专利名称：用于制造半导体器件的方法和用于制造半导体器件的装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于制造半导体器件的方法和用于制造半导体器件的装置。
背景技术：
其中由大量晶体管或电阻器和功率半导体器件构成的电路被集成在芯片上的功率集成电路(IC)已经被广泛地用作计算机和通信设备的重要组件。IGBT (绝缘栅双极型晶体管)是组合MOSFET (M0S栅场效应晶体管)的高速开关和电压驱动特性与双极晶体管的低导通(ON)电压特性的功率半导体器件。IGBT广泛应用于エ业领域中，如通用逆变器、AC服务器或不间断电源(UPS)、以及开关电源，且还用于诸如微波炉、电饭锅和频闪观测器之类的家用电器。下一代绝缘栅双极晶体管的开发已经取得进展，研发出了使用新颖芯片结构且具有更低导通电压的晶体管，并寻求应用设备的损失 减少和效率增加。IGBT结构可以是穿通(PT)型、非穿通(NPT)型、以及场阻断(FS)型。实践中目前被量产的所有IGBT (除了用于音频功率放大器的ー些P-沟道IGBT之外)具有n-沟道垂直双层扩散结构。在如下描述中，除非另有所指IGBT将被假设为n-沟道IGBT。PT-型IGBT具有其中n+层(n+缓冲层)设置在p+外延衬底(p+集电极层)和n_层(n_型活性层)之间且位于n_型活性层中的耗尽层达到n缓冲层的结构，这是IGBT的主流基本结构。然而，例如，对于具有600V耐压性的IGBT系统而言具有约70 ii m厚度的n_活性层是足够的，不过在其中包括P+外延衬底部分的情况下，整个厚度变为约200 u m到300 u m,这太大了。相应地，NPT-型IGBT或FS-型IGBT已经被开发，其中通过使用由FZ (浮区)法形成的FZ衬底替代P+外延衬底并形成低掺杂量的浅P+集电极层减小了厚度和降低了成本。图9是示出使用低掺杂量的浅P+集电极层的常规NPT-型IGBT的主要部分的截面图。这是1/2単元的截面图。使用低掺杂量的浅P+集电极层22 (低注入P+集电极层)的NPT-型IGBT没有使用也用作支承衬底的P+外延衬底。因此，整个厚度(衬底的总厚度)基本小于PT-型IGBT中的厚度。在这样的结构中，可控制空穴的注入效率。作为结果，即使没有寿命控制，也可进行高速开关。然而，n_型活性层21的厚度大于在PT-型IGBT中的厚度且P+集电极层的注入效率较低。因此，导通电压采取较高的值。然而，如上所述，由于使用了不昂贵的FZ衬底替代了昂贵的P+外延衬底，可降低芯片的成本。在附图中出现如下附图标记1是FZ-N衬底、2是栅极氧化物膜、3是栅电极、4是P+基极层、5是n+发射极层、6是层间绝缘膜、7是发射电极、且11是背面电极(集电极电极)。在本说明书和附图中，分配给层或区域的參考标记n和p表示这些层或区域分别包括大量电子或空穴。进ー步地，分配给n或p的參考标记+和-表示掺杂剂的浓度高于或低于没有被这样分配的层中的浓度。图10是示出常规FS型IGBT的主要部分的截面图。基本结构与PT型IGBT的相同。然而，PT型IGBT使用较厚的P+外延衬底，而FS型IGBT使用FZ-N衬底I替代该p+外延衬底。结果，相对于PT型IGBT的厚度，FS型IGBT的总厚度被进ー步减小100 u m到200 u m。类似于PT型IGBT，n_活性层21被制成约70 y m以适应600V耐压并被耗尽。为此，n+场阻断层9被设置在n_活性层21之下。n+场阻断层9类似于形成于PT型IGBT中的n+缓冲层而动作。在接近于集电极的ー侧上，低掺杂量的浅P+扩散层10被用作低注入P+集电极层。结果，与NPT型IGBT的情况中一祥，不需要寿命控制。还有沟槽栅极结构的FS型IGBT，其中在芯片表面上形成窄而深的沟(槽)(未在图中示出)，且在其侧面上形成MOS栅结构，从而进ー步降低导通电压。通过设计优化等，目前已经进一步减小了衬底的总厚度。进ー步地，在没有中间DC转换的情况下进行直接AC-AC转换的矩阵转换器，已经引起了很多注意。与常规逆变器比较，这样的转换器不需要电容器且其优点在于可减少电源的高频。然而，由于输入是交流电流，对于半导体开关而言需要对反向电压的耐压性。当使用常规IGBT时，应当串联连接反向阻断型ニ极管以实现所使用设备的反向阻断。
