起动加注辊23向规定方向旋转来实施起动加注处理(图7的步骤S10)。另外，将被实施了起动加注处理的喷嘴16移动到对基板G涂覆抗蚀剂液的涂覆处理位置，对下一批的基板G进行涂覆处理(图7的步骤S3)。如上面那样，采用本发明的实施的方式，在不实施使用喷嘴16的涂覆处理的批间的待机期间，喷嘴内的流路16b从抗蚀剂液置换成溶剂T，并且能够保持为溶剂T的相对于喷嘴16的界面Tl形成在喷嘴16的外表面的状态。由此，即使在溶剂T中溶出的抗蚀剂成分由于溶剂T的蒸发而在界面Tl附近析出，也能够防止析出的异物向流路16b内的附着。S卩、使流路16b内成为洁净的状态，对基板G涂覆抗蚀剂液时，能够从狭缝状的喷嘴喷出口 16a均勻地喷出抗蚀剂液。另外，由从溶剂T中析出的抗蚀剂成分构成的异物附着在喷嘴外表面，因此，不分解喷嘴16就能够容易地进行异物的除去作业。另外，在上述实施的方式中，表示了在喷嘴槽沈的壳体27内的规定位置始终配置有液保持板观的结构，但不限定于该方式，也可以是根据需要而在喷嘴16(喷出口 16a)的下方配置液保持板观的结构。在那种情况下，例如，如图8的(a)、图8的(b)所示，也可以将液保持板观设成这样相对于被配置在壳体27上方的喷嘴16的下方位置从侧方进退移动自如，并利用由滚珠丝杠机构、步进电动机等构成的进退移动部件四使液保持板观进退移动。通过这样构成，通过如图8的(a)所示那样在批内的待机期间使液保持板观从喷嘴16下方退避，能够高效地向喷嘴16的喷出口 16a供给溶剂T的蒸汽，从而防止喷嘴16 的喷出口 16a的干燥。另夕卜，成为批间的待机期间时，喷嘴16内的流路16b被置换成溶剂T，如图8的(a) 所示，使液保持板观从喷嘴16下方退避直到置换完毕，由此，能够将置换液时被排出的抗蚀剂液直接排出到被存储在下方的溶剂T中。S卩、被从喷嘴16排出的抗蚀剂液不会附着在液保持板观上，因此，如图8的(b)所示，能够通过在置换液之后在喷嘴16下方配置液保持板观，利用溶剂T的表面张力更可靠地形成界面Tl。或者，也可以不像上述实施方式那样使用液保持板观，而使用起动加注辊23的辊面作为液保持面。在那种情况下，在批间的待机期间，例如，在喷嘴清洗部M处进行的喷嘴清洗之后，喷嘴16移动到起动加注处理部20的上方。然后，喷嘴16的流路16b内被置换成溶剂T，在起动加注辊23的旋转被停止的状态下，从喷出口 16a向辊面喷出规定量的溶剂T。由此，使溶剂T成为利用其表面张力在喷出口 16a与辊面之间进行形状维持的状态，溶剂T的相对于喷嘴16的界面形成在喷嘴外表因此，只要直到在下一批的涂覆处理前进行的起动加注处理之前保持该状态即可。另外，在上述实施方式中，使液保持面28a成为处于同一平面的状态，但也可以如图9所示，在液保持面28a上，在喷出口 16a的前后位置设置沿着基板宽度方向延伸的一对槽部^b。通过设置该槽部^b，强制地决定从喷嘴16喷出的溶剂T的相对于液保持板28的界面的位置，随之，能够更可靠地将以规定量向液保持板观喷出的溶剂T的相对于喷嘴16 的界面Tl形成在喷嘴16的外表面。另外，在上述的实施方式中，通过从喷嘴16对液保持板观喷出规定量的溶剂T，使溶剂T的相对于喷嘴16的界面Tl形成在喷嘴16的外表面。然而，在本发明中，不限定于此，也可以通过使喷嘴顶端浸渍在所存储的溶剂T 中，使溶剂τ的相对于喷嘴16的界面Tl形成在喷嘴外表面。在那种情况下，例如，也可以如图10所示，从喷出口 16a向截面呈Y字形的存储容器35中喷出溶剂T而积存溶剂T，并且，使喷嘴顶端浸渍在溶剂T中，将界面Tl形成在喷嘴外表面。或者，如图11的(a)、图11的(b)所示，也可以形成具有排出管27b、排出管27c 的喷嘴槽26的结构，该排出管27b以使喷嘴顶端不会接触到被存储在壳体27(存储容器) 中的溶剂T的方式设置，该排出管27c设在比排出管27b靠上方的位置。在那种情况下，通过阀切换，在批内的待机期间，如图11的(a)所示，只使用排出管27b，在批间的待机期间，如图11的(b)所示，只使用排出管27c。另外，如图11的(b) 所示，使排出管27c的设置高度为溶剂T能够存储到至少使喷嘴顶端浸渍在溶剂T中的高度。
