光电子器件和用于制造光电子器件的方法

光电子器件和用于制造光电子器件的方法
【专利摘要】一种光电子器件(100)，具有：载体(102)；载体(102)上或上方的保护层(106)；保护层(106)上或上方的第一电极(110)；第一电极上或上方的有机功能层结构(112)；和有机功能层结构(112)上或上方的第二电极(114)；其中保护层(106)与载体(102)相比对于波长小于大约400nm的电磁辐射(506)而言至少在一定波长范围中具有更低的透射；并且其中保护层(106)具有玻璃。
【专利说明】光电子器件和用于制造光电子器件的方法

【技术领域】
[0001]在不同的实施方式中提供一种光电子器件和一种用于制造光电子器件的方法。

【背景技术】
[0002]载体上的有机发光二极管(organic light emitting d1de-OLED)在第一电极和第二电极之间具有有机功能层结构，其中第一电极与载体接触并且在第二电极上或者上方能够沉积有封装层。电极之间的电流引起在有机功能层系统中产生电磁辐射。
[0003]有机器件的、例如有机光电子器件、例如有机发光二极管(organic lightemitting d1de 0LED)的有机的组成部分,通常关于日光的UV福射(波长小于大约400nm的电磁辐射)是易受影响的，因为该辐射会导致有机的组成部分的老化或者退化，例如借助于化学键的断开、例如在 270kJ/mol 至 290kJ/mol (E38tor4citlmi 大约 290kJ/mol 至 305kJ/mol)下断开C-0-0-H和/或借助于交联。
[0004]通常的用于保护有机光电子器件免受UV辐射的方法是:将吸收UV辐射的(吸收UV的)塑料薄膜根据光出射侧施加到衬底玻璃或者透明的覆盖玻璃上。
[0005]借助于所施加的吸收UV的塑料薄膜，光电子器件在玻璃表面的部位上具有塑料表面。由此能够降低光电子器件的外观的优点。
[0006]此外通常的塑料薄膜与玻璃相比关于表面的机械损伤、例如划伤是更敏感的，这会对光学器件和光稱合输出产生干扰作用。
[0007]此外借助于施加吸收UV的塑料薄膜、例如借助于层压在制造光电子器件时需要另外的工艺步骤，由此会延长工艺流程。


【发明内容】

[0008]在不同的实施方式中提供一种光电子器件和一种用于制造光电子器件的方法，借助于所述方法可行的是，通过保护层在波长小于大约400nm的电磁辐射方面保护光电子器件。
[0009]在本说明书的范围内，将有机物质理解为不考虑相应的聚集状态而以化学统一形式存在的、特征在于其物理和化学特性的碳化合物。此外，在本说明书的范围内，将无机物质理解为不考虑相应的聚集状态而以化学统一的形式存在的特征在于其物理和化学特性的没有碳的化合物或单碳化合物。在本说明书的范围内，能够将有机-无机物质(混合物质)理解为不考虑相应的聚集状态而以化学统一形式存在的、特征在于其物理和化学特性的具有包含碳或没有碳的化合物部分的化合物。在本说明书的范围内，将术语“物质”理解为全部上述物质、例如有机物质、无机物质和/或混合物质。此外，在本说明书的范围内，将物质混合物例如理解为其组成部分由两种或更多种不同物质构成，所述物质的组成部分例如极其精细地分布。将由一种或多种有机物质、一种或多种无机物质或一种或多种混合物质构成的物质或物质混合物理解为物质分类。术语“材料”能够理解为与“物质”同义。
[0010]在不同的实施例中提供一种光电子器件，所述光电子器件具有:载体；在载体上或上方的保护层；在保护层上或上方的第一电极；在第一电极上或上方的有机功能层结构和在有机功能层结构上或上方的第二电极，其中保护层与载体相比对于波长小于大约400nm的电磁辐射而言至少在一定波长范围中具有更低的透射；并且其中所述保护层具有玻璃。
[0011]在一个设计方案中，载体能够面状地构成。
[0012]在又一个设计方案中，载体能够具有软玻璃或者由其形成。
[0013]在又一个设计方案中，软玻璃能够是钙钠硅酸盐玻璃。
[0014]因此直观上能够提供特殊的玻璃作为在不同的实施方式中具有UV防护特性的保护层，所述玻璃关于波长小于大约400nm的电磁福射而言至少在一定波长范围中与载体、例如载体玻璃相比具有更低的透射。如在下文中更详细阐述的那样，这样的特殊的玻璃还设有附加的颗粒，所述颗粒同样能够具有吸收UV的特性并且能够附加地作为散射颗粒散射可见波长范围中的光。
[0015]在又一个设计方案中，保护层在载体上或上方能够具有由熔化的玻璃焊料粉末构成的层或者由其形成，其中熔化的玻璃焊料粉末与载体相比具有固有更低的UV透射。借助于熔化的玻璃焊料层的更低的UV透射，在此能够构成对于保护层上或上方的层的UV防护。保护层的熔化的玻璃焊料相对于载体的更低的UV透射例如能够借助于对于UV辐射的更高的吸收和/或反射构成。
[0016]在又一个设计方案中，保护层的玻璃焊料粉末能够具有选自下述玻璃体系中的一种物质或者物质混合物或者由其形成:含Pbo的体系:Pb0-B203、PbO-S12, PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi2O3 ;含Bi2O3的体系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0017]在又一个设计方案中，含Bi的保护层能够附加地具有选自下述物质中的物质或者物质混合物=Al2O3、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0018]在又一个设计方案中，能够给玻璃添加吸收UV的化合物作为玻璃组分。为了提高UV吸收，在玻璃熔化过程中例如能够给低熔点的玻璃、例如含铅玻璃添加具有铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物的物质或物质混合物作为玻璃混合物组成部分。吸收UV的化合物因此能够作为组成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化过程之后，玻璃能够被粉末化并且随后以覆层的形式被涂覆到载体上。已经借助于化合物改性的玻璃粉末的玻璃化能够借助于热处理构成具有固有更低的UV透射的熔化的玻璃焊料层。通过化合物改性的玻璃能够构成为具有固有UV防护的保护层或者构成为保护层的基体的物质混合物，所述物质混合物附加地能够添加有吸收UV的添加物和/或进行散射的添加物。
[0019]在又一个设计方案中，保护层的玻璃焊料粉末的物质或者物质混合物在直至最大大约600 V的温度下液化。
[0020]在又一个设计方案中，保护层能够具有基体和嵌入在所述基体中的至少一种第一类型的吸收UV的添加物，其中吸收UV的添加物关于基体和/或载体降低对波长小于大约400nm的电磁辐射在至少在一个波长范围中的透射。
[0021]具有添加物的保护层的关于载体和/或基体的更低的UV透射例如能够借助于通过吸收UV的添加物对UV辐射进行更高的吸收和/或反射和/或散射来构成。
[0022]在又一个设计方案中，保护层的基体能够具有大于大约1.7的折射率。
[0023]在又一个设计方案中，保护层的基体能够构成为是无定形的。
[0024]在又一个设计方案中，保护层的基体能够具有选自下述玻璃体系中的物质或物质混合物或者由其形成:含 PbO 的体系:Pb0-B203、PbO-S12, PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi2O3 ；含Bi2O3的体系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12 ?
[0025]在又一个设计方案中，含Bi的保护层能够附加地具有选自下述物质中的物质或者物质混合物=Al2O3、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0026]在一个设计方案中，能够给基体的玻璃添加吸收UV的添加物作为玻璃组分。为了提高UV吸收，在玻璃熔化过程中例如能够给低熔点的玻璃、例如含铅玻璃添加具有铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物的物质或物质混合物作为玻璃混合物组成部分。
[0027]在此能够将玻璃的热液化、即熔化理解为玻璃熔化过程。吸收UV的添加物能够作为组成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化过程之后玻璃能够被粉末化，以覆层的形式施加到载体上并且紧接着借助于热处理来玻璃化。
[0028]在又一个设计方案中，保护层的基体的物质或物质混合物在直至最大大约600°C的温度下液化。
[0029]在又一个设计方案中，吸收UV的添加物能够具有无机物质或者无机物质混合物或者由其形成。
[0030]在一个设计方案中，能够给基体添加至少一种类型的吸收UV的添加物。
[0031]在又一个设计方案中，一种类型的吸收UV的添加物能够具有选自下述物质中的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:Ti02、Ce02、Bi203、Zn0、Sn02 ;发光物质:例如掺杂Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，掺杂Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸盐、氯硅酸盐、氯磷酸盐、BAM (铝酸钡镁:Eu)和/或SCAP、卤磷酸盐以及吸收UV的玻璃颗粒、适当的吸收UV的金属纳米颗粒，其中发光物质吸收UV范围中的电磁辐射。
[0032]为了提高UV吸收例如能够给低熔点的玻璃添加吸收UV的纳米颗粒。吸收UV的纳米颗粒在熔化的玻璃焊料中不能够具有可溶性或者能够具有低的可溶性和/或不与该玻璃焊料反应或者仅困难地反应。此外纳米颗粒不会导致电磁辐射的散射或者仅导致电磁辐射的低的散射，例如是如下纳米颗粒，所述纳米颗粒具有小于大约50nm的粒度、例如由T12, CeO2, ZnO或者Bi2O3构成，其中纳米颗粒应非常好地分散在玻璃中。
[0033]在又一个设计方案中，一种类型的吸收UV的添加物能够具有选自下述物质中的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:发光物质:例如掺杂Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，掺杂Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸盐、氯硅酸盐、氯磷酸盐、BAM(铝酸钡镁:Eu)和/或SCAP、卤磷酸盐以及玻璃颗粒，其中所述发光物质或者玻璃具有在UV范围中的吸收。
[0034]在又一个设计方案中，吸收UV的添加物能够具有如下颗粒，所述颗粒具有吸收UV的玻璃或者由其形成。
[0035]吸收UV的颗粒能够具有在大约0.Ιμπι至大约10 μ m的范围中的、例如在大约0.1 μ m至大约I μπι的范围中平均粒度。
[0036]在又一个设计方案中，吸收UV的添加物在载体上或者上方在保护层中能够具有厚度从大约5nm至大约10 μ m的层片。
[0037]在又一个设计方案中，保护层的吸收UV的添加物在载体上能够具有多个彼此叠加的层片，其中各个层片不同地构成。
[0038]在又一个设计方案中，在吸收UV的添加物的层片中至少一种吸收UV的添加物的平均颗粒大小能够从载体的表面起减小，其中吸收UV的添加物也能够散射可见光。
[0039]在又一个设计方案中，吸收UV的添加物的各个层片能够具有不同的平均颗粒大小和/或对于波长小于大约400nm的电磁辐射而言至少在一定波长范围中具有不同的透射。
[0040]在又一个设计方案中，作为吸收UV的添加物的具有发光物质的保护层能够同时构成为用于转换电磁辐射的波长，其中发光物质具有斯托克斯位移并且发射具有更高波长的入射的电磁辐射。
[0041]在又一个设计方案中，基体能够具有至少一种类型的进行散射的添加物，使得保护层能够附加地构成为关于入射的、在至少一个波长范围中的电磁辐射的散射作用，例如借助于与基体不同的折射率和/或直径，所述直径大致相应于待散射的辐射的波长的大小。散射效果在此也能够与由保护层上或者上方的有机功能层系统发射的电磁辐射相关，例如以便提高光I禹合输出。
[0042]在又一个设计方案中，散射光的添加物能够附加地吸收UV辐射。
[0043]在又一个设计方案中，具有进行散射的添加物的保护层能够具有进行散射的添加物的折射率与基体的折射率的大于大约0.05的差异。
[0044]在又一个设计方案中，进行散射的添加物能够具有拱起的表面。
[0045]在又一个设计方案中，进行散射的添加物的几何形式能够具有选自下述形式的几何形式或者几何形式的一部分:球状、非球状、例如棱柱状、椭圆、中空、紧凑、小板或者小棒状。
[0046]在一个设计方案中，进行散射的添加物能够构成为如下颗粒，其中进行散射的颗粒具有在大约0.1 μ m至大约10 μ m的范围中的、例如在大约0.1 μ m至大约I μ m的范围中的平均粒度。
[0047]在又一个设计方案中，保护层的基体能够具有大于大约1.7的折射率。
[0048]在又一个设计方案中，保护层的基体能够构成为是无定形的。
[0049]在又一个设计方案中，保护层的基体能够具有选自下述玻璃体系中的物质或物质混合物或者由其形成:含 PbO 的体系:Pb0-B203、PbO-S12, PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi2O3 ；含Bi2O3的体系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12 ?