图11是示出常规反向阻断型IGBT的主要部分的截面图。此反向阻断IGBT是在維持常规IGBT的基本性能的同时可耐受反向电压的IGBT。因此，除了存在用于赋予反向阻断能力的分隔层24 (p+层)之外，基本配置与NPT型IGBT的配置相同。由于反向阻断IGBT不需要串联ニ极管，导通损耗可减半，藉此对于提高矩阵转换器的转换效率作出了重大贡献。形成深度大于或等于IOOym的深结的技术(形成分隔层的技木)和产生厚度小于或等于100 的极薄晶片的技术(厚度减薄技木)的组合使得有可能制造高性能反向阻断IGBT。然而，为了实现总厚度为约70 的薄IGBT，有必要解决与生产相关联的问题，诸如背面的背部研磨、来自背面的离子注入、背面的热处理、以及薄晶片的翘曲。图12到18是示出用于制造常规FS型IGBT 200的方法的截面图。在图12-18中，按エ艺步骤的顺序示出制造エ艺中的半导体器件的主要部分的截面图。在衬底上形成FS型IGBT基本可分为正面侧处理和背面处理。首先，将解释正面侧处理。图15所示器件的正面结构8由栅极氧化物膜2、栅电极3、p+基极层4、n+发射极层5、层间绝缘膜6、和发射电极7构成。首先，在FZ-N衬底Ib的正面侧上沉积SiO2和有机硅聚合物，且通过使用光刻的开窗エ艺形成栅极氧化物膜2和栅电极3。结果，在FZ-N衬底Ib的正面侧上形成绝缘栅结构(M0S栅结构)(图12)。此处所称的开窗エ艺是选择性移除栅极氧化物膜2和栅电极3并暴露FZ-N衬底Ib的正面的エ艺。然后，在FZ-N衬底Ib的正面侧上形成P+基极层4，且在此P+基极层4中形成n+发射极层5。在此情况下，通过使用栅电极3作为掩模的自对准形成P+基极层4和n+发射极层5。然后在FZ-N衬底Ib的正面侧上形成BPSG (硼磷硅酸盐玻璃)且进行开窗处理来形成层间绝缘膜6 (图13)。通过开窗处理，P+基极层4和n+发射极层5被选择性地暴露。然后，沉积铝-硅膜来与n+发射极层5相接触，且形成用作发射电极7的正面电扱。为了实现稳定的接合能力和低电阻布线，在之后的步骤中在约400° C到500° C的低温下对铝-硅膜热处理。然后，通过使用聚酰亚胺等形成绝缘保护膜(在图中未示出)来覆盖FZ-N衬底Ib的正面(图14)。通过前述步骤完成正面侧エ艺，并形成正面结构8 (见图15)。然后，转换至背面侧エ艺。在背面侧エ艺中，首先，通过背部研磨或蚀刻将FZ-N衬底Ib从正面侧开始抛光至期望厚度，且减小了晶片厚度(厚度减薄)并获得薄的FZ-N衬底I (图15)。然后，依序执行磷(P)的离子注入12和硼(B)的离子注入13至FZ-N衬底I的背面Ia侧，并形成n+层9a和 P+层 IOa (图 16)。然后在电炉(在图中未示出)中进行在350° C到500° C的温度处的低温热处理，或通过来自背面Ia的激光14的照射进行激光退火。结果，激活注入有磷的n+层9a和注入有硼的P+层10a，并形成FS层9 Cn+场阻断层)和p+集电极层10。在用静电吸盘等固定FZ-N衬底I之后用激光对背面Ia进行实际照射(图17)。由诸如铝层、钛层、镍层、和金层之类的金属膜的组合构成的背面电极11被形成在P集电极层10的正面上(图18)。最后，在切片为芯片状(未在图中不出)之后，通过超声布线结合将铝线固定地附连至作为正面电极的发射电极7。预定固定元件由焊料层连接至后面电极11。藉此完成了 FS型IGBT200的制造。已经提出其中衬底进行了加热的状态下的离子注入以及在其中衬底进行了加热 的状态下的离子注入与激光退火的组合，作为用于激活掺杂层的方法(见，例如，下述专利文献I)。在使用(附加地使用)专利文献I中所述技术的情况下所用的制造装置设置有四个结构単元，即，离子注入単元、激光照射単元、光学系统反射镜、和衬底加热单元。当没有使用(没有附加地使用)专利文献I中所述的技术时，例如，四个上述结构单元中的离子注入単元用作与其他结构单元分离的组件，且该制造方法类似于例如用于制造如图12到18中所示的常规FS型IGBT 200的方法。进ー步地，用于通过使用具有不同波长的两个激光退火装置来激活离子注入层的方法已经被提出作为ー种单独的方法(见，例如，专利文献2)。进ー步地，还已经提出了 FS-IGBT的背面浓度和激活比(參见，例如，专利文献3)。图19是示出一般激光退火装置的主要部分的配置图。在图19所示的激光退火装置中，FZ-N衬底I用静电吸盘17固定、且FZ-N衬底I的背面Ia经由光系统反射镜16用激光照射単元15发射出来的激光14照射。在激光退火装置中，FZ-N衬底I的背面Ia侧因此被激光退火，来激活已引入背面Ia侧的掺杂剂。专利文献I :日本专利申请公开No. 2005-268487专利文献2 :日本专利公报No. 4043865专利文献3 :日本专利公报No. 4088011上述内容指出上述问题与常规制造方法相关联。(I)当激活比被増加从而获得FS型IGBT的FS层9中的预定扩散分布时，这不可通过电炉中的低温(350° C到500° C)热处理达到。(2)当FZ-N衬底I处于室温状态时，在激光退火中，FS层9中缺陷的修复是不充分的。(3)在一般激光退火装置中，没有设置用于加热衬底的机制。因此，为了进行问题