图11的(b)所示，通过以这样的方式构成，也能够将溶剂T的相对于喷嘴16的界面Tl形成在喷嘴外表面。或者，也可以是如图15所示那样的喷嘴的形状。图15是其他的实施方式的喷嘴的剖视图。另外，对与上述的喷嘴相同的部分省略说明。喷嘴60在与形成有喷出口 16a的面61的端部连接的斜面62上形成有槽部63。通过形成槽部63，强制地决定从喷嘴60喷出的溶剂的相对于喷嘴60的界面的位置，能够更可靠地在喷嘴60的外表面形成溶剂的相对于喷嘴60的界面。另外，在上述的实施方式中，以将喷嘴16内的抗蚀剂液置换成溶剂的方式实施本发明，但也可以不将喷嘴16内置换成溶剂而以抗蚀剂液原样不变地实施本发明。在那种情况下，也因为抗蚀剂液的相对于喷嘴16的界面形成在喷嘴16的外侧，所以能够防止析出的异物的向流路16b内的附着。另外，能够削减溶剂的使用量，也不需要置换成溶剂的时间。或者，也可以这样在将喷嘴16内的抗蚀剂液置换成溶剂时，使送出泵31反方向运转而将喷嘴16内的抗蚀剂液送回到抗蚀剂供给部30之后对切换阀32进行切换，使送出泵34运转而从溶剂供给部33向喷嘴16内供给溶剂。通过进行这样的动作，能够不废弃喷嘴16内的抗蚀剂液就置换成溶剂。另外，喷嘴16不限于具有狭缝状的喷出口的狭缝喷嘴，例如无论是形成得比玻璃基板G的宽度长的长条状的喷嘴，还是排列设置有多个微细孔作为喷出口的喷嘴，都能够获得同样的效果。另外，当然也可以部分地组合上述的实施方式而进行。
权利要求
1.一种涂覆装置，其包括喷嘴，其呈长条状，用于从喷出口喷出处理液；维护部件， 其用于在上述喷嘴的待机期间保持上述喷嘴内的流路中被从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的状态，该涂覆装置用于从上述喷嘴的喷出口向上述基板喷出处理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述维护部件具有向上述喷嘴供给上述溶剂的溶剂供给部件、在与上述喷嘴的喷出口之间形成规定的间隙的液保持面；在上述待机期间，以向上述液保持面喷出规定量的溶剂的状态保持上述喷嘴，上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面。
2.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，该涂覆装置具有壳体，该壳体存储规定量的上述溶剂、并且具有至少能够供上述喷嘴的喷出口插入的上部开口；上述液保持面设在上述壳体内；在上述喷嘴的喷出口被插入上述壳体的上部开口中的状态下，在上述喷出口与上述液保持面之间形成规定的间隙。
3.根据权利要求2所述的涂覆装置，其特征在于，上述液保持面形成在板构件上，该板构件设在上述壳体内。
4.根据权利要求2所述的涂覆装置，其特征在于，涂覆装置具有进退移动部件，该进退移动部件在上述喷嘴的喷出口被插入上述壳体的上部开口中的状态下，用于使上述液保持面相对于上述喷嘴的下方位置进退移动。
5.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，在上述液保持面上，在上述喷嘴的喷出口的前后位置形成有沿着上述喷出口的长度方向延伸的一对槽部。
6.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，上述液保持面是辊的曲面。