[0050]在又一个设计方案中，含Bi的保护层能够附加地具有选自下述物质中的物质或者物质混合物=Al2O3、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0051]在一个设计方案中，能够给基体的玻璃添加吸收UV的添加物作为玻璃组分。为了提高UV吸收，在玻璃熔化过程中例如能够给低熔点的玻璃、例如含铅玻璃附加有具有铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物的物质或物质混合物作为玻璃混合物组成部分。
[0052]在此能够将玻璃的热液化、即熔化理解为玻璃熔化过程。吸收UV的添加物能够作为组成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化过程之后玻璃能够被粉末化，以覆层的形式施加到载体上并且紧接着借助于热处理来玻璃化。
[0053]在又一个设计方案中，保护层的基体的物质或物质混合物在直至最大大约600°C的温度下液化。
[0054]在又一个设计方案中，进行散射的添加物能够具有无机物质或者无机物质混合物或者由其形成。
[0055]在又一个设计方案中，一种类型的进行散射的添加物能够具有选自下述物质中的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:Ti02、Ce02、Bi203、Zn0、Al203、Si02、Y203或者ZrO2。
[0056]在又一个设计方案中，一种类型的进行散射的添加物能够附加地吸收UV辐射。
[0057]在又一个设计方案中，一种类型的进行散射的添加物能够具有下述发光物质的组中的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:例如掺杂Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，掺杂Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸盐、氯硅酸盐、氯磷酸盐、BAM(铝酸钡镁:Eu)和/或SCAP、卤磷酸盐。
[0058]在又一个设计方案中，作为进行散射的添加物的具有发光材料的保护层能够同时构成为用于转换电磁辐射的波长，其中发光材料具有斯托克斯位移并且发射具有更高波长的入射的电磁辐射。
[0059]在又一个设计方案中，进行散射的添加物能够具有玻璃或者由其形成。
[0060]在又一个设计方案中，进行散射的添加物能够在载体上或上方在保护层中具有厚度大约5nm至大约10 μ m的层片。
[0061]在又一个设计方案中，保护层的进行散射的添加物在载体上能够具有多个彼此叠加的层片，其中各个层片不同地构成。
[0062]在又一个设计方案中，在进行散射的添加物的层片中至少一种进行散射的添加物的平均颗粒大小能够从载体表面起减小。
[0063]在又一个设计方案中，进行散射的添加物的各个层片能够具有不同的平均颗粒大小和/或对于电磁辐射具有不同的折射率。
[0064]在又一个设计方案中，基体的材料与载体相比能够具有固有更低的UV透射。借助于基体的更低的UV透射，能够构成用于保护层上或者上方的层的UV防护。保护层的基体相对于载体的更低的UV透射例如能够借助于对UV辐射的更高的吸收和/或反射来构成。附加地仍能够给基体添加进行散射的颗粒，所述颗粒例如不吸收UV辐射，例如是A1203、S12,Y2O3或者Zr02。对于基体的材料的UV透射关于力求达到的UV防护仍过高的情况，除了不吸收UV但是进行散射的添加物之外还例如能够给基体添加吸收UV的添加物。
[0065]在又一个设计方案中，进行散射的添加物也能够作用为或者构建为吸收UV的添加物，或者吸收UV的添加物也能够作用为或者构建为进行散射的添加物。
[0066]在又一个设计方案中，作为吸收UV的添加物的具有发光物质的保护层能够同时构成为用于转换电磁辐射的波长，其中发光物质具有斯托克斯位移并且发射具有更高波长的入射的电磁辐射。
[0067]在又一个设计方案中，保护层在层横截面中能够具有大于或者大约等于其它层的折射率的平均折射率。
[0068]在又一个设计方案中，保护层能够具有至少大约I μ m至大约100 μ m的厚度。
[0069]在又一个设计方案中，保护层能够构成为发光二极管的剖面中的层。
[0070]在不同的实施方式中提供一种用于制造光电子器件的方法，所述方法具有:在载体上或上方形成保护层；在保护层上或上方形成第一电极；在第一电极上或上方形成有机功能层结构并且在有机功能层结构上或上方形成第二电极；其中保护层构建为，使得对于波长小于大约400nm的电磁辐射而言至少在一定波长范围中保护层与载体相比对电磁辐射的透射更低；并且其中保护层具有玻璃。
[0071]在所述方法的一个设计方案中，载体能够面状地构成。
[0072]在所述方法的又一个设计方案中，载体能够具有软玻璃或者由其形成。
[0073]在所述方法的又一个设计方案中，软玻璃能够是钙钠硅酸盐玻璃。
[0074]在所述方法的又一个设计方案中，保护层在载体上或上方能够具有由熔化的玻璃焊料粉末构成的层或者由其形成，其中熔化的玻璃焊料层与载体相比具有固有更低的UV透射。借助于熔化的玻璃焊料层的更低的UV透射，在此能够构成对于保护层上或上方的层的UV防护。保护层的熔化的玻璃焊料相对于载体的更低的UV透射例如能够借助于对UV辐射的更高的吸收和/或反射来构成。
[0075]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的玻璃焊料粉末能够具有选自下述玻璃体系中的物质或物质混合物或者由其形成:含PbO的体系:Pb0_B203、PbO-S12,PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含 PbO 的玻璃焊料也能够具有 Bi2O3 ;含Bi2O3 的体系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0076]在又一个设计方案中，含Bi的保护层能够附加地具有选自下述物质中的物质或者物质混合物=Al2O3、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3,、M03、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0077]在所述方法的一个设计方案中，能够给玻璃添加吸收UV的添加物作为玻璃组分。为了提高UV吸收，在玻璃熔化过程中例如能够给低熔点的玻璃、例如含铅玻璃附加有具有铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物的物质或物质混合物作为玻璃混合物组成部分。
[0078]在此能够将玻璃的热液化、即熔化理解为玻璃熔化过程。吸收UV的添加物能够作为组成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化过程之后玻璃能够被粉末化，以覆层的形式施加到载体上并且紧接着借助于热处理来玻璃化。
[0079]在所述方法的一个设计方案中，保护层的玻璃焊料粉末的物质或者物质混合物能够在至最大大约600 °C的温度下液化。
[0080]在所述方法的又一个设计方案中，保护层能够具有基体和嵌入在所述基体中的至少一种第一类型的吸收UV的添加物，其中吸收UV的添加物关于基体和/或载体对于波长小于大约400nm的电磁辐射而言降低至少在一定波长范围中的透射。
[0081]具有添加物的保护层相对于载体和/或基体的更低的UV透射例如能够借助于通过吸收UV的添加物对UV辐射的更高的吸收和/或反射和/或散射来构成。
[0082]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体能够具有大于大约1.7的折射率。
[0083]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体能够构成为是无定形的。
[0084]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体能够具有选自下述玻璃体系中的物质或物质混合物或者由其形成:含PbO的体系:PbO-B2O3、PbO-S12、PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi2O3 ;含Bi2O3的体系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0085]在又一个设计方案中，含Bi的保护层能够附加地具有选自下述物质中的物质或者物质混合物=Al2O3、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3,、M03、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0086]在所述方法的一个设计方案中，能够给基体的玻璃添加吸收UV的添加物作为玻璃组分。为了提高UV吸收，在玻璃熔化过程中例如能够给低熔点的玻璃、例如含铅玻璃附加有具有铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物的物质或物质混合物作为玻璃混合物组成部分。
[0087]在此能够将玻璃的热液化、即熔化理解为玻璃熔化过程。吸收UV的添加物能够作为组成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化过程之后玻璃能够被粉末化，以覆层的形式施加到载体上并且紧接着借助于热处理来玻璃化。
[0088]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体的物质或物质混合物在至最大大约600 °C的温度下液化。
[0089]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的添加物能够具有无机物质或者无机物质混合物或者由其形成。
[0090]替代于所添加的化合物或者附加地，能够给低熔点的玻璃添加吸收UV的纳米颗粒以提高UV吸收。吸收UV的纳米颗粒在熔化的玻璃焊料中不能够具有可溶性或者能够具有低的可溶性和/或不与该玻璃焊料反应或者仅困难地反应。此外纳米颗粒不会引起电磁辐射、例如可见的电磁辐射的散射或者仅引起低的散射，所述纳米颗粒例如是具有小于大约50nm的粒度的纳米颗粒，例如由Ti02、Ce02、Zn0或者Bi2O3构成，其中纳米颗粒应良好地分散在玻璃中。
[0091]在所述方法的又一个设计方案中，一种类型的吸收UV的添加物能够具有选自下述物质中的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:发光物质:例如掺杂Ce3+的石榴石、如YAG: Ce和LuAG，掺杂Eu3+的氮化物、硫化物，S1NE、塞隆、正硅酸盐、氯硅酸盐、氯磷酸盐、BAM(铝酸钡镁:Eu)和/或SCAP、卤磷酸盐、玻璃颗粒，其中发光物质具有在UV范围中的吸收。
[0092]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的添加物能够具有如下颗粒，所述颗粒具有吸收UV的玻璃或者由其形成。
[0093]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的颗粒能够具有在大约0.1 μ m至大约10 μ m的范围中、例如在大约0.Ιμ--至大约I μ--的范围中的平均粒度。
[0094]在所述方法的又一个设计方案中，一种类型的吸收UV的添加物能够具有选自下述物质中的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:Ti02、CeO2> Bi203、ZrO2>S12, Al2O3' ZnO, SnO2 ;发光物质:例如掺杂Ce3+的石榴石、如YAGiCe和LuAG，掺杂Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸盐、氯硅酸盐、氯磷酸盐、BAM(铝酸钡镁:Eu)和/或SCAP,卤磷酸盐以及吸收UV的玻璃颗粒、金属纳米颗粒，其中所述发光物质具有在UV范围中的吸收。