(2)中指示的缺陷修复，有必要単独在低温(350° C到500° C)下进行热处理。在此情况下，由于铝电极(发射电极7)已形成在正面侧上，因此在低温下进行热处理。在一般的激光退火装置中，FZ-N衬底I被固定至静电吸盘17(见图19)，且加热机构难以附连至静电吸盘17。为此，不能在其中FZ-N衬底I进行了加热的状态下进行激光退火。
(5)与专利文献I中所述方法相关联的问题在于当同时进行离子注入和激光退火时，在加热衬底时在衬底中会出现已经注入离子但没有被激光照射的区域，除非进行控制以使离子注入的持续时间基本等于激光照射的持续时间。換言之，离子注入的持续时间、激光照射的持续时间、以及这些エ艺中的芯片温度状态相互关联，不同芯片间的扩散分布不同、且器件的质量比降低。下文将描述芯片之间扩散分布的展布。图20是示出扩散分布如何变得不稳定的说明性示图。已经经受离子注入同时对经受离子注入的表面上进行激光照射的FZ-N衬底I在图20中纸面的上侧示出。通过在平行于FZ-N衬底I表面的方向101中往复移动激光器以及扫描整个衬底来持续进行照射。在图20纸面的下 侧中示出用激光照射FZ-N衬底I的激活状态的特性。在图20中的特性图中，对横坐标绘制出距离FZ-N衬底I的背面Ia的深度。在FZ-N衬底I的背面Ia中P+集电极层10和FS层9依序形成在距离背面Ia达Ium的深度。在特性图中的參考标记p和n表示P+集电极层10和FS层9。在为形成FS层9而执行的离子注入中，掺杂剂是硼(B)、加速能量是50keV、且剂量是I. OX 1015cm_2。在为形成P+集电极层10而执行的离子注入中，掺杂剂是磷(P)、加速能量是240keV、且剂量是I. OX 1013cnT2。在离子注入过程中FZ-N衬底I的温度维持在400° C。如图20中的特性图所示，在经受激光照射的区域(激光退火芯片)102中，沿实线所示的曲线111进行激活。換言之，曲线111表示其中同时进行离子注入和激光照射的情况中的激活状态。用辐射能量密度为2.8J/cm2的YAG2 层进行激光退火。換言之，在没有用激光照射的区域(没有被激光退火的芯片)103中，如用虚线表示的曲线112所示的P+集电极层10和FS层9的激活是不充分的。在其中在离子注入和激光照射同步执行的条件下，离子注入整个衬底表面所需的时间短于激光照射所需要的时间的情况下获得这样的结果。进ー步地，当在室温进行离子注入的情况下(在图中未示出芯片的平面形状)，P+集电极层10和FS层9没有被激活，如用虚线表示的曲线113所示。进ー步地，当使用(同时使用)专利文献I中所述的技术时，由离子注入単元、激光照射単元、和衬底加热单元构成制造装置。结果，制造装置的尺寸非常大。当没有使用(没有同时使用)专利文献I中所述的技术时，应该增加激光照射能量从而增加被离子注入的掺杂剂的激活比，且衬底表面可被损坏。进ー步地，当在离子注入中同时激活具有低穿透深度的掺杂剂和具有高掺杂深度的掺杂剂吋，两种类型的掺杂剂难以被有良好效率地激活。(6)上述专利文献2和专利文献3没有描述其中在离子注入后衬底加热的状态下进行激光退火的特征，这是本发明的特殊特征。
发明内容
本发明的目的在于解决相关技术中存在的上述问题，并在不负面影响器件的正面结构的情况下增加已经被离子注入背面的掺杂剂的激活比。本发明的另ー个目的是足够地修复由离子注入引起的晶体缺陷并获得期望的扩散分布。为了解决上述问题并实现本发明的目的，用于根据本发明制造半导体器件的方法包括将掺杂剂离子注入至半导体衬底，并通过激光退火激活所述掺杂剂，同时加热半导体衬底。进ー步地，为了解决上述问题并实现本发明的目的，根据本发明的用于制造半导体器件的方法具有如下特征。首先，在半导体衬底(例如FZ-N衬底)的第一主面上执行形成正面结构的步骤，所述正面结构诸如半导体器件(例如，FS-IGBT)的发射极层和栅电极。然后，进行研磨半导体衬底的第二主表面并减薄半导体衬底厚度的步骤(也称为膜厚减薄)。然后，进行将掺杂剂(例如，磷或硼)离子注入至作为厚度被减薄后的半导体衬底的第ニ主表面的后表面的步骤。然后，通过用激光照射第二主面激活该掺杂剂并在其中厚度被减薄后的半导体衬底进行了加热的状态下进行激光退火的步骤。根据本发明，通过在加热情况下进行激光退火，有可能増加激活比。进ー步地，使用根据本发明的用于制造半导体器件的方法，上述本发明中的半导体衬底的加热温度为100° C到500° C。根据本发明，在加热温度在上述范围内的情况下，已经被离子注入于衬底背面中的掺杂剂可在不会不利地影响已经被形成于衬底正面上的半导体器件的正面结构的情况下被激活。
