专利名称：一种磁芯结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及磁芯技术领域，尤其涉及一种磁芯结构。
背景技术：
参照附图，图1至图3分别为现有技术中一种磁芯结构的主视图、俯视图和左视图，包括磁芯本体1。参照附图，该磁芯本体1的宽度尺寸Y沿高度方向Z保持上下一致，即在磁芯本体1的正面与顶面、背面与顶面之间为直角过渡，磁芯本体1的宽度尺寸上下保持同一尺寸。基于上述磁芯的结构设计，在磁芯的操作加工、放置及运输过程中，磁芯与磁芯之间常出现相互挤压和碰撞现象，易导致磁芯的顶端磨面出现掉块，使得磁芯报废，从而降低了产品的合格率。
实用新型内容针对以上缺陷，本实用新型提出了一种磁芯结构，通过对磁芯的结构进行改进，避免了因磁芯相互挤压碰撞而导致磁芯顶端磨面的掉块现象，并保证了磁芯电磁特性的稳定性。为实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案实现一种磁芯结构，包括磁芯本体，在磁芯本体的正面与顶面、背面与顶面的过渡处设置倒角，其中，正面和背面为磁芯本体的长度方向X和高度方向Z所在的平面，顶面为磁芯本体的长度方向X和宽度方向Y所在的顶面。优选的，倒角在高度方向Z的尺寸大于其在宽度方向Y的尺寸。与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果在本实用新型中，通过对磁芯的结构进行改进，在磁芯本体的正面与顶面、背面与顶面的过渡处设置倒角，在磁芯的操作加工、放置及运输过程中，磁芯的顶端磨面不接触， 避免了因磁芯相互挤压碰撞而导致磁芯顶端磨面的掉块现象，提高了产品的合格率，并保证了磁芯电磁特性的稳定性。
下面根据实施例和附图对本实用新型作进一步详细说明。图1为现有技术中一种磁芯结构的主视图。图2为现有技术中一种磁芯结构的俯视图。图3为现有技术中一种磁芯结构的左视图。图4为本实用新型提出的一种磁芯结构的主视图。图5为本实用新型提出的一种磁芯结构的俯视图。图6为本实用新型提出的一种磁芯结构的左视图。
具体实施方式
3[0016]参照附图，图4至图6分别为本实用新型提出的一种磁芯结构的主视图、俯视图和左视图。为了便于描述，设置三维垂直坐标系XYZ，其中，X所在方向为磁芯的长度方向，Y 所在方向为磁芯的宽度方向，Z所在的方向为磁芯的高度方向。如图4至图6所示，Y方向垂直于纸面。本实用新型提出的一种磁芯结构，包括磁芯本体1，在磁芯本体1的正面与顶面、 背面与顶面的过渡处设置倒角2，其中，正面和背面为磁芯本体的长度方向X和高度方向Z 所在的平面，顶面为磁芯本体的长度方向X和宽度方向Y所在的顶面。倒角2在高度方向 Z的尺寸大于其在宽度方向Y的尺寸，图中，倒角2在高度方向Z的尺寸为5mm，在宽度方向 Y的尺寸为0. 2mm。在本实用新型中，通过对磁芯的结构进行改进，在磁芯本体的正面与顶面、背面与顶面的过渡处设置倒角，在磁芯的操作加工、放置及运输过程中，磁芯的顶端磨面不接触， 避免了因磁芯相互挤压碰撞而导致磁芯顶端磨面的掉块现象，提高了产品的合格率；另一方面，磁性在宽度方向Y的尺寸依然控制在中值附近，对产品的有效使用面积就不会产生影响，从而保证产品的电磁特性的稳定。上面结合附图对本实用新型进行了示例性的描述，显然本实用新型的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围内。
权利要求1.一种磁芯结构，包括磁芯本体(1)，其特征在于，在磁芯本体(1)的正面与顶面、背面与顶面的过渡处设置倒角0)，其中，正面和背面为磁芯本体(1)的长度方向(X)和高度方向(Z)所在的平面，顶面为磁芯本体(1)的长度方向(X)和宽度方向(Y)所在的顶面。
2.如权利要求1所述的磁芯结构，其特征在于，倒角(2)在高度方向(Z)的尺寸大于其在宽度方向(Y)的尺寸。
专利摘要本实用新型公开了一种磁芯结构，包括磁芯本体(1)，在磁芯本体(1)的正面与顶面、背面与顶面的过渡处设置倒角(2)，其中，正面和背面为磁芯本体(1)的长度方向(X)和高度方向(Z)所在的平面，顶面为磁芯本体(1)的长度方向(X)和宽度方向(Y)所在的顶面。倒角(2)在高度方向(Z)的尺寸大于其在宽度方向(Y)的尺寸。在本实用新型中，通过对磁芯的结构进行改进，在磁芯本体的正面与顶面、背面与顶面的过渡处设置倒角，避免了因磁芯相互挤压碰撞而导致磁芯顶端磨面的掉块现象，提高了产品的合格率，并保证了磁芯电磁特性的稳定性。
文档编号H01F41/02GK202258624SQ201120313018
公开日2012年5月30日 申请日期2011年8月25日 优先权日2011年8月25日
发明者李前军, 蔡中德 申请人:天长市中德电子有限公司