[0095]在所述方法的又一个设计方案中，载体上或上方的吸收UV的添加物在保护层中能够构成为厚度大约5nm至大约10 μ m的层片。
[0096]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的添加物的多个层片在载体上彼此叠加地构成，其中各个层片不同地构成。
[0097]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的添加物的层片构成为，使得至少一种吸收UV的添加物的平均颗粒大小从载体的表面起减小。
[0098]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的添加物的各个层片构成为，使得吸收UV的添加物具有不同的平均颗粒大小和/或对于波长小于大约400nm的电磁辐射而言至少在一定波长范围中具有不同的透射。
[0099]在所述方法的又一个设计方案中，作为吸收UV的添加物的具有发光物质的保护层能够同时构成为用于转换电磁辐射的波长，其中发光物质具有斯托克斯位移并且发射具有更高波长的入射的电磁辐射。
[0100]在所述方法的又一个设计方案中，在基体中能够构成有至少一种类型的进行散射的添加物，使得保护层能够同时构成关于入射的、在至少一个波长范围中的电磁辐射的散射作用，例如借助于相对于基体不同的折射率和直径，所述直径大致相应于待散射的辐射的波长的大小。散射效果在此也能够与由保护层上或上方的有机功能层系统发射的电磁辐射相关，例如以便提闻光I禹合输出。
[0101]在所述方法的又一个设计方案中，至少一种进行散射的添加物能够具有折射率与基体的折射率相比大于大约0.05的差异。
[0102]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物具有拱起的表面。
[0103]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物的几何形式能够具有选自下述形式中的几何形式或者几何形式的一部分:球状、非球状例如棱柱状、椭圆、中空、紧凑。
[0104]在所述方法的一个设计方案中，进行散射的添加物能够构成为颗粒，其中进行散射的颗粒具有在大约0.1 μ m至大约10 μ m的范围中、例如在大约0.1ym至大约I μπι的范围中的平均粒度。
[0105]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体在保护层固化之后能够具有大于大约1.7的折射率。
[0106]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体能够构成为是无定形的。
[0107]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体能够具有选自下述玻璃体系中的物质或物质混合物或者由其形成:含PbO的体系:PbO-B2O3、PbO-S12、PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi2O3 ;含Bi2O3的体系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0108]在所述方法的又一个设计方案中，含Bi的保护层能够附加地具有选自下述物质中的物质或者物质混合物:A1203、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5,Ta2O5> TeO2> WO3,、MO3> Sb2O3> Ag20、SnO2、稀土氧化物。
[0109]在所述方法的一个设计方案中，能够给基体的玻璃添加吸收UV的添加物作为玻璃组分。为了提高UV吸收，在玻璃熔化过程中例如能够给低熔点的玻璃、例如含铅玻璃附加有具有铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物的物质或物质混合物作为玻璃混合物组成部分。
[0110]在此能够将玻璃的热液化、即熔化理解为玻璃熔化过程。吸收UV的添加物能够作为组成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化过程之后玻璃能够被粉末化，以覆层的形式施加到载体上并且紧接着借助于热处理来玻璃化。
[0111]在所述方法的又一个设计方案中，保护层的基体的物质或物质混合物在至最大大约600 °C的温度下液化。
[0112]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物能够具有无机物质或者无机物质混合物或者由其形成。
[0113]在所述方法的又一个设计方案中，一种类型的进行散射的添加物能够具有选自下述物质中的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:Ti02、Ce02、Bi203、ZnO。
[0114]在所述方法的又一个设计方案中，一种类型的进行散射的添加物能够具有选自下述发光材料的物质或物质混合物或化学计量化合物或者由其形成:例如掺杂Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，掺杂Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸盐、氯硅酸盐、氯磷酸盐、BAM(铝酸钡镁:Eu)和/或SCAP、卤磷酸盐。
[0115]在所述方法的又一个设计方案中，作为进行散射的添加物的具有发光材料的保护层能够同时构成为用于转换电磁辐射的波长，其中发光材料具有斯托克斯位移并且发射具有更高波长的入射的电磁辐射。
[0116]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物具有吸收UV的玻璃或者由其形成，其中玻璃能够构成为是吸收UV的。
[0117]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物能够在载体上或上方在保护层中构成为，使得进行散射的添加物构成厚度从大约5nm至大约10 μ m的层片。
[0118]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物的多个层片在载体上彼此叠加地构成，其中各个层片不同地构成。
[0119]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物的层片构成为，使得至少一种进行散射的添加物的平均颗粒大小从载体的表面起减小。
[0120]在所述方法的又一个设计方案中，进行散射的添加物的各个层片构成为，使得各个层片具有不同的平均颗粒大小和/或对于电磁辐射具有不同的折射率。
[0121]在所述方法的又一个设计方案中，基体的材料与载体相比能够具有固有更低的UV透射。借助于基体的更低的UV透射，能够构成用于保护层上或者上方的层的UV防护。保护层的基体相对于载体的更低的UV透射例如能够借助于对UV辐射的更高的吸收和/或反射来构成。对于基体的材料的UV透射关于力求达到的UV防护仍过高的情况，例如除了不吸收UV但是进行散射的添加物、例如具有Al203、Si02、Y203或者ZrO2的添加物之外，还能够给基体添加吸收UV的添加物。吸收UV的添加物也能够作用为或者构建为进行散射的添加物。
[0122]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的添加物和/或进行散射的添加物能够在载体上或上方构成并且玻璃焊料粉末能够在吸收UV的添加物和/或进行散射的添加物的层片上或上方构成，并且玻璃能够液化为，使得液化的玻璃的一部分在吸收UV的添加物和/或进行散射的添加物的颗粒之间朝向载体的表面流动，使得仍有一部分液化的玻璃保留在所添加的颗粒上方。
[0123]所添加的颗粒上方的保护层的所述部分在此应具有等于或者大于不具有玻璃的散射中心的最上方的层片的粗糙度的厚度，使得构成至少一个平滑的表面，即所述表面具有低的RMS粗糙度(root mean square均方根_平均偏差的绝对值)，例如小于10nm。所添加的颗粒的最上方的层片的粗糙度与所添加的颗粒的实际大小相关，即不仅与所添加的颗粒的平均颗粒大小有关而且与其在平行于载体的平面中的浓度有关。
[0124]对于所述方法重要的是在施加所添加的颗粒之后将玻璃液化。由此能够调节所添加的颗粒在吸收UV的保护层中的分布，并且能够在玻璃的唯一的液化过程、例如退火过程中构成吸收UV的保护层的平滑的表面。由玻璃颗粒构成的或者具有玻璃粉末的悬浮物或膏的制造就此而言不被理解为液化，因为玻璃颗粒的外观不因悬浮物而改变。
[0125]在所述方法的又一个设计方案中，玻璃粉末能够混有进行散射的和/或吸收UV的添加物并且作为膏或者悬浮物借助于丝网印刷或者模板印刷施加到载体上。这在玻璃化之后会引起添加物均匀地分布在玻璃基体中。
[0126]在所述方法的又一个设计方案中，与玻璃粉末的结合使用由钙钠硅酸盐玻璃构成的载体，所述玻璃粉末能够在至最大600°C的温度下玻璃化，这应意味着，玻璃粉末软化至使得其平滑地延伸。
[0127]在所述方法的又一个设计方案中，玻璃能够构成为玻璃粉末并且在至最大大约6000C的温度下玻璃化，即玻璃粉末软化，使得其能够构成平滑的表面。载体的物质或者物质混合物、例如钙钠硅酸盐玻璃，在玻璃粉末的玻璃化温度下应是热稳定的，即具有不变的层横截面。
[0128]在所述方法的又一个设计方案中，由悬浮物或膏构成的所添加的吸收UV的颗粒能够在载体上或上方构成，在所述悬浮物或膏中包含有所添加的颗粒。
[0129]用于由悬浮物或膏制造层的方法例如能够是丝网印刷、模板印刷、刮涂或者也可以是喷涂法。
[0130]在所述方法的又一个设计方案中，在其中包含有所添加的颗粒的悬浮物或膏除了所添加的颗粒之外还具有液态的蒸发的和/或有机的组成部分。该组成部分能够是不同的添加物、即所谓的添加剂，例如溶剂、粘合剂、例如纤维素、纤维素衍生物、硝化纤维素、醋酸纤维素、丙烯酸酯，并且能够被添加给所添加的颗粒或玻璃颗粒以为相应的方法并且为相应力求达到的层厚度来调节粘度。
[0131]通常能够是液体的和/或挥发性的有机的添加物能够从层中热移除，即层能够热干燥。非挥发性的有机的添加物能够借助于热解来移除。温度的提高在此能够加速或者实现干燥或热解。
[0132]在所述方法的又一个设计方案中，玻璃颗粒悬浮物或玻璃颗粒膏除了玻璃颗粒或玻璃粉末之外还能够具有液态的蒸发的和/或有机的组分、例如粘合剂。
[0133]在所述方法的又一个设计方案中，玻璃颗粒悬浮物或玻璃颗粒膏和在其中包含有所添加的颗粒的悬浮物或膏能够具有可彼此混合的液态的蒸发的和/或有机的组分。由此能够防止在已干燥的包含有所添加的颗粒的悬浮物或膏内部的、或者在已干燥的包含有所添加的颗粒的玻璃层悬浮物或膏内部的添加物的相分离或者析出。
[0134]在所述方法的又一个设计方案中，在所添加的颗粒上或上方的、包含有所添加的颗粒的玻璃颗粒悬浮物或膏能够借助于蒸发的组成部分来干燥。
[0135]在所述方法的又一个设计方案中，能够借助于温度的提高将有机的组成部分(粘合剂)基本上完全地从已干燥的颗粒层以及从已干燥的玻璃粉末层中移除。
[0136]在所述方法的又一个设计方案中，能够借助于将温度提高到第二值来将玻璃或玻璃粉末软化，使得所述玻璃或玻璃粉末能够流动、例如变成液态，其中所述第二温度与干燥的第一温度相比是高得多的。
[0137]用于液体化或玻璃化玻璃粉末层的第二温度值的最大值能够与载体有关。温度状况(温度和时间)能够选择为，使得载体不变形，但是玻璃粉末层的玻璃焊料已经具有如下粘度，使得所述玻璃焊料能够平滑地延伸、即流动，并且能够构成非常平滑的玻璃状的表面。
[0138]玻璃粉末层的玻璃能够具有第二温度、即玻璃化温度，例如低于载体、例如载体玻璃的转变点(载体的粘度η = 1014 5dPa.s)并且最大为载体玻璃的软化温度(载体的粘度η = 176ClPa.S)，例如低于软化温度并且大约为上部的冷却点(载体的粘度η =1013'°dPa.s)。
[0139]在所述方法的又一个设计方案中，玻璃粉末在使用钙钠硅酸盐作为载体的情况下能够在至最大大约600°C的温度下玻璃化。
[0140]在所述方法的又一个设计方案中，能够借助于液化的玻璃在吸收UV的颗粒之间构成载体与吸收UV的颗粒之上的液化的玻璃的至少一个无间隙的连续的玻璃连接部。