通过根据本发明的用于制造半导体器件的方法，在上述本发明的激光退火中使用的激光的波长为200nm到900nm。根据本发明，在波长在上述范围内的情况下，可充分激活扩散深度大至约I U m的掺杂剂。通过根据本发明的用于制造半导体器件的方法，上述本发明中的激光的照射能量密度为1.2/0112至幻/0112。根据本发明，在照射能量密度在上述范围内的情况下，可増大已被离子注入背面的掺杂剂的激活比。当照射能量密度在上述范围外吋，高激活比难以获得或在正面结构上产生不利影响。通过根据本发明的用于制造半导体器件的方法，在上述发明中激光由YAG 2 激光和半导体激光构成。根据本发明，通过上述激光组合，可能获得宽范围内的激光波长并以较好效率和较高激活比激活具有较小扩散深度的扩散层(P+集电极层等)和深扩散层(FS层)。为解决上述问题并实现本发明的目的，根据本发明的用于制造半导体器件的装置包括支承半导体衬底的支承単元；用激光照射半导体衬底的照射単元；以及加热半导体衬底的加热单元。根据本发明，通过具有上述构造的用于制造半导体器件的装置，获得具有加热机构的激光退火装置。通过根据本发明的用于制造半导体器件的装置，支承単元和加热单元在上述发明中被集成以构成衬底加热单元(举例而言诸如加热板之类)，且具有导板来固定半导体器件并加热半导体衬底。根据上述发明，其中在离子注入层的激活过程中加热衬底，呈现其中在加热的效果下容易激活离子注入层的状态。在此情况下，当执行激光照射时，相对于从室温执行激光退火的情况下，増加了热对激活的效果且促成了激活。在距离激光照射面较深的层上产生加热衬底的特别显著的效果，因为激光照射的热不可能会穿透这些层。这样的方法对于激活FS层是有效的。进ー步地，可充分修复离子注入层中的晶体缺陷。此外，由于在激光退火过程中正面结构的温度被維持在低于或等于500°C，对发射电极没有产生不利效果(氧化、熔化等)。结果，可能提供用于制造具有良好特性和高激活比的半导体器件的方法。进ー步地，通过使用配备有衬底加热单元的激光退火装置，有可能在不使用一般电炉的情况下执行充分激活。因此，可能提供可以低成本实现高激活的用于制造半导体器件的装置。另外，一般电炉(扩散炉等)比衬底加热单元(加热板)更昂贵。根据本发明的半导体装置展现的效果是，在不会不利地影响器件的正面结构的情况下，已经被离子注入背面中的掺杂剂的激活比可増大。另ー个效果是因为可充分修复通过离子注入引起的晶体缺陷，可以较小展布(spread)获得所期望的扩散分布。
图I是示出根据实施例I的用于制造半导体器件的方法的截面图。
图2是示出根据实施例I的用于制造半导体器件的方法的截面图。图3是示出根据实施例I的用于制造半导体器件的方法的截面图。图4是示出根据实施例I的用于制造半导体器件的方法的截面图。图5是示出FS型IGBT 100的扩散分布的特性图。图6是示出使用照射能量密度作为參数的FS层的厚度和衬底温度之间的关系的特性图。图7是示出使用激光器的组合作为參数的FS层的厚度和衬底温度之间的关系的特性图。图8是示出根据实施例2的用于制造半导体器件的装置的主要部分的配置图。图9是示出使用低掺杂量的浅P+集电极层的常规NPT型IGBT的主要部分的截面图。图10是示出常规FS型IGBT的主要部分的截面图。图11是示出反向阻断型IGBT的主要部分的截面图。图12是示出用于制造FS型IGBT的常规方法的截面图。图13是示出用于制造FS型IGBT的常规方法的截面图。图14是示出用于制造FS型IGBT的常规方法的截面图。图15是示出用于制造FS型IGBT的常规方法的截面图。图16是示出用于制造FS型IGBT的常规方法的截面图。图17是示出用于制造FS型IGBT的常规方法的截面图。图18是示出用于制造FS型IGBT的常规方法的截面图。图19是示出常规激光退火装置的主要部分的配置图。图20是示出扩散分布如何变得不稳定的说明性示图。用于实现本发明的最佳模式下文将參考附图更为详细地说明用于制造半导体器件的方法和用于制造半导体器件的装置的优选实施例。在本说明书和附图中，分配给层或区域的參考标记n和p表示这些层或区域分别包括大量电子或空穴。进ー步地，分配给n或p的參考标记+和-表示掺杂剂的浓度高于或低于没有这样分配到标记的层中的浓度。在下文的优选实施例的描述和附图中，类似的组件分配有类似的參考标记且该处省略其冗余说明。(实施例I)
