专利名称：具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法
技术领域：
本发明涉及一种制备具有张应变的绝缘体上锗(GOI)薄膜的方法，尤其是涉及一种与硅传统工艺相兼容，在绝缘体上硅(SOI)衬底上外延锗硅(SiGe)合金薄膜，刻蚀出台面图形，在周围淀积介质薄膜作为保护区，然后选择性氧化图形区域的SiGe，制备具有张应变的GOI薄膜的方法。
背景技术：
锗材料具有高的载流子迁移率，有可能成为未来微纳特征尺寸集成电路金属-绝缘体-半导体(MOSFET)器件的沟道材料。在锗中引入应变，将进一步提高其载流子迁移率，获得高性能的应变Ge MOSFET器件。另一方面，锗材料的导带直接带与间接带带底相差很小，室温下仅为140meV，理论研究表明，在张应变的作用下，导带直接带底向下移动较间接带导带底快，两者相差进一步减小。当张应变达到I. 7%时，直接带与间接带底发生反转，变为准直接带材料，可能成为制备硅基发光器件的重要材料。应变锗在微电子和光电子集成器件领域将发挥重要的作用，然而在锗中引入张应变的技术仍在探索中。目前，提高锗张应变的方法主要有以下几种一是利用硅和锗之间的热失配，在娃基上外延锗材料产生张应变([I] J. Liu, D. D. Cannon, K. Wada, Y. Ishikawa,S. Jongthammanurak, D. T. Danielson, J. Michel, L. C. Kimerling, Appl Phys Lett,87(2005)011110 ； [2]Y. Ishikawa, K. Wada, J. Liu, D. D. Cannon, H. C. Luan, J. Michel,L. C. Kimerling, Journal of applied physics, 98 (2005) 013501)。这种方法存在的问题是达到的最大应变值为0.25%，仍不能实现Ge的准直接带结构。二是采用机械应力的方法([3]M. El Kurdi, H. Bertin, E Martincic, M. de Kersauson, G. Fishman,S. Sauvage, A. Bosseboeuf, P. Boucaud, Appl Phys Lett, 96 (2010) 041909 ； [4] T. H. Cheng,K. L. Peng, C. Y. Ko, C. Y. Chen, H. S. Lan, Y. R. Wu, C. Liu, Η. H. Tseng, Appl Phys Lett,96 (2010) 211108)，通过晶片弯曲提高其张应变，这一类方法获得的应变不稳定，且无法用于集成芯片。三是在GaAs衬底上利用组分渐变的InxGahAs缓冲层技术外延生长张应变 Ge ([5] Y. Huo, H. Lin, R. Chen, M. Makarova, Y. Rong, Μ. Li, Τ. I. Kamins, J. Vuckovic,J. S. Harris, Appl Phys Lett，98 (2011) 011111)，虽然可以得到 2. 33% 的张应变，然而这种方法不能与硅基成熟的生产工艺相兼容。
发明内容
本发明的目的在于针对目前存在的提高Ge张应变的方法无法用于集成芯片以及与传统的硅工艺不相兼容的缺点，提供一种具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法。本发明的技术方案是首先在SOI衬底上外延生长一定厚度的SiGe薄膜，样品清洗后采用传统的光刻和刻蚀工艺得到SiGe的台面图形结构；然后利用等离子体增强化学汽相淀积设备沉积一层Si3N4作为保护区，以防止氧气对SiGe侧面进行氧化；采用常规电阻式加热氧化炉对样品进行选择性氧化得到具有张应变的GOI单晶薄膜。
本发明包括以下步骤I)在SOI衬底上生长一层Si/SiGe/Si三明治结构；2)对Si/SiGe/Si三明治结构进行光刻、刻蚀处理后，再沉积保护层，然后采用剥离工艺去掉光刻胶；3)对样品进行选择性氧化和退火，得到局部GOI。在步骤I)中，所述生长可采用分子束外延或化学汽相沉积法，首先在SOI衬底上外延生长SiGe合金薄膜，对样品进行清洗去除有机污染物，氧化物和金属杂质等物质；表面Si层在氧化过程中起到保护锗流失的作用， 所述SiGe合金薄膜的Ge组份在O I之间，Ge层的厚度可为5 50nm。在步骤2)中，所述光刻的台面尺度可小于100 μ m ;所述刻蚀的深度为到达SOI衬底的隐埋SiO2层；所述沉积Si3N4保护层可利用高真空化学汽相淀积设备沉积一层介质材料为Si3N4或SiO2等绝缘介质材料保护层。在步骤3)中，所述对样品进行选择性氧化和退火可采用常规电阻式加热氧化炉对样品进行选择性氧化和退火；所述氧化的温度小于SiGe层的熔点；锗的张应变可以达到