[0141]在所述方法的又一个设计方案中，载体能够具有钙钠硅酸盐或者由其形成，其中用于使玻璃粉末或者玻璃粉末层玻璃化的温度最大应为大约600°C的值。
[0142]在所述方法的又一个设计方案中，吸收UV的颗粒层之上的液化的玻璃的表面在借助于局部加热进行的固化之后还能够一次性附加地被平整。
[0143]在所述方法的又一个设计方案中，局部加热能够借助于等离子或者激光辐射构成。
[0144]在所述方法的又一个设计方案中，保护层能够构成为发光二极管的剖面中的层。

【专利附图】

【附图说明】
[0145]本发明的实施例在附图中示出并且在下文中详细阐述。
[0146]附图示出:
[0147]图1示出根据不同的实施例的有机发光二极管的示意的横截面图；
[0148]图2根据不同的实施例示出用于制造保护层的方法的流程图；
[0149]图3根据不同的实施例示出在用于制造保护层的方法中在移除载体表面上的具有玻璃颗粒的玻璃层前体的非挥发性的有机组成部分之后的保护层的示意的横截面图；
[0150]图4根据不同的实施例示出在用于制造保护层的方法中在玻璃焊料液化之后并且在玻璃焊料在载体表面上潮解之后的保护层的示意的横截面图；
[0151]图5根据不同的实施例示出关于电磁辐射穿过不同的结构的透射的图表；
[0152]图6根据不同的实施例示出关于电磁辐射穿过不同的结构的透射的图表；
[0153]图7根据不同的实施例示出关于电磁辐射穿过不同的结构的透射的图表；
[0154]图8根据不同的实施例示出用于制造保护层的方法的流程图；
[0155]图9根据不同的实施例示出在用于制造保护层的方法中在移除载体表面上的具有带有吸收UV的添加物的玻璃颗粒的玻璃层前体的非挥发性的有机的组成部分之后的保护层的示意的横截面图；
[0156]图10根据不同的实施例示出在用于制造保护层的方法中在具有吸收UV的添加物的玻璃焊料液化和玻璃焊料在例如载体表面上潮解之后的保护层的示意的横截面图；
[0157]图11根据不同的实施例示出用于制造保护层的方法的流程图；
[0158]图12根据不同的实施例示出在用于制造保护层的方法中在移除载体表面上的具有玻璃颗粒的玻璃层前体和具有散射中心的散射中心前体的非挥发性的有机的组成部分之后的保护层的示意的横截面图，其中所述散射中心能够是吸收UV的；
[0159]图13根据不同的实施例示出在用于制造根据不同的实施例的保护层1100的方法中在玻璃304液化210并且流入到散射中心1202之间的空体积1206中之后的保护层106的示意的横截面图，其中散射中心1202也能够是吸收UV的；以及
[0160]图14根据不同的实施例示出关于电磁辐射穿过不同的结构的透射的图表。

【具体实施方式】
[0161]在下面详细的描述中参考附图，所述附图形成所述描述的一部分，并且其中示出能够实施本发明的具体的实施形式以用于说明。在此方面，相关于所描述的一个(多个)附图的定向而使用方向术语例如“上”、“下”、“前”、“后”、“前部”、“后部”等等。因为实施形式的组成部分能够以多个不同的定向来定位，所以方向术语用于说明并且不以任何方式受到限制。要理解的是，能够使用其他的实施形式并且能够进行结构上的或逻辑上的改变，而不偏离本发明的保护范围。要理解的是，只要没有特殊地另外说明，就能够将在此描述的不同的示例的实施形式的特征互相组合。因此，下面详细的描述不能够理解为受限制的意义，并且本发明的保护范围不通过所附的权利要求来限定。
[0162]在所述描述的范围内，术语“连接”、“联接”以及“耦合”用于描述直接的和间接的连接、直接的或间接的联接以及直接的或间接的耦合。在附图中，只要是适当的，相同的或类似的元件就设有相同的附图标记。
[0163]图1根据不同的实施例不出有机发光二极管100的不意的横截面图。
[0164]呈有机发光二极管100形式的发光器件100能够具有载体102。载体102例如能够用作为用于电子元件或者层、例如发光元件的载体元件。载体102例如能够是玻璃(软玻璃或者硬玻璃，优选软玻璃)或者是石英玻璃。此外载体102能够具有塑料薄膜或者带有一个或多个塑料薄膜的叠层。载体102能够设计为是半透明的或者甚至是透明的。
[0165]术语“半透明”或者“半透明层”在不同的实施例中能够理解为:层对于光是可穿透的，例如对于由发光器件产生的、如一个或多个波长范围的、例如对于可见光波长范围中的光(例如至少在380nm至780nm波长范围的子范围中的光)是可穿透的。例如，术语“半透明层”在不同的实施例中能够理解为:基本上全部耦合输入到结构(例如层)中的光量也从结构(例如层)中耦合输出，其中光的一部分在此能够被散射。
[0166]术语“透明”或“透明层”在不同的实施例中能够理解为:层对于光是可穿透的(例如至少在380nm至780nm波长范围的子范围中)，其中耦合输入到结构(例如层)中的光基本上在没有散射或光转换的情况下也从结构(例如层)中耦合输出。因此，“透明”能够视作为“半透明”的特殊情况。
[0167]对于例如应当提供发射光的单色的或在发射谱中受限的电子器件的情况而言足够的是:光学半透明的层结构至少在期望的单色光的波长范围的子范围中或者对于受限的发射谱是半透明的。
[0168]在不同的实施例中，有机发光二极管100 (或者还有根据在上面或在更下面描述的实施例的发光器件)能够设计为所谓的顶部和底部发射器。顶部和底部发射器也能够称作为光学透明的器件、例如透明有机发光二级管。
[0169]在载体102上或上方能够在不同的实施例中可选地设有阻挡层104。阻挡层104能够具有下述材料中的一种或多种或者由其制成:氧化铝、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化铪、氧化钽、氧化镧、氧化娃、氮化娃、氮氧化娃、铟锡氧化物、铟锌氧化物、招掺杂的氧化锌以及其混合物和合金。此外，在不同的实施例中，阻挡层104能够具有大约0.1nm(—个原子层)至大约5000nm范围中的层厚度、例如大约1nm至大约200nm范围中的层厚度、例如大约40nm的层厚度。
[0170]因此在不同的实施例中在阻挡层104上或上方(或者，当阻挡层104不存在时，在载体102上或上方)能够构成有保护层106。
[0171]保护层106吸收对于有机功能层结构112有害的UV辐射。这能够借助于保护层106的物质或者物质混合物的、例如玻璃的组成来实现，或者借助于添加吸收UV辐射或者反射UV辐射的颗粒来实现。
[0172]为了提高器件100的光耦合输出进而提高耦合输出效率，保护层106具有高折射的玻璃(高折射率)，所述玻璃具有大于大约1.7的折射率和分布的、吸收UV的散射中心、例如吸收UV的散射颗粒。
[0173]然而保护层106的折射率在光学上应匹配于有机功能层结构112和透明的电极110、114的折射率的层厚度加权平均值。
[0174]层厚度加权的折射率是各个层以相应的层厚度份额加权的折射率的平均值。
[0175]在一个设计方案中，保护层106能够具有与第一电极110和有机功能层结构112类似的并且大于大约1.7的折射率。
[0176]保护层106的表面应具有小的表面粗糙度(均方根粗糙度RMS)，即是非常平滑的，例如在大约0.1nm至大约1nm的范围中。应避免表面上的尖刺、即具有高的纵横比和几十nm的高度的不连续处，因为所述尖刺在封装的情况下并且在光电子器件工作时漏电流的情况下会导致问题。
[0177]在制造光电子器件时尖刺会引起尖刺附近的有机层突然解交联。在电有源区域108的总厚度小的情况下并且在多个用于构成电有源区域108的方法步骤中，能够借助于尖刺构成第二电极114与第一电极110的实体接触，即这会引起短路。
[0178]此外，薄层封装件116在层厚度为几十nm的情况下能够借助于保护层106的尖刺将位于保护层之下的层、例如第二电极114在尖刺附近解交联。由此有机光电子器件100不再能够充分地被保护以免受外部影响、例如向内扩散的化学物质、例如水和/或氧。
[0179]为了避免衬底102的能够穿透电有源区域108的尖刺，能够将抛光的玻璃衬底用作为衬底102。
[0180]为了避免同样由衬底玻璃102引起的碱扩散，衬底102能够以S12阻挡层104来构成。
[0181]如果对于保护层106使用无碱或者少碱的玻璃焊料，那么不需要施加阻挡层104。
[0182]在一个设计方案中，保护层106具有低熔点的、高折射的玻璃和/或玻璃焊料。
[0183]在低熔点的玻璃中，下述含Bi2O3的物质混合物能够具有对UV辐射的良好的吸收和高的折射率(大于大约1.7)，例如:
[0184]Bi2O3-B2O3'
[0185]Bi203_B203_Si02、
[0186]Bi203_B203_Zn0、
[0187]Bi203_B203_Zn0_Si02 ο
[0188]含Bi2O3的体系也能够具有其它的玻璃组分:例如Al2O3、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、Zr02、T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2^ffO3,、M03、Sb2O3^Ag2O, SnO2 以及稀土氧化物。
[0189]能够将对穿过层的波长小于大约350nm的电磁福射的直至最大大约5%透射、在小于大约380nm的波长下最大大约为20%、优选最大大约10%的透射理解为该层对UV辐射的良好的吸收。低于大约340nm的UV辐射借助于保护层大约100%地被吸收或反射。
[0190]在光电子器件的一个设计方案中，保护层106的玻璃也能够具有选自下述含PbO的玻璃体系中的玻璃焊料或者由其形成:
[0191]例如:
[0192]PbO-B2O3、
[0193]PbO-S12'
[0194]PbO-B2O3-S12、
[0195]PbO-B2O3-ZnO2、
[0196]Pb0_B203_Al203，
[0197]其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi203。
[0198]在一个设计方案中，能够给基体的玻璃添加吸收UV的化合物作为玻璃组分。为了提高UV吸收，在玻璃熔化过程中例如能够给低熔点的玻璃、例如含铅玻璃附加有具有铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物的物质或物质混合物作为玻璃混合物组成部分。
[0199]在此能够将玻璃的热液化、即熔化理解为玻璃熔化过程。吸收UV的添加物能够作为组成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化过程之后玻璃能够被粉末化，以覆层的形式施加到载体上并且紧接着借助于热处理来玻璃化。
[0200]保护层的物质或物质混合物例如能够作为膏构成到载体102上。膏能够具有玻璃粉末、粘合剂和/或溶剂。将膏施加到载体102上例如能够借助于丝网印刷、模板印刷或者喷涂法来实现。
[0201]借助于热处理、即借助于提高温度，施加到载体102上的膏能够液化、例如玻璃化并且构成保护层106。
[0202]在又一个设计方案中，载体102能够具有钙钠硅酸盐玻璃并且具有在大约400°C至大约600°C的范围中的保护层的膏的玻璃化温度、例如低于载体102的转变点，以便避免载体102的弯曲或变形或者将载体的弯曲和变形保持得小。温度的提高例如能够借助于炉、激光烧结或者在原位借助于热喷涂工艺来实现。
[0203]然而含PbO的玻璃能够具有不足够的UV吸收，使得有针对性地对玻璃改性能够是必要的，例如在含PbO的玻璃的玻璃熔体中借助于添加吸收UV的添加物、例如化学化合物和/或借助于添加吸收UV的、在玻璃焊料中不具有可溶性或者具有低的可溶性的纳米颗粒和/或与其化学地反应和/或不导致显著的散射。
[0204]在不同的实施例中，保护层106能够具有大约14111至大约5(^111的厚度，例如大约I μ m至大约40 μ m、例如3 μ m至大约30 μ m、例如5 μ m至大约20 μ m。
[0205]保护层106的其它的规格能够从图2至图14的描述中得出。