图I到图4是示出根据实施例I的用于制造半导体器件的方法的截面图。在图1-4中，按エ艺步骤的顺序示出制造エ艺中的半导体器件的主要部分的截面图。考虑FS型IGBT 100 (见图4)作为半导体器件的示例。在制造エ艺中，对正面侧执行的エ艺与常规エ艺ー样(见图12到14)。因此，此处仅解释背面侧エ艺。与常规配置的部分相同的部分分配有相同的附图标记。在FZ-N衬底Ib上形成正面结构8。然后，如图14中所示，FZ-N衬底Ib通过背部研磨或蚀刻来抛光至距离FZ-N衬底Ib的背面侧达期望厚度，且获得薄晶片。结果，获得薄膜FZ-N衬底I。此衬底类似于图15中所示的FZ-N衬底I。然后，从FZ-N衬底I的背面Ia起依序执行磷(P)的离子注入12和硼(B)的离子注入13，并在FZ-N衬底I的背面Ia上形成n+层9a和p+层10a。換言之，在n+层9a的正面侧上形成P+层10a。为了确保与背面电极(在图中未示出)的欧姆接触，可将BF2注入P+集电极层10以形成p++层(图2)。
然后，FZ-N衬底I被置于衬底加热单元31 (例如，加热板)上，从而其背面Ia面朝上且FZ-N衬底I的正面侧与衬底加热单元相接触。然后在通过衬底加热单元31的热18将FZ-N衬底I的温度维持(达约5分钟)在100°C到500°C之间的恒定水平处的状态下，从FZ-N衬底I的背面Ia执行通过激光14照射的激光退火，n+层9a和p+层IOa (见图2)被激活且形成FS层9 Cn+场阻断层)和P+集电极层10。激光退火的优选条件如下激光14的波长处于200nm到900nm的范围内且激光14的照射能量密度在I. 2J/cm2到4J/cm2的范围内。进ー步地，执行热处理工艺从而P+基极层4或n+发射极层5的扩散分布没有改变，发射电极7没有被氧化和熔化。換言之，执行激光退火从而对于正面结构没有产生不利影响(图3)。通过在P+集电极层10的表面上层叠诸如铝层、钛层、镍层、和金层之类的金属膜来形成背面电极(发射电极)11 (图4)。最后，尽管在图中没有示出，在执行分割以获得芯片状形状之后，通过超声布线结合将铝线固定地附连至作为正面电极的发射电极7，且通过焊料层将预定的固定元件(例如，要固定至基底底部的Cu基底)连接至背面电极11。結果，获得了如图4中所示的FS型IGBT 100。(示例)下文将说明离子注入和激光退火的优选条件。图5是示出FS型IGBT 100的扩散分布的特性图。扩散分布是通过SR (扩展阻杭)法测得的浓度分布。根据实施例1，制造了在制造エ艺过程中具有不同衬底温度的两种类型的FS型IGBT 100。衬底温度是(a)室温(未加热；图5中的虚线)和(b)300°C (衬底进行了加热；图5中的实线)。其他条件如下。在衬底温度已经达到预定温度之后，衬底被允许放置达5分钟，然后通过用激光照射衬底的背面来执行激光退火。使用YAG 2 激光器作为激光器，激光的照射能量密度为4J/cm2，且脉冲宽度为100ns。离子注入条件如下成为P+集电极层10的硼层的离子注入剂量是IX 1015cm_2、カロ速电压为50keV，成为FS层9的磷层的离子注入剂量是I X IO12CnT2、且加速电压为700keV。在所有情况下离子注入过程中的倾斜角为7°。图5中所示的结果表示FS层9的激活在(b)300° (衬底进行了加热)的情况下强于(a)室温(未加热)情况下。进ー步地，由于离子注入和激光退火作为单独エ艺执行，如前所述，可在已经事先维持在预定温度的加热板31被放置在FZ-N衬底I上且衬底中的温度分布变得均匀且不变的状态下，进行激光退火。结果，形成在FZ-N衬底I上的IGBT具有均匀温度；对于所有的IGBT获得不取决于FZ-N衬底I上的形成位置的均匀特性。图6是示出FS层的厚度和衬底温度之间的关系(对此，采用照射能量密度作为參数)的特性图。根据实施例I，通过改变衬底温度和照射能量密度制造多个FS型IGBT 100。