7.一种涂覆装置，其包括喷嘴，其呈长条状，用于从喷出口喷出处理液；维护部件， 其用于在上述喷嘴的待机期间保持上述喷嘴内的流路中被从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的状态，该涂覆装置用于从上述喷嘴的喷出口向上述基板喷出处理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述维护部件具有向上述喷嘴供给上述溶剂的溶剂供给部件、用于存储至少能够浸渍上述喷出口的规定量的溶剂的存储容器；在上述待机期间，以上述喷嘴的喷出口被浸渍在上述存储容器所存储的溶剂中的状态保持上述喷嘴，上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面。
8.根据权利要求7所述的涂覆装置，其特征在于，该涂覆装置具有壳体，该壳体存储规定量的上述溶剂，并且，具有至少能够供上述喷嘴的喷出口插入的上部开口；上述存储容器设在上述壳体内；在上述喷嘴的喷出口被插入上述壳体的上部开口中的状态下，上述喷出口被浸渍在上述存储容器所存储的溶剂中。
9.根据权利要求7所述的涂覆装置，其特征在于，上述存储容器具有至少能够供上述喷嘴的喷出口插入的上部开口 ；在上述喷嘴的喷出口被插入在上述存储容器的上部开口中的状态下，上述喷出口被浸渍在上述存储容器所存储的溶剂中。
10.一种喷嘴的维护方法，在从喷出口喷出处理液的长条状的喷嘴中，在上述喷嘴的待机期间，以从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的方式保持上述喷嘴内的流路，其特征在于，该喷嘴的维护方法包括向上述喷嘴供给上述溶剂以置换上述处理液的步骤；在上述喷出口的下方配置液保持面、并在上述喷出口与上述液保持面之间形成规定的间隙的步骤；以从上述喷出口向上述液保持面喷出规定量的溶剂的状态保持上述喷嘴、将上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面的步骤。
11.一种喷嘴的维护方法，在从喷出口喷出处理液的长条状的喷嘴中，在上述喷嘴的待机期间，以从上述处理液置换成上述处理液的溶剂的方式保持上述喷嘴内的流路，其特征在于，该喷嘴的维护方法包括向上述喷嘴供给上述溶剂以置换上述处理液的步骤；将至少能够浸渍上述喷出口的规定量的溶剂存储在存储容器中的步骤；以浸渍在上述存储容器所存储的溶剂中的状态保持上述喷嘴的喷出口、将上述溶剂的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面的步骤。
12.—种喷嘴的维护方法，在从喷出口喷出处理液的长条状的喷嘴中，在上述喷嘴的待机期间防止在上述喷嘴内的流路内的异物的附着，其特征在于，该喷嘴的维护方法包括在上述喷出口的下方配置液保持面、并在上述喷出口与上述液保持面之间形成规定的间隙的步骤；以从上述喷出口向上述液保持面喷出规定量的处理液的状态保持上述喷嘴、将上述处理液的相对于上述喷嘴的界面形成在上述喷嘴的外表面的步骤。
全文摘要
本发明提供一种涂覆装置以及喷嘴的维护方法，其防止在喷嘴内的流路内的异物的附着、并在对被处理基板涂覆处理液时从狭缝状的喷嘴喷出口均匀地喷出处理液。从喷嘴的喷出口向基板(G)喷出处理液并形成涂覆膜的涂覆装置(1)包括喷嘴(16)，其从狭缝状的喷出口(16a)喷出处理液；维护部件(26)，其在喷嘴的待机期间保持喷嘴内的流路中被从处理液置换成处理液的溶剂(T)的状态，维护部件包括向喷嘴供给溶剂的溶剂供给部件(33、34)、在与喷嘴的喷出口之间形成规定的间隙的液保持面(28a)，在待机期间，以向液保持面喷出规定量的溶剂的状态保持喷嘴，溶剂相对于喷嘴的界面(T1)形成在喷嘴的外表面。
文档编号H01L21/027GK102376547SQ20111024169
公开日2012年3月14日 申请日期2011年8月17日 优先权日2010年8月18日
发明者山下俊弘, 池本大辅, 篠崎贤哉, 锦织正博 申请人:东京毅力科创株式会社