[0206]在不同的实施例中，(例如第一电极层110形式的)第一电极110施加在保护层106上或上方。第一电极110(接下来也称为下部电极110)能够由导电材料形成或是导电材料，例如由金属或透明导电氧化物(transparent conductive oxide, TC0)形成或由相同的或不同的金属的和/或相同的或不同的TCO的多个层的层堆来形成。透明导电氧化物是透明的、导电的材料，例如金属氧化物、例如氧化锌、氧化锡、氧化镉、氧化钛、氧化铟或铟锡氧化物(ITO)。除了二元的金属氧化物、例如Zn0、Sn02或In2O3以外，三元的金属氧化物、例如 AlZnO、Zn2SnO4> CdSn03、ZnSn03、Mgln204、GaInO3, Zn2In2O5 或 In4Sn3O12 或不同的透明导电氧化物的混合物也属于TCO族并且能够使用在不同的实施例中。此外，TCO不强制符合化学计量的组分并且还能够是P掺杂的或η掺杂的。
[0207]在不同的实施例中，第一电极110能够具有金属；例如Ag、Pt、Au、Mg、Al、Ba、In、Ag、Au、Mg、Ca、Sm或Li以及这些材料的化合物、组合物或合金。
[0208]在不同的实施例中，能够由在TCO层上的金属的层的组合的层堆形成第一电极110，或者反之亦然。一个示例是施加在铟锡氧化物层(ITO)或ITO-Ag-1TO复层上的银层(ΙΤ0 上的 Ag)。
[0209]在不同的实施例中，替选于或除了上述材料之外，第一电极110能够设有下述材料中的一种或多种:由金属的纳米线和纳米微粒构成的网络、例如由Ag制成；由碳纳米管构成的网络；石墨微粒和石墨层；由半导体纳米线构成的网络。
[0210]此外，第一电极110能够具有导电聚合物或过渡金属氧化物或导电透明氧化物。[0211 ] 在不同的实施例中，第一电极110和载体102能够构成为是半透明的或透明的。在第一电极110由金属形成的情况下，第一电极110例如能够具有小于或等于大约25nm的层厚度、例如小于或等于大约20nm的层厚度、例如小于或等于大约18nm的层厚度。此外，第一电极110例如能够具有大于或等于大约1nm的层厚度、例如大于或等于大约15nm的层厚度。在不同的实施例中，第一电极110能够具有大约1nm至大约25nm范围内的层厚度、例如大约1nm至大约18nm范围内的层厚度、例如大约15nm至大约18nm范围内的层厚度。
[0212]此外，对于第一电极110由透明导电氧化物(TCO)形成的情况而言，第一电极110例如能够具有大约50nm至大约500nm范围内的层厚度、例如大约75nm至大约250nm范围内的层厚度、例如大约10nm至大约150nm范围内的层厚度。
[0213]此外，对于第一电极110由例如由Ag制成的例如能够与导电聚合物组合的金属纳米线制成的网络形成、由例如由能够与导电聚合物组合的碳纳米管构成的网络或者由石墨层和复合物形成的情况而言，第一电极I1例如能够具有大约Inm至大约500nm范围内的层厚度、例如大约1nm至大约400nm范围内的层厚度、例如大约40nm至大约250nm范围内的层厚度。
[0214]第一电极110能够构成为阳极、即构成为空穴注入的电极，或者构成为阴极、即构成为电子注入的电极。
[0215]第一电极110能够具有第一电端子,能够将第一电势(由能量源(未不出)、例如由电流源或电压源提供)施加到所述第一电端子上。替选地，第一电势能够施加到载体102上或者是施加在载体102上的并且然后经由此间接地输送给第一电极110或者是输送给第一电极110的。第一电势例如能够是接地电势或者不同地预设的参考电势。
[0216]此外，发光器件100的电有源区域108能够具有有机电致发光层结构112或有机功能层结构112,所述有机电致发光层结构或有机功能层结构施加在第一电极110上或上方或者是施加在半透明的第一电极上或上方的。
[0217]有机电致发光层结构112能够包含例如具有突光发光的和/或磷光发光的发射体的一个或多个发射体层118，以及包含一个或多个空穴传导层120 (也称为空穴传输层120)。在不同的实施例中，替选地或附加地能够设有一个或多个电子传导层122(也称为电子传输层122)。
[0218]能够使用在发射体层118的根据不同的实施例的发光器件100中的发射体材料的示例包括:有机的或有机金属的化合物，如聚芴、聚噻吩和聚亚苯基的衍生物(例如2-或2，5-取代的聚对苯乙炔)；以及金属络合物，例如铱络合物、如发蓝色磷光的FIrPic (双(3，5-二氟-2-(2-吡啶基)苯基(2-羧基吡啶基)-铱III)、发绿色磷光的Ir(ppy)3(三(2-苯基吡啶)铱III)，发红色磷光的Ru(dtb-bpy)3*2 (PF6)M三[4，4’-二叔丁基(2，2’)-双吡啶]钌(III)络合物)和发蓝色荧光DPAVBi (4，4-双[4-( 二对甲苯氨基)苯乙烯基]联苯)、发绿色荧光的TTPA (9，10- 二 [N，N- 二对甲苯基氨基]蒽)和发红色荧光的DCM2(4-二氰亚甲基)-2-甲基-6-久洛尼定基-9-烯基-4H-吡喃)作为非聚合物发射体。这种非聚合物发射体例如能够借助于热蒸镀沉积。此外，能够使用聚合物发射体，所述聚合物发射体尤其能够借助于湿法化学法、例如旋涂(也称作Spin Coating)来沉积。
[0219]发射体材料能够以适合的方式嵌在基体材料中。
[0220]需要指出的是，在另外的实施例中同样设有其他适当的发射体材料。
[0221]发光器件100的发射体层118的发射体材料例如能够选择为，使得发光器件100发射白光。发射体层118能够具有多种发射不同颜色的(例如蓝色和黄色或蓝色、绿色和红色)的发射体材料，替选地发射体材料118也能够由多个子层形成，如发蓝色荧光的发射体层118或发蓝色磷光的发射体层118、发绿色磷光发射体层118和发红色磷光的发射体层118。通过不同颜色的混合，能够得到具有白色色彩印象的光的发射。替选地，也能够提出，在通过所述层产生的初级发射的光路中设置转换材料，所述转换材料至少部分地吸收初级辐射，并且发射其他波长的次级辐射，使得从(还不是白色的)初级辐射通过将初级辐射和次级辐射组合而得到白色的色彩印象。
[0222]有机电致发光层结构112通常能够具有一个或多个电致发光的层。一个或多个电致发光的层能够具有有机聚合物、有机低聚物、有机单体、有机的、非聚合物的小分子(“小分子(smallmolecules) 〃)或上述材料的组合。例如，有机电致发光层结构112能够具有构成为空穴传输层120或为空穴传输层的一个或多个电致发光层,使得例如在OLED的情况下实现将空穴有效地注入到电致发光的层中或电致发光的区域中。替选地，在不同的实施例中，有机电致发光层结构112能够具有一个或多个功能层，所述功能层构成为电子传输层122，使得例如在OLED的情况下实现将电子有效地注入到电致发光的层中或电致发光的区域中。例如能够使用叔胺、咔唑衍生物、导电的聚苯胺或聚乙烯二氧噻吩作为用于空穴传输层120的材料。在不同的实施例中，一个或多个电致发光的层能够构成为用于电致发光的层。
[0223]在不同的实施例中，空穴传输层120能够施加、例如沉积在第一电极110上或上方，并且发射体层118能够施加、例如沉积在空穴传输层120上或上方。在不同的实施例中，电子传输层122能够施加、例如沉积在发射体层118上或上方。
[0224]在不同的实施例中，有机的电致发光的层结构112(即例如空穴传输层120和发射体层118和电子传输层122的厚度的总和)具有最大大约1.5 μ m的层厚度、例如最大大约1.2 μ m的层厚度、例如最大大约I μ m的层厚度、例如最大大约800nm的层厚度、例如最大大约500nm的层厚度、例如最大大约400nm的层厚度、例如最大大约300nm的层厚度。在不同的实施例中，有机电致发光层结构112例如能够具有由多个直接叠置地设置的有机发光二极管(OLED)的堆，其中每个OLED例如能够具有最大大约1.5μπι的层厚度、例如最大大约1.2 μ m的层厚度、例如最大大约Iym的层厚度、例如最大大约800nm的层厚度、例如最大大约500nm的层厚度、例如最大大约400nm的层厚度、例如最大大约300nm的层厚度。在不同的实施例中，有机的电致发光的层结构112例如能够具有两个、三个或四个直接叠置地设置的OLED的堆，在此情况下，有机的电致发光的层结构112例如能够具有最大大约3 μ m的层厚度。
[0225]发光器件100可选地通常能够具有另外的有机功能层，其例如设置在一个或多个发射体层118上或上方或者电子传输层122上或上方，所述有机功能层用于进一步改进发光器件100的功能性进而改进其效率。
[0226]在有机电致发光层结构112上或上方或者必要时在一个或多个另外的有机功能层上或上方能够施加有第二电极114 (例如呈第二电极层114形式)。
[0227]在不同的实施例中，第二电极114能够具有与第一电极110相同的材料或者由其形成，其中在不同的实施例中金属是尤其适合的。
[0228]在不同的实施例中，第二电极114 (例如对于金属的第二电极114的情况)例如能够具有小于或等于大约50nm的层厚度、例如小于或等于大约45nm的层厚度、例如小于或等于大约40nm的层厚度、例如小于或等于大约35nm的层厚度、例如小于或等于大约30nm的层厚度、例如小于或等于大约25nm的层厚度、例如小于或等于大约20nm的层厚度、例如小于或等于大约15nm的层厚度、例如小于或等于大约1nm的层厚度。
[0229]第二电极114通常能够以与第一电极110类似的方式构成或是以与第一电极类似的方式构成的或者与其不同。第二电极114在不同的实施例中能够由一种或多种材料构成并且具有相应的层厚度，如这在上面结合第一电极110来描述。在不同的实施例中，第一电极110和第二电极114这两者都半透明或透明地构成。因此，在图1中示出的发光器件100能够设计为顶部和底部发射器(换而言之设计为双向放射的发光器件100)。
[0230]第二电极114能够构成为阳极、即构成为空穴注入的电极、或者构成为阴极、即构成为电子注入的电极。
[0231]第二电极114能够具有第二电端子，能够将由能量源提供的第二电势(其与第一电势不同)施加到所述电端子上。第二电势例如能够具有下述数值:所述数值使得与第一电势的差具有大约1.5V至大约20V范围内的数值、例如大约2.5V至大约15V范围内的数值、例如大约3V至大约12V范围内的数值。
[0232]在第二电极114上或上方进而在电有源区域108上或上方仍能够可选择地形成或者已形成封装件116、例如呈阻挡薄层/薄层封装件116形式的封装件。
[0233]在本申请的范围内，例如能够将“阻挡薄层”或“阻挡薄膜116”理解为下述层或层结构，所述层或层结构适合于形成相对于化学杂质或大气物质、尤其相对于水(湿气)和氧气的阻挡件。换而言之，阻挡薄层116构成为，使得其例如不能够或至多极少量被损坏OLED的物质、如水、氧气或溶剂穿透。
[0234]根据一个设计方案，阻挡薄层116能够构成为唯一的层(换而言之，也称为单层)。根据一个替选的设计方案，阻挡薄层116能够具有多个彼此叠加地构成的子层。换而言之，根据一个设计方案，阻挡薄层116能够构成层堆(stack)。阻挡薄层116或阻挡薄层116的一个或多个层例如能够借助于适当的沉积方法形成，例如根据一个设计方案借助于原子层沉积方法(Atomic layer Deposit1n(ALD))来形成、例如为等离子增强原子层沉积方法(Plasma Enhanced Atomic layer Deposit1n(PEALD))或无等离子原子层沉积方法(Plasma-less Atomic layer Deposit1n (PLALD)),或根据另一设计方案借助于化学气相沉积方法(Chemical Vapor Depost1n (CVD))来形成,例如为等离子增强的气相沉积方法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Depost1n(PECVD))或无等离子的气相沉积方法(Plasma-less Chemical Vapor Depost1n (PLCVD)),或者替选地借助于另外适当的沉积方法形成。
[0235]通过应用原子层沉积法(ALD)能够沉积极其薄的层。特别地，能够沉积层厚度位于原子层范围内的层。
[0236]根据一个设计方案，在具有多个子层的阻挡薄层116中，所有的子层借助于原子层沉积法形成。仅具有ALD层的层序列也能够称为“纳米叠层”。
[0237]根据一个替选的设计方案，在具有多个子层的阻挡薄层116中，阻挡薄层116中的一个或多个子层借助于不同于原子层沉积法的沉积法来沉积、例如借助于气相沉积法来沉积。