在此情况下，当经离子注入的FZ-N衬底I在电炉中在900°C的温度下退火达30分钟时获得的FS层9的扩散深度(图6中的直线30)被取作为100%。离子注入条件如下成为P+集电极层10的P+层IOa (硼层)的离子注入剂量是lX1015cm_2、加速电压为50keV，成为FS层9的n+层9a (磷层)的离子注入剂量是1父1012011_2、且加速电压为7001^。在所有情况下在离子注入过程中的倾斜角为7°。以四个不同照射能量密度(lj/cm2、l. 2J/cm2、2. 6J/cm2、和4J/cm2)和五个不同衬底温度(100° C、200° C、300° C、400° C、和500° C)作为參数，从FZ-N衬底I的背面Ia执行激光退火。已通过实验确认，在电炉中的退火过程中激光退火中的扩散深度应该为 70%,从而获得功能性的FS层9。图6中所示的结果表示lj/cm2的照射能量密度不足以获得大于或等于70%的FS层9的深度(来充分地激活FS层9)，且照射能量密度应该大于或等于I. 2J/cm2。同吋，当照射能量密度超过4J/cm2时(在图中未示出)，即使在较低衬底温度下，FS层9的深度也达到70%。然而，在此情况下，照射能量密度可能太高，且用激光14照射的表面可被软化且熔化。因此，优选的是照射能量密度在从I. 2J/cm2到4J/cm2的范围内。在其中照射能量密度处于从I. 2J/cm2到4J/cm2范围内的情况下，衬底温度可高于或等于200°C。然而，当衬底温度变为高于500°C时，作为正面电极(发射电极7)的铝电极可被氧化且被软化。因此，优选的是衬底温度处于从200° C到500° C的范围内。图7是示出使用激光器的组合作为參数的FS层的厚度和衬底温度之间的关系的特性图。通过改变衬底温度和激光器类型，根据实施例I制造多个FS型IGBT。在此情况下，以不变的照射能量密度进行激光退火。照射能量密度是，例如，4J/cm2。离子注入的条件与图6中所示的情况相同。衬底温度是以下五种类型100° C、200° C、300° C、400° C、和500° C。作为參数的激光器是以下三种类型单个YAG 2 激光器(脉冲宽度100ns)(■标志的多边形线)、具有延迟时间500ns的两个YAG 2 激光器(脉冲宽度100ns) ( 标志的多边形线)、以及YAG 2 w激光器(脉冲宽度100ns)和半导体激光器(波长794nm)的组合(▲标志的多边形线)。图7中的结果示出硅(Si)对于激光14的吸收最高，激光14的穿透长度较大，且在YAG 2 w激光器(脉冲宽度100ns)和半导体激光器(波长794nm)的组合(▲标志的多边形线)的情况下，FS层可具有良好稳定性和再现性地形成为最大深度。此处使用的半导体激光(DC照射)持续地发射辐射，同时在YAG2 Co激光器的照射周期(脉冲辐射)内扫描整个衬底。如以下根据图7，通过YAG 2 激光器和半导体激光器的组合，在衬底温度100° C处，FS层9的深度为80%。在两个YAG 2 激光器( 标志的多边形线)的情况下，在100°C的衬底温度下FS层9的深度为70%。清楚的是通过在加热衬底状态下增加激光器的数量(在本实施例中，为具有4J/cm2的总能量密度的两个激光器)、并且进行具有Ons到IOOOns (在本实施例中，500ns)范围内的延迟时间的照射，可获得高激活比。同时，清楚的是在单个YAG 2o激光器(脉冲宽度IOOns) ( ■标志的多边形线)的情况下，FS层9的激活比低于在YAG 2 激光器(脉冲宽度IOOns)和半导体激光器(波长794nm)的组合以及两个YAG 2 激光器的情况下的激活比。TEM (透射电子显微镜)图像(在图中未示出)确认，由于FS层9的深度接近通过电炉中的退火获得的扩散深度(100%的深度)，FS层9的离子注入区域中的晶体缺陷被修复。晶体缺陷的这种修复假设是由于用构成晶格的Si原子替换了作为缝隙缺陷引入的掺杂剂原子。进ー步地，当用TEM图像检验晶体缺陷修复エ艺且从FS层9的深度的角度来检验掺杂剂的激活时(与100%深度的偏离)，发现两个エ艺同时进行。进ー步地，TEM图像检验的结果展示了在晶体缺陷修复方面，衬底的加热也是有效的。两个激光器，即，半导体激光器和作为固态激光器的YAG 2 w (波长532nm)激光器、被用于本示例中。固态激光器可以是YLF 2 (波长527nm)、YV04 (2 )(波长532nm)，YAG3 w ,YLF 3 w、和 YV04 (3 w)。