O.62%。所述制备方法可用于Ge沟道MOSFET器件和Ge光电子器件制备工艺流程中。张应变GOI薄膜是通过局部选择性氧化的方式将SOI衬底上的SiGe进行氧化并且引入张应变制备生成的纳米级别GOI薄膜，可以用于制作硅基电子或光电子器件。本发明采用SOI衬底上外延生长的Si/SiGe/Si三明治结构作为初始材料，一方面材料外延生长方便，技术成熟，另一方面材料生长的时间短。由于刻蚀台面周围淀积了 Si3N4介质，在氧化的过程中，台面的侧壁不被氧化，氧化将从顶层Si开始向衬底方向进行。SiGe的氧化具有选择性氧化Si形成SiO2, Ge不被氧化，凝聚在界面并向衬底隐埋SiO2层扩散的特点，所以氧化合适的时间，最终将生成GOI薄膜。由于在高温氧化的过程中，氧化SiGe形成的SiO2层体积膨胀，在生长方向上给Ge层作用力，且与Si3N4层以及隐埋的5102层之间产生相互作用力。由于各层热膨胀系数不同，Ge的热膨胀系数最大，在高温下SiO2层具有粘滞性，氧化后样品冷却到室温时，促使生成的Ge薄膜产生张应力，张应力可以达到O. 62%。本发明是一种简易、低成本、与硅传统工艺相兼容的制备具有张应变GOI薄膜的新方法。为了提高锗薄膜的张应变，同时又与成熟的硅工艺流程相兼容，本发明提出了在SOI衬底上外延SiGe合金薄膜，刻蚀出台面图形，在周围淀积介质薄膜作为保护区，然后选择性氧化图形区域的SiGe，制备具有较高应变的GOI材料的方法。已有的提高锗张应变的方法都存在工艺条件要求高、难与传统硅工艺相兼容等缺点。本发明提供一种与传统硅工艺生产相兼容且能有效提高锗张应变的方法。
图I为本发明制备具有张应变的GOI薄膜的流程示意图。图2为GOI薄膜拉曼(Raman)谱测试结果。在图2中，横坐标为拉曼位移Ramanshift (cm-1)，纵坐标为强度 Intensity (a. u.);曲线 a 为 Strained GOL,曲线 b 为 bulkGe ;G0I材料的Ge-Ge模与体Ge材料相比向低能方向移动，表明GOI薄膜受张应变，测出GOI薄膜所受张应变为0.62%。
具体实施例方式以下实施例将结合附图对本发明作进一步的说明。实施例I :图I给出本发明制备具有张应变的GOI薄膜的流程示意图。其中1 3为SOI衬底；具体1为硅衬底，2为SiO2层，3为绝缘体上硅层；4为采用超高真空化学汽相淀积系统外延生长Si/SiGe/Si三明治结构；5为光刻胶；6为Si3N4层；7为氧化生成的Ge层；8为氧化生成的SiO2层。
在SOI衬底上外延生长Si/SiGe/Si三明治结构；对样品进行硅片标准清洗，涂上厚度约2μπι的光刻胶；再利用光刻版进行光刻；接着用等离子体ICP干法刻蚀到隐埋的SiO2层；利用高真空薄膜淀积设备先沉积一层Si3N4作为保护区；然后采用剥离技术去除多余的光刻胶及其上的Si3N4 ;最后利用常规电阻式加热氧化炉对样品进行选择性氧化得到GOI薄膜。实施例2 :与实施例I类似，其区别在于所采用的材料为通过其它方式制备的Si/SiGe/Si三明治结构。
权利要求
1.具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤 1)在SOI衬底上生长一层Si/SiGe/Si三明治结构； 2)对Si/SiGe/Si三明治结构进行光刻、刻蚀处理后，再沉积保护层，然后采用剥离工艺去掉光刻胶； 3)对样品进行选择性氧化和退火，得到局部GOI。
2.如权利要求I所述的具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于在步骤1)中，所述生长采用分子束外延或化学汽相沉积法，首先在SOI衬底上外延生长SiGe合金薄膜，对样品进行清洗去除有机污染物、氧化物和金属杂质。
3.如权利要求2所述的具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于所述SiGe合金薄膜的Ge组份在O I之间，Ge层的厚度为5 50nm。
4.如权利要求I所述的具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于在步骤2)中，所述光刻的台面尺度小于ΙΟΟμπι。
5.如权利要求I所述的具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于在步骤2)中，所述刻蚀的深度为到达SOI衬底的隐埋SiO2层。
6.如权利要求I所述的具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于在步骤2)中，所述沉积Si3N4保护层利用高真空化学汽相淀积设备沉积一层介质材料为Si3N4或SiO2绝缘介质材料保护层。
7.如权利要求I所述的具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于在步骤3)中，采用电阻式加热氧化炉对样品进行选择性氧化和退火。
8.如权利要求7所述的具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，其特征在于所述氧化的温度小于SiGe层的熔点。
全文摘要
具有张应变的绝缘体上锗薄膜的制备方法，涉及一种制备具有张应变的绝缘体上锗(GOI)薄膜的方法。在SOI衬底上生长一层Si/SiGe/Si三明治结构；对Si/SiGe/Si三明治结构进行光刻、刻蚀处理后，再沉积保护层，然后采用剥离工艺去掉光刻胶；对样品进行选择性氧化和退火，得到局部GOI。
文档编号H01L21/762GK102623386SQ201210106139
公开日2012年8月1日 申请日期2012年4月12日 优先权日2012年4月12日
发明者卢卫芳, 李成, 赖虹凯, 陈松岩, 黄诗浩 申请人:厦门大学