[0238]阻挡薄层116根据一个设计方案能够具有大约0.1nm (原子层)至大约100nm的层厚度、根据一个设计方案例如具有大约1nm至大约10nm的层厚度、根据一个设计方案例如具有大约40nm的层厚度。
[0239]根据一个设计方案，其中阻挡薄层116具有多个子层，所有的子层能够具有相同的层厚度。根据另一个设计方案，阻挡薄层116的各个子层能够具有不同的层厚度。换句话说，子层中的至少一个层能够具有与子层中的一个或多个其它子层不同的层厚度。
[0240]阻挡薄层116或者阻挡薄层116的各个子层根据一个设计方案能够构成为半透明的或者透明的层。换句话说，阻挡薄层116(或者阻挡薄层116的各个子层)能够由半透明的或者透明的材料(或者半透明的或者透明的材料组合)构成。
[0241]根据一个设计方案，阻挡薄层116或者(在具有多个子层的层堆的情况下)阻挡薄层116中的一个或多个子层具有下述材料中的一种或者由其构成:氧化铝、氧化锌、氧化错、氧化钛、氧化铪、氧化钽、氧化镧、氧化娃、氮化娃、氮氧化娃、铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂铝的氧化锌以及它们的混合物和合金。在不同的实施例中，阻挡层116或者(在具有多个子层的层堆的情况下)阻挡薄层116中的一个或多个子层具有一种或多种高折射的材料，换而言之，一种或多种具有高折射率的材料、例如具有至少2的折射率的材料。
[0242]在阻挡薄层116上或上方能够设有粘结剂和/或保护漆124，借助于所述粘结剂和/或保护漆例如能够将覆盖件126 (例如玻璃覆盖件126)固定、例如粘贴在阻挡薄层116上。在不同的实施例中，光学半透明的、由粘结剂和/或保护漆124构成的层具有大于I μ m的层厚度、例如几μ m的层厚度。在不同的实施例中，粘结剂能够具有叠层粘结剂或者是这样的叠层粘结剂。
[0243]在不同的实施例中，仍能够将散射光的颗粒嵌入到粘结剂的层(也称为粘接层)中，所述散射光的颗粒能够引起对色角畸变和耦合输入效率的进一步的改进。在不同的实施例中，例如介电的散射颗粒能够设置为散射光的颗粒、例如金属氧化物、例如氧化硅(S12)、氧化锆(ZrO2)、氧化铝或者氧化钛。其它的颗粒也能够是适合的，只要它们具有不同于半透明的层结构的基体的有效折射率的折射率，所述基体例如是气泡、丙烯酸酯或者空心玻璃球。此外，金属纳米颗粒、金属、如金、银，铁纳米颗粒等例如能够设置为散射光的颗粒。
[0244]在不同的实施例中，在第二电极114和由粘结剂124和/或保护漆124构成的层之间仍能够施加或者已经施加电绝缘层(未示出)、例如SiN、例如具有在大约300nm至大约1.5 μ m范围中的层厚度、例如具有在大约500nm至大约Ιμπι范围中的层厚度，以便例如在湿化学工艺中保护电学不稳定的材料。
[0245]在不同的实施例中，粘结剂能够构建为，使得其本身具有小于覆盖件126的折射率的折射率。这样的粘结剂例如能够是低折射的粘结剂、例如丙烯酸酯，所述低折射的粘结剂具有大约1.3的折射率。此外，能够设置多种不同的粘胶，所述粘胶形成粘胶层序列。
[0246]此外应指出的是，在不同的实施例中也能够完全放弃粘结剂124，例如在如下实施方式中，其中例如由玻璃构成的覆盖件126借助于例如等离子喷涂施加到阻挡薄层116上。
[0247]在不同的实施例中，覆盖件126和/或粘结剂124 (例如在波长为633nm的情况下)能够具有L 55的折射率。
[0248]此外，在不同的实施例中，在发光器件100中能够附加地设有一个或多个(例如与封装件116组合、例如与薄层封装件116组合)抗反射层。
[0249]图2根据不同的实施例示出用于制造保护层106的方法的流程图200。
[0250]所示出的是:制备202载体；施加204玻璃层前体；干燥206玻璃层前体；从玻璃层中移除208非挥发性的有机组成部分(脱胶)；液化210玻璃层前体或液化(玻璃化)210玻璃粉末层；使玻璃固化212并且调节214表面特性，其中调节214表面特性能够是可选的。
[0251]制备载体202，例如具有大约1.5的折射率的钙钠硅酸盐玻璃，例如能够具有:施加阻挡层104、例如S12 ;清洁载体102的表面或者清洁阻挡层104的表面或者调节载体102或阻挡层104的表面302上的化学基团或者表面粗糙度。
[0252]在制备202载体102之后例如能够借助于丝网印刷或者模板印刷将玻璃层前体施加204到载体102上,例如以玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏施加到载体上,所述玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏能够具有由硼酸秘玻璃颗粒或者硼娃酸秘玻璃颗粒构成的粉末，其具有例如在大约1.7和大约2.1之间的范围中的折射率。
[0253]玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏能够具有市售的丝网印刷介质(例如乙酸乙酯中的硝化纤维素或者乙二醇醚中的纤维素衍生物)。
[0254]硼酸铋玻璃颗粒或者铋硼硅酸玻璃颗粒例如能够具有大约I μ m的粒度分布D50和对于大约50°C至大约350°C的温度范围而言大约8.5.10_61/K的热膨胀系数。替选地，例如也能够选择具有大约7 μ m的粒度分布D50和对于大约50°C至大约300°C的温度范围而言大约10.ιο-6ι/κ的热膨胀系数的铋锌硼酸玻璃颗粒或者铋锌硼硅酸玻璃颗粒。
[0255]在施加204玻璃层前体310之后，所述方法能够具有:干燥206玻璃层前体310，例如在70°C下干燥3小时，以便移除挥发性的组成部分。
[0256]在干燥206玻璃层前体310之后，已干燥的玻璃层前体310中的非挥发性的有机组成部分能够借助于移除208非挥发性的有机组成部分来热移除，例如借助于热解。丝网印刷介质应选择为，使得在玻璃粉末软化之前结束排胶。因为所使用的铋硼硅酸玻璃从大约500°C起能够开始软化，所以这两个上述粘合剂-溶剂体系对于该玻璃是尤其适合的，因为它们根据体系已经能够在大约200°C至大约400°C之间烧尽。
[0257]在移除208非挥发性的有机组成部分之后，能够液化210玻璃层前体310。
[0258]在上述铋硼硅酸玻璃作为玻璃粉末层310的情况下，在高于大约500°C的温度下进行玻璃化。
[0259]在钙钠硅酸盐玻璃作为载体102的、具有大约550°C的上部冷却温度的实例中，温度上限根据加热方法能够具有大约600°C的值，以便避免载体的变形或者将其保持得低。在玻璃化时，玻璃层前体304的或者玻璃颗粒306的粘度降低。由此玻璃层前体304或玻璃颗粒306能够在载体102的表面302上构成保护层106。该过程也被称为玻璃化。如果玻璃化在低于载体102或载体玻璃102的转变温度之下进行，那么在载体或载体玻璃中不构建任何热应力。这两个复合配队物、即载体102和玻璃焊料306的热膨胀系数不应差别过大，以便避免载体102和保护层106之间的过强的复合应力从而确保持久的连接。
[0260]因为保护层106能够起类似于阻挡层作用，所以例如当玻璃基体312无碱时可以放弃阻挡薄层104。
[0261]借助于玻璃化，保护层106的厚度关于玻璃层前体304的厚度能够借助于填充玻璃颗粒306之间的间隙308来降低、例如降低到大约10 μ m。
[0262]在液化210玻璃层前体并且形成玻璃层之后，能够进行玻璃306的固化212，例如借助于冷却、例如被动地冷却。借助于固化212玻璃306能够构成保护层106。
[0263]在保护层106固化212之后，能够调节214保护层106的表面特性、例如抛光、即平滑保护层106的表面402，例如借助于短暂地局部提高温度、例如借助于定向的等离子体、例如作为火抛光或者也作为激光抛光。
[0264]图3根据不同的实施例示出在用于制造保护层200的方法中在移除206载体102的表面302上的具有玻璃颗粒306的玻璃层前体304的非挥发性的有机组成部分之后的保护层106的示意的横截面图。
[0265]借助于移除206玻璃层前体304的非挥发性的有机组成部分，能够在玻璃颗粒306之间构成空的体积308。前体层304在此是具有或不具有挥发性的和/或非挥发性的有机组成部分的玻璃颗粒306的所施加的层。
[0266]图4根据不同的实施例示出在用于制造保护层200的方法中在玻璃焊料306液化210或者固化212之后并且在玻璃焊料在例如载体102的表面302上潮解之后的保护层106的示意的横截面图。
[0267]借助于液化210玻璃焊料306，能够填充玻璃颗粒308之间的空的体积308并且在保护层106上构成平滑的、无孔的表面402。平滑的、无孔的表面402的构成也能够在处理214所述表面、例如抛光之后才进行调节。
[0268]保护层106的所示出的层横截面例如对应于在固化216液化的玻璃颗粒308并且构成玻璃层408或玻璃基体408之后的层横截面。玻璃408能够具有空的表面402并且与载体102或阻挡层104分享共同的边界面404。
[0269]图5根据不同的实施例示出关于电磁辐射穿过不同的结构的透射的图表500。
[0270]在图5中的透射光谱500中示出不同波长504的电磁辐射穿过载体512以及穿过具有不同的含Bi2O3的保护层514、516、518的载体512的透射502。电磁辐射的波长范围504能够划分为对于有机物质无危害的可见范围508和有害的UV范围506，其中这两个范围506、508在波长为大约400nm处从UV边缘510转变、即彼此分开。
[0271]不同的含Bi的保护层106能够借助于对玻璃层前体304的压制工艺施加到载体512上(大约Imm厚)并且能够根据图2的描述构成(玻璃化)。从厚度大约为20μπι的玻璃化的保护层516、518或者厚度大约为30 μ m的保护层514起，能够测量关于入射的、不同波长504的电磁辐射的透射502。
[0272]未覆层的载体512在UV范围506中与具有含Bi的保护层514、516、518的载体相比具有更高的透射进而与含Bi的保护层514、516、518的载体相比具有更低的UV防护。
[0273]借助于选择含Bi的玻璃和保护层106的层厚度，能够借助于保护层514、516、518在电磁辐射的有害波长506的宽的范围中构成对于有机功能层结构112的UV防护。
[0274]图6根据不同的实施例示出关于电磁辐射的穿过不同的保护层的透射的图表600。
[0275]在图6中的透射频谱600中示出不同波长504的电磁辐射穿过载体602以及穿过具有不同的含Bi2O3的保护层604、606、608的载体602的透射502。电磁辐射的波长范围504能够划分为对于有机物质无危害的可见范围508和有害的UV范围506，其中这两个范围506、508在波长为大约400nm处从UV边缘510转变、即彼此分开。
[0276]在另一个设计方案中，不同的含Bi的保护层604、606、608能够借助于玻璃层前体304的丝网印刷被以大约0.7mm的厚度涂覆到软玻璃衬底102(602)上并且在玻璃化和冷却212之后例如具有大约10 μ m的层厚度。
[0277]由玻璃层前体304构成保护层106能够根据图2的描述来构成。
[0278]未覆层的载体602与具有含Bi的保护层604、606、608的载体相比具有更高的透射进而不具有足够的UV防护。具有含Bi的保护层604、606、608的载体反之显示出UV防护。在保护层的厚度为大约10 μ m或者更薄的情况下，有害的UV辐射的一部分能够穿过保护层106。
[0279]图7根据不同的实施例示出关于电磁辐射的穿过不同的保护层的透射的图表700。
[0280]在图7中的透射频谱700中示出不同波长504的电磁辐射穿过载体702以及穿过具有与含铋的保护层708相比不同的含铅的保护层704、706的载体702的透射502。电磁辐射的波长范围504能够划分为对于有机物质无危害的可见范围508和有害的UV范围506，其中这两个范围506、508在波长为大约400nm处从UV边缘510转变、即彼此分开。
[0281]在图7中示出厚度为大约0.7mm的软玻璃衬底的透射曲线和具有厚度为大约1ym的含PbO的玻璃层以及含Bi的玻璃层的类似的玻璃载体的透射曲线。
[0282]由含铅的玻璃、例如由硼酸铅玻璃或者铅硼硅酸玻璃构成的玻璃层前体304能够借助于丝网印刷涂覆到厚度为大约0.7mm的玻璃衬底102上并且在冷却212之后构成尽可能无孔的并且平滑的、具有例如大约10 μ m的层厚度的层。