进ー步地，诸如 XeCL (波长 308nm)、KrF (波长 248nm)、和 XeF(波长351nm)之类的准分子激光器可被用来替代上述固态激光器。进ー步地，激光退火中使用的激光14的波长可在200nm到900nm的范围内。选择这样的范围可被说明如下。当激光14的波长小于200nm时，激光14的穿透深度较小，退火范围变成最上面的表面层，且对于退火具有较大扩散深度的FS层9，这样的波长是不够的。进ー步地，在激光14的波长超过900nm的情况下，激光14的吸收范围变得深于FS层9且P+集电极层10和FS层9的激活比大大地减小。衬底加热的有效性被说明如下。当在离子输入层的激活过程中加热FZ-N衬底I的情况下，呈现其中离子注入层容易被激活的状态。在此情况下执行激光照射时，相对于从室温执行激光退火的情况下，増加了热对激活的影响且促进了激活。在距离激光照射面较深的层上产生加热衬底的特别显著的效果，因为激光照射的热不可能会穿透这些层。因此，加热衬底的エ艺对于激活FS层9是有效的。进ー步地，根据本发明，离子注入和激光退火是单独的エ艺。因此，在执行激光照射前，衬底温度可被维持在预定水平。作为结果，可减少形成于FZ-N衬底I上的IGBT的特性的展布。结果，可增加FS型IGBT 100的质量比。实施例I和示例的内容可被归纳如下。(I)如下激光退火条件是优选的激光14的照射能量密度为从I. 2J/cm2到4J/cm2,且衬底温度在100° C到500° C的范围内。(2)当仅用诸如YAG 2 激光器之类的固态激光器、而不使用与半导体激光器的组合来执行激光退火时，激光14的照射能量密度可在从I. 2J/cm2到4J/cm2的范围内，且衬底温度可在200° C到500° C的范围内，优选的是激光的照射能量密度可在从2. 6J/cm2到4J/cm2的范围内，且衬底温度可在300° C到500° C的范围内(见图6)。(3)在诸如YAG 2 激光器之类的固态激光器与半导体激光器相组合的情况下，且当使用诸如YAG 2 Co激光器之类的多个固态激光器吋，当照射能量密度为4J/cm2吋，衬底温度可在100° C到500° C的范围内。衬底温度在200° C到500° C的范围内是优选的(见图7)。(4)激光的波长优选地位于从200nm到900nm的范围内。
(5)通过实现(I)到(4)的特征，有可能获得所期望的扩散分布。在本示例中，说明了 FS型IGBT，不过这样的选择并不是限制性的。例如，本发明还可应用于NPT型IGBT的P+集电极层、反向阻断IGBT的p+集电极层、功率MOSFET的n漏极层的形成，且还可被应用于功率IC的背面扩散层(用于确保与背面电极的欧姆接触的高浓度扩散层)的形成。在这样的应用中展示的效果与用上述FS型IGBT获得的效果类似。如上所述，根据实施例1，其中在离子注入层(P+集电极层10和FS层9)的激活过程中加热衬底，呈现其中在加热的效果下容易激活离子注入层的状态。在此情况下执行激光照射时，相对于从室温执行激光退火的情况下，増加了热对激活的影响且促进了激活。在距离激光照射面较深的层上产生加热衬底的特别显著的效果，因为激光照射的热不可能会穿透这些层。这样的方法对于激活FS层9是有效的。进ー步地，可充分修复离子注入层中的晶体缺陷。所得到的效果是可以较小展布获得期望的扩散分布。此外，由于在激光退火过程中正面结构的温度被控制在低于或等于500°C，对发射电极没有产生不利效果(氧化、熔化等)。因此，可能増加已被离子注入背面中的掺杂剂的激活比，而不会不利地影响器件 的正面结构。 (实施例2)图8是示出根据实施例2的用于制造半导体器件的装置的主要部分的配置图。在图8所示的制造装置中，执行激光退火来激活经离子注入的掺杂剂。此制造装置由激光照射単元15、引导激光14至FZ-N衬底I (晶片)的光学系统反射镜16、加热FZ-N衬底I的衬底加热单元31、以及将FZ-N衬底I固定至衬底加热单元31的导板31 (爪)。图8所示的制造装置被用于例如根据实施例I制造半导体器件。通过设置将FZ-N衬底I固定至衬底加热单元31的导板32，可实现用于支承FZ-N衬底I的支承单元的功能和用于加热FZ-N衬底I的加热单元的功能。通过图8所示的制造装置，在加热衬底的同时可通过激光束照射执行激光退火。衬底加热单元31是例如实现温度控制的加热板，且用于固定FZ-N衬底I的导板32被附连至衬底加热单元31。