[0283]由玻璃层前体304构成保护层106能够根据图2的描述来构成。
[0284]未覆层的载体702与具有含Bi的保护层708或者含铅的保护层704、706的载体相比具有更高的透射进而与具有含Bi的保护层708或者含铅的保护层704、706的载体相比具有更低的UV防护。
[0285]含铅的保护层704、706与载体702相比能够提供更高的UV防护。然而含铅的保护层704、706在所选择的层厚度中与含Bi的保护层708相比能够具有对UV辐射的更低的吸收进而具有更低的UV防护。
[0286]图8根据不同的实施例示出用于制造保护层106的方法的流程图800。
[0287]在用于制造保护层106的一个设计方案中，为了提高UV吸收，能够给玻璃焊料、例如给玻璃焊料粉末膏306中的玻璃焊料粉末306添加吸收UV的添加物902、例如具有大约0.1 μ m至大约I μ m范围中的平均粒度的T12、CeO2、Bi203> ZnO或者SnO2，其中吸收UV的添加物902应均匀地分布在玻璃焊料粉末膏306中。
[0288]在用于制造保护层106的又一个设计方案中，为了提高UV吸收，能够给玻璃焊料、例如给玻璃焊料粉末膏中的玻璃焊料粉末306添加吸收UV的添加物902、例如吸收UV的纳米颗粒902 (未示出)，其中吸收UV的添加物902应均匀地分布在玻璃焊料粉末膏306中。
[0289]吸收UV的纳米颗粒902在熔化的玻璃焊料306中不具有可溶性或者具有低的可溶性和/或不与该玻璃焊料反应或者仅困难地反应。此外，纳米颗粒不会引起电磁辐射的散射或者仅引起电磁辐射的低的散射，所述纳米颗粒例如是具有小于大约50nm的粒度、例如由T12、CeO2、ZnO或Bi2O3构成的纳米颗粒。
[0290]在又一个设计方案中，吸收UV的添加物902 (未示出)能够具有发光材料或者由其形成，其中发光材料在UV范围506中具有吸收。
[0291]在又一个设计方案中，添加物902能够具有吸收UV的玻璃或者由其形成。
[0292]由玻璃或者发光材料构成的吸收UV的添加物902能够具有在大约50nm至大约10 μ m的范围中的平均粒度、例如在大约0.1 μ m至大约I μ m的范围中的平均粒度。
[0293]吸收UV的添加物902除了吸收UV范围506中的电磁辐射外还借助于散射引起光从光电子器件100中稱合输出的提高。
[0294]在另一个设计方案中，玻璃粉末与至少一种类型的吸收UV的添加物混合并且作为膏或者悬浮物借助于丝网印刷或者模板印刷施加到载体102上。由此能够在玻璃化之后在玻璃基体中构成吸收UV的添加物的均匀的分布。
[0295]至少一种类型的吸收UV的添加物能够具有选自下述吸收UV的添加物中的吸收UV的添加物:吸收UV的颗粒902、如具有0.1 μ m至I μ m的平均粒度的T12' Ce02、Bi2O3'ZnO或者SnO2 ;纳米颗粒902 ;发光材料902或者吸收UV的玻璃颗粒902 ;其中具有玻璃基体306的吸收UV的添加物902中的每个、即具有吸收UV的添加物902的保护层106，与载体102相比具有对UV辐射的低的透射。
[0296]具有吸收UV的添加物的玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏能够在制备202载体102的或者阻挡薄层104的表面302之后施加(204)到表面302上。关于其它的方法步骤206、208、210、212、214和对于构成保护层106必要的物质或物质混合物、例如玻璃焊料306、粘结剂等的说明能够根据图2的描述来构成。
[0297]图9根据不同的实施例示出在用于制造保护层800的方法中在移除206载体102的表面302上的具有玻璃颗粒306和吸收UV的添加物902的玻璃层前体304的非挥发性的有机的组成部分之后的保护层106的示意的横截面图。玻璃粉末在所示出的实施方案中已经与至少一种类型的吸收UV的添加物混合并且作为膏或悬浮物借助于丝网印刷或者模板印刷施加到载体102上。
[0298]借助于移除206玻璃层前体304的非挥发性的有机的组成部分能够在玻璃颗粒306之间构成空的体积308。前体层304在此是具有或不具有挥发性的和/或非挥发性的有机组成部分的玻璃颗粒306的所施加的层。吸收UV的添加物902与玻璃颗粒306均匀地混合。
[0299]图10根据不同的实施例示出在用于制造保护层800的方法中在具有吸收UV的添加物902的玻璃焊料306液化210和玻璃焊料在例如载体102的表面302上潮解或固化212之后的保护层106的示意的横截面图。
[0300]借助于玻璃焊料306的液化210能够填充玻璃颗粒308之间的空的体积308并且在保护层106上构成平滑的、无孔的表面402。平滑的、无孔的表面402的构成也能够在处理214表面之后、例如在抛光之后才进行调整。
[0301]吸收UV的添加物902，例如根据图8的描述，能够在液化的且潮解的玻璃颗粒306固化212之后、即在构成保护层106之后，例如均匀地分布在保护层106的玻璃306中。
[0302]图11根据不同的实施例示出另一种用于制造保护层106的流程图1100。
[0303]所示出的是:制备202载体；施加1102散射中心前体；干燥1104散射中心前体；施加204玻璃层前体；干燥206玻璃层前体；移除208散射中心层和玻璃层中的非挥发性的有机组成部分(排胶)；液化210玻璃层前体或者液化(玻璃化)210玻璃粉末层；固化212玻璃并且调节214表面特性，其中调节214表面特性能够是可选的。散射中心前体能够具有吸收UV的进行散射的颗粒、例如具有在大约0.1 μ m至大约I μ m的范围中的平均粒度的T12, CeO2,Bi203> ZnO或者SnO2 ;发光材料或者不吸收UV的仅进行散射的颗粒、例如具有在大约0.1 μ m至大约I μ m的范围中的平均粒度的A1203、Si02、Y2O3或者Zr02。
[0304]制备202载体、例如具有大约1.5的折射率的钙钠硅酸盐玻璃，例如能够具有:施加阻挡层104、例如S12 ;清洁载体102的表面或者清洁阻挡层104的表面或者调节载体102或阻挡层104的表面302上的化学基团或者表面粗糙度。
[0305]在制备202载体102之后能够将散射中心前体施加1102到载体102或阻挡层104的表面302上。施加1102散射中心前体例如能够具有:将由散射中心1202以及挥发性的和非挥发性的有机组成部分构成的悬浮物或膏施加到表面302上。
[0306]对于所述方法重要的是:在施加进行散射的和/或吸收UV的添加物、例如散射中心之后液化玻璃。由此能够调节进行散射的添加物在保护层中的分布并且在玻璃的唯一的液化过程中、例如在退火过程中构成保护层的平滑的表面。由玻璃颗粒构成的或者具有玻璃粉末的悬浮物或膏的制造就此而言不被理解为液化，因为玻璃颗粒的外观不因悬浮物而改变。
[0307]在一个设计方案中，散射中心1202的物质或物质混合物相对于载体102的物质仅具有对UV透射的小的降低或者不具有对UV透射的降低，其中散射中心1202的物质或物质混合物具有选自下述物质中的物质或者化学计量的化合物或由其形成:Al203、Si02、Zr02或者m。
[0308]在另一个设计方案中，散射中心1202能够具有吸收UV的物质或者吸收UV的物质混合物或者由其形成、例如Ti03、CeO2, ZnO、Bi203。
[0309]在又一个设计方案中，散射中心1202能够具有发光材料或者由其形成，所述发光材料在UV范围506中具有吸收。
[0310]在又一个设计方案中，散射中心1202能够具有玻璃、例如玻璃颗粒或者由其形成，其中玻璃能够附加地构成为吸收UV的玻璃，但是在玻璃化过程期间不改变或者软化。
[0311]由玻璃或者发光材料构成的散射颗粒1202能够具有在大约50nm至大约10 μ m的范围中的平均粒度、例如在大约0.1 μ m至大约I μ--的范围中的平均粒度。
[0312]在不可视为是限制性的一个设计方案中，能够由能丝网印刷的、由氧化的散射颗粒 306、例如 KRONOS 2056 (T12, d50 = 0.45 μ m)或者 CRlO (Al2O3, d50 = 0.45 μ m)，以及市售的丝网印刷介质(例如乙酸乙酯中的硝化纤维素或者乙二醇醚中的纤维素衍生物)构成的膏或悬浮物构成具有例如大约30 μ m的湿层厚度的的薄的丝网印刷层1204或散射中心前体1204。
[0313]在借助于挥发性的溶剂、例如以悬浮物或膏施加1102散射中心前体之后，干燥1104散射中心前体1204。丝网印刷层1204例如能够在70°C中干燥3小时。在干燥1104期间，丝网印刷层1204的挥发性的组成部分被移除。然而丝网印刷层1204仍具有非挥发性的有机组成部分、如粘结剂，所述粘结剂将散射颗粒彼此连接以及与载体连接从而给层带来用于后面的工艺步骤的一定的机械强度。
[0314]在干燥1104丝网印刷层1204之后，例如能够借助于丝网印刷或者模板印刷施加玻璃层前体304、例如借助玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏来施加，所述玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏能够具有由硼酸铅玻璃颗粒或者铅硼娃酸玻璃颗粒构成的粉末。
[0315]玻璃粉末悬浮物或玻璃粉末膏同样包含市售的丝网印刷介质(例如乙酸乙酯中的硝化纤维素或者乙二醇醚中的纤维素衍生物)。玻璃粉末印刷层304例如能够具有大约30 μ m的湿层厚度。硼酸铅玻璃颗粒或者铅硼硅酸玻璃颗粒例如能够在大约1.7至大约1.9的范围中的折射率。硼酸铅玻璃颗粒或者铅硼硅酸玻璃颗粒例如能够具有带有D90〈12 μ m和D50〈3 μ m的粒度分布。硼酸铅玻璃颗粒或者铅硼硅酸玻璃颗粒的热膨胀系数对于大约50°C至大约400°C的温度范围例如能够为大约7.5.10_61/K并且载体、即钙钠硅酸盐玻璃的热膨胀系数例如为大约8.5.10_61/Κ至9.10_61/Κ。
[0316]玻璃层前体304的厚度能够为，使得玻璃层前体304中的玻璃306的总体积大于散射中心1206同挥发性的和非挥发性的有机物质、例如粘结剂、溶剂的体积之间的空的体积，或者换言之，大于散射中心前体1204中的散射中心1202之间的中间空间1206的总的可占据的体积。
[0317]在此，保护层的在进行散射的添加物上方的所述部分应具有大于或等于进行散射的和/或吸收UV的添加物的最上方的层片的粗糙度的厚度，所述进行散射的和/或吸收UV的添加物例如是吸收UV的散射中心、例如不具有玻璃的散射光的颗粒，使得构成至少一个平滑的表面、即所述表面具有低的RMS粗糙度(root mean square均方根,平均偏差的绝对值)、例如小于10nm。进行散射的添加物的最上方的层片的粗糙度与进行散射的添加物的实际大小相关。
[0318]在施加204玻璃层前体304之后，所述方法能够具有:干燥206玻璃层前体304，例如在70°C中干燥3小时，以便移除挥发性的组成部分。
[0319]在干燥206玻璃层前体304之后，已干燥的丝网印刷层1204和已干燥的玻璃层前体304中的非挥发性的有机组成部分能够借助于移除208非挥发性的有机组成部分来热移除、例如借助于热解。丝网印刷介质应选择为，使得在玻璃粉末306软化之前结束排胶。因为所使用的铋硼硅酸玻璃从大约500°C起能够开始软化，所以这两个上述粘结剂-溶剂体系对于该玻璃是尤其适合的，因为它们根据体系已经能够在大约200°C至大约400°C之间烧尽。
[0320]移除208散射中心前体1204和玻璃层前体304中的非挥发性的有机组成部分能够在散射中心前体1204和玻璃层前体310中构成空的体积1206、308。
[0321]在移除208非挥发性的有机组成部分之后，能够液化210玻璃层前体304。
[0322]在上述铅硼硅酸玻璃焊料作为玻璃粉末层304的情况下，能够在高于大约500°C的温度下进行玻璃化。在具有大约550°C的上部冷却温度的钙钠硅酸盐玻璃作为载体102的实例中，温度上限根据加热方法能够具有大约600°C的值，以便避免载体的变形或将其保持得低。在玻璃化时降低玻璃层前体304或者玻璃颗粒306的粘度。由此玻璃层前体304或者玻璃颗粒306能够占据已干燥的丝网印刷层1204的散射中心1202之间的空的体积1206。该过程也称为玻璃化。如果玻璃化在低于载体102或者载体玻璃102的转变温度下进行，那么在所述载体或载体玻璃中不构建任何热应力。这两个复合配队物、即载体102和玻璃焊料306的热膨胀系数不应差别过大，以便避免载体102和保护层106之间的过强的复合应力从而确保持久的连接。因为保护层106能够起类似于阻挡层的作用，所以例如当玻璃基体306无碱时可以放弃阻挡薄层104。