优选的是在衬底加热过程中衬底(晶片)的外围处的4-mm区域被固定，以防止在热效应下FZ-N衬底I翘曲。衬底加热单元可不仅是上述的加热板，还可以是将热空气吹在衬底上的热空气喷吹単元，或通过将诸如远IR辐射之类的热辐射辐射至衬底来加热衬底的远IR辐射发射单元。这些热空气喷吹単元和远IR辐射发射単元是用于加热衬底的装置。已在一般激光退火装置中使用的静电吸盘或真空吸盘可被用作用于在加热过程中支承衬底的単元。图8所示的制造装置是配备有用于加热衬底的加热板的激光退火装置，且不包括在专利文献I所述的制造装置中使用的离子注入単元。因此，制造装置的尺寸可被大大地减小。进ー步地，通过使用配备有衬底加热单元的激光退火装置，可在短时间内有效地激活已经被离子注入衬底的背面中的掺杂剂，而不使用一般的电炉。进ー步地，由于不需要昂贵的电炉(扩散炉)，可降低制造成本。如上所述，根据实施例2，通过使用配备有衬底加热单元31的激光退火装置，即使在不使用一般电炉的情况下，也可执行充分激活。因此，可提供可以低成本确保高激活度的用于制造半导体器件的装置。进ー步地，由于不必使用比衬底加热单元(加热板)31贵得多的一般电炉(扩散炉等)，可降低生产成本。
本文中通过将FS型IGBT作为示例来说明本发明，但是上述实施例并不是限制性的，且本发明还可被应用于功率if (集成电路)Jpmosfet (mos栅场效应晶体管)。进ー步地，也可使用其中n和p型全部反转的配置。エ业实用性如上所述，根据本发明的用于制造 半导体器件的方法和用于制造半导体器件的装置适用于制造诸如功率IC、M0SFET、和IGBT之类的半导体器件。附图标记说明IFZ-N衬底(在厚度减薄后)Ia 背面IbFZ-N衬底(在厚度减薄前)2栅氧化物膜3栅电极4 P+基极层5n+发射极层6层间绝缘膜7发射电极(正面电极)8正面结构9 FS层(n+场阻断层)10 P+集电极层11背面电极(集电极电极)12磷的离子注入13硼的离子注入14 激光15激光照射単元16光学系统反射镜18 热21 rT型活性层22 P+集电极层31衬底加热单元32 导板
权利要求
1.一种用于制造半导体器件的方法， 所述方法包括 离子注入掺杂剂至半导体衬底，并通过激光退火激活所述掺杂剂，同时加热所述半导体衬底。
2.一种用于制造半导体器件的方法， 所述方法包括 在半导体衬底的第一主面上形成半导体器件的前面结构的步骤； 研磨所述半导体衬底的第二主面并减薄所述半导体衬底的厚度的步骤； 将掺杂剂离子注入至厚度被减薄后的所述半导体衬底的所述第二主面的步骤；以及通过用激光照射所述第二主面激活所述掺杂剂并在其中厚度被减薄后的半导体衬底进行了加热的状态下进行激光退火的步骤。
3.如权利要求2所述的用于制造半导体器件的方法，其特征在于，所述半导体衬底的加热温度是100°C到500°C。
4.如权利要求3所述的用于制造半导体器件的方法，其特征在于，用于所述激光退火中的激光的波长是200nm到900nm。
5.如权利要求4所述的用于制造半导体器件的方法，其特征在于，所述激光的照射能量强度为I. 2J/cm2到4J/cm2。
6.如权利要求2所述的用于制造半导体器件的方法，其特征在于，所述激光由YAG2 激光和半导体激光构成。
7.一种用于制造半导体器件的装置， 所述装置包括 支承半导体衬底的支承単元； 用激光照射所述半导体衬底的照射単元；和 加热所述半导体衬底的加热单元。
8.如权利要求7所述的用于制造半导体衬底的装置，其特征在于，所述支承単元和所述加热単元被集成以构成衬底加热设备，所述衬底加热设备具有固定所述半导体器件的导件并加热所述半导体衬底。
全文摘要
FZ-N衬底(1)的背面(1a)被离子注入磷和硼。然后，FZ-N衬底(1)的背面(1a)通过激光(14)的照射被激光退火，同时FZ-N衬底(1)通过衬底加热设备(31)保持在从100℃到500℃的范围内的预定温度。结果，形成FC层(9)和p+集电极层(10)。通过进行激光退火，在加热FZ-N衬底(1)时，可增加离子注入的磷和硼的激活比并获得所期望的扩散分布。结果，可增加已被离子注入FZ-N衬底(1)的背面(1a)的掺杂剂的激活比，而不会不利地影响FS型IGBT的前面结构。进一步地，可充分修复由离子注入引起的晶体缺陷，并可获得预定扩散分布。
文档编号H01L29/739GK102741982SQ20118000800
公开日2012年10月17日 申请日期2011年1月27日 优先权日2010年2月4日
发明者中泽治雄 申请人:富士电机株式会社