[0323]借助于玻璃化，保护层106的厚度相对于散射中心前体1204的厚度和玻璃层前体304的层厚度能够降低、例如降低到大约10 μ m。
[0324]在液化210玻璃层前体并且在液态的玻璃流入到散射中心1202之间的空间1206中之后，能够固化212玻璃304、例如借助于冷却、例如被动地冷却。借助于固化212玻璃304能够构成保护层106。
[0325]在保护层106固化212之后，能够调节214保护层106的表面特性、例如抛光、即平滑保护层106的表面402，例如借助于短暂地局部提高温度、例如借助于定向的等离子体、例如作为火抛光或者也作为激光抛光。
[0326]在又一个设计方案中，对于玻璃层前体304使用硼酸铅玻璃颗粒或者铅硼硅酸玻璃颗粒，所述硼酸铅玻璃颗粒或者铅硼硅酸玻璃颗粒例如具有带有D90〈15 μ m和D50〈6 μ m的粒度分布。硼酸铅玻璃颗粒或者铅硼硅酸玻璃颗粒能够具有例如大约12.5.10_61/K的热膨胀系数。在使用该玻璃的情况下，玻璃化能够在低于大约500°C的温度下构成，因为其软化会在大约360°C下开始。
[0327]在另一个设计方案中，对于玻璃层前体304也能够使用无铅的玻璃颗粒，所述玻璃颗粒能够具有在大约1.7和大约2.1之间的折射率。该玻璃颗粒例如能够是硼酸铋玻璃颗粒或者铋硼硅酸玻璃颗粒，具有大约I μ m的粒度分布D50并且对于大约50°C至大约3500C的温度范围具有大约8.5.10_61/K的热膨胀系数。替选地，例如也能够选择铋锌硼酸玻璃颗粒或者秘锌硼娃酸玻璃颗粒，所述秘锌硼酸玻璃颗粒或者秘锌硼娃酸玻璃颗粒具有大约7μπι的粒度分布D50并且对于大约50°C至大约300°C的温度范围具有大约10.10_61/K的热膨胀系数的。
[0328]具有散射颗粒的保护层的总层厚度能够在大约Ιμ--至大约100 μ m的范围中构成。
[0329]图12根据不同的实施例示出在用于制造保护层1100的方法中在移除206载体102的表面302上的具有玻璃颗粒306的玻璃层前体304和具有散射中心1202的散射中心前体1204的非挥发性的有机组成部分之后的保护层106的示意的横截面图，其中所述散射中心1202能够是吸收UV的。
[0330]借助于移除散射中心前体1202和玻璃层前体304的非挥发性的有机组成部分能够在散射中心1202之间并且在玻璃颗粒304之间构成空的体积1206、308。前体层1204、304在此是具有或不具有挥发性的和/或非挥发性的有机组成部分的散射中心1204和玻璃颗粒304的所施加的层。
[0331]图13根据不同的实施例示出在用于制造根据不同的实施例的保护层1100的方法中在玻璃304液化210并且流入到散射中心1202之间的空体积1206中之后的保护层106的示意的横截面图，其中散射中心1202也能够是吸收UV的。
[0332]保护层106的所示出的层横截面例如对应于在固化212液化的玻璃颗粒304并且构成玻璃层1302或玻璃基体1302之后的层横截面。玻璃1302能够具有空的表面1304并且与载体102或阻挡层104分享一个共同的边界面136。此外玻璃层1302能够与散射中心1202分享一个共同的边界面1308或者多个共同的边界面1308。
[0333]在玻璃基体1302与散射中心1202的边界面1308上能够散射电磁辐射，由此能够提高光电子器件中的光耦合输出，其中散射中心1202例如能够是吸收UV的。
[0334]图14根据不同的实施例示出关于电磁辐射穿过不同的保护层的透射的图表1400。
[0335]在图14中的透射光谱1400中示出不同波长504的电磁辐射穿过载体1402以及穿过具有不同的保护层1404、1406、1408、1410的载体的透射502。电磁辐射的波长范围504能够划分为对于有机物质无危害的可见范围508和有害的UV范围506，其中这两个范围506、508在波长在大约400nm处从UV边缘510转变、即彼此分开。
[0336]所示出的是:具有含Bi的1408的玻璃基体1302中的和含PbO的1406的玻璃基体1302中的T12散射中心的保护层106的透射，其中所述透射例如能够借助于根据图11中的描述所述的方法构成。T12散射中心在此附加地是吸收UV的、即T12散射中心在该设计方案中是吸收UV的添加物902并且附加地与散射中心1202合为一体。
[0337]此外示出含Bi 1404保护层106和含PbOHlO的保护层106的透射，所述透射例如能够借助于根据图2中的描述所述的方法构成。
[0338]具有保护层1404、1406、1408、1410的结构已施加在类似的载体102上、例如施加在厚度为大约0.7mm的软玻璃衬底102上。因此载体102的透射1402能够用作为用于具有保护层1404、1406、1408、1410的结构的参考值。所示出的透射1404、1406、1408、1410的保护层106能够分别具有大约10 μ m的厚度。
[0339]未覆层的载体1402与具有含Bi的保护层1404、1408或者含铅的保护层1406、1410的载体102相比具有更高的透射进而具有更低的UV防护。
[0340]含铅的保护层1406、1410与载体1402相比能够提供更高的UV防护。然而含铅的保护层1406、1410在所选择的层厚度中与含Bi的保护层1404、1408相比具有对UV辐射的更低的吸收进而具有更低的UV防护。
[0341]吸收UV的添加物902能够根据图8或图11的描述的方法在保护层106中构成。借助于吸收UV的添加物902，UV边缘510能够向右移动、即向更高的波长504移动，由此相对于不具有散射颗粒的保护层(1404表示含Bi并且1410表示含铅)提高了含Bi的(1408)和含铅的(1410)的保护层106的UV吸收。
[0342]在不同的实施方式中提供一种光电子器件和一种用于制造光电子器件的方法，借助于所述方法可行的是，在未将吸收UV的塑料薄膜施加到器件的外侧上的情况下保护有机光电子器件免受UV辐射影响。由此能够防止对有机光电子器件的美学外观的损害。此外能够节省将塑料薄膜施加到光电子器件上的工艺步骤和薄膜本身。
[0343]此外吸收UV的层能够有利地构成为，使得吸收UV的颗粒同时作用为用于可见光的散射体从而提高光从有机光电子器件的耦合输出。
【权利要求】
1.一种光电子器件(100)，具有: ?载体(102)； ?所述载体(102)上或上方的保护层(106)； ?所述保护层(106)上或上方的第一电极(110)； ?所述第一电极上或上方的有机功能层结构(112);和 ?所述有机功能层结构(112)上或上方的第二电极(114)； 其中所述保护层(106)与所述载体(102)相比对于波长小于大约400nm的电磁辐射(506)而言至少在一定波长范围中具有更低的透射； 并且其中所述保护层(106)具有玻璃。
2.根据权利要求1所述的光电子器件(100)， 其中所述载体(102)面状地构成。
3.根据权利要求1或2所述的光电子器件(100)， 其中所述载体(102)具有软玻璃或者由其形成。
4.根据权利要求3所述的光电子器件(100)， 其中所述软玻璃是钙钠硅酸盐玻璃。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光电子器件(100)， 其中所述保护层(106)具有基体(306)和嵌入在所述基体中的至少一个第一类型的吸收UV的添加物(902，1202)，其中所述吸收UV的添加物(902，1202)与所述载体(102)相比对于波长小于大约400nm的电磁辐射(506)而言至少在一定波长范围中具有更低的透射。
6.根据权利要求5所述的光电子器件(100)， 其中所述保护层(106)的所述基体(306)具有大于大约1.7的折射率。
7.根据权利要求5或6所述的光电子器件(100)， 其中所述保护层(106)的所述基体(306)构成为是无定形的。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的光电子器件(100)， 其中所述保护层(106)的所述基体(306)具有选自下述玻璃体系中的物质或物质混合物或者由其形成:
含 PbO 的体系:Pb0-B203、PbO-S12'PbO-B2O3-S12'PbO-B2O3-ZnO2'PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能够具有Bi2O3 ；
含 Bi2O3 的体系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi203_B203_Zn0_Si02， 其中所述物质或物质混合物仍附加地具有选自下述物质中的物质或物质混合物:Al2O3、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2, WO3> MO3> Sb203、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
9.根据权利要求8所述的光电子器件(100)， 其中所述基体(306)的所述物质或物质混合物具有选自下述物质中的物质或者由其形成:铈化合物、铁化合物、锡化合物、钛化合物、镨化合物、铕化合物和/或钒化合物。
10.根据权利要求5至9中任一项所述的光电子器件(100)， 其中一种类型的所述吸收UV的添加物(902，1202)具有选自下述物质中的物质或物质混合物或化学计量的化合物或者由其形成:
T12、CeO2、Bi2O3、ZnO、SnO2 ； 发光物质:掺杂Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG ;掺杂Eu3+的氮化物、硫化物，S1NE、塞隆、正硅酸盐、氯硅酸盐、氯磷酸盐、BAM(铝酸钡镁:Eu)和/或SCAP、卤磷酸盐、玻璃颗粒、金属纳米颗粒。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的光电子器件(100)， 其中所述光电子器件(100)优选构成为有机发光二极管(100)或者构成为有机太阳能电池(100)。
12.一种用于制造光电子器件的方法，所述方法具有: ?在载体(102)上或上方形成保护层(106)； ?在所述保护层(106)上或上方形成第一电极(110)； ?在所述第一电极(110)上或上方形成有机功能层结构(112)； 以及 ?在所述有机功能层结构(112)上或上方形成第二电极(114)； 其中所述保护层(106)构建为，使得与所述载体(102)相比对于波长小于大约400nm的电磁辐射(506)而言至少在一定波长范围中具有对电磁辐射的更低的透射； 并且其中所述保护层(106)具有玻璃。
13.根据权利要求12所述的方法， 其中形成所述保护层(106)具有:将玻璃焊料粉末施加在所述载体(102)上或上方，其中将所述玻璃焊料粉末(306)液化以构成所述保护层(106)。
14.根据权利要求13所述的方法， 其中在将所述玻璃焊料粉末施加到所述载体(102)上之前给所述玻璃焊料粉末(306)添加至少一种类型的吸收UV的添加物(902，1202)。
15.根据权利要求13或14所述的方法， 其中将吸收UV的散射中心(902，1202)施加在所述载体(102)上或上方并且将所述玻璃焊料粉末(306)施加在吸收UV的所述散射中心(902，1202)的层片(1204)上或上方，并且将所述玻璃(306)液化，使得液化的所述玻璃(306)的一部分在所述散射中心(1202)之间朝向所述载体(302)的表面(1306)流动，使得仍有一部分液化的所述玻璃(306)保留在所述散射中心(1202)上方。
【文档编号】H01L51/52GK104379521SQ201380022254
【公开日】2015年2月25日 申请日期:2013年4月11日 优先权日:2012年4月26日
【发明者】丹尼尔·斯特芬·塞茨, 安杰拉·埃贝哈特, 曼弗雷德·戴森霍费尔, 克里斯蒂娜·威尔 申请人:欧司朗Oled股份有限公司