扇出型圆片级封装的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种扇出型圆片级封装的制作方法，包括：提供尺寸较小的圆形承载片，在承载片上贴覆粘结胶；芯片正贴到粘结胶上；涂覆价格便宜的第二类感光树脂将芯片覆盖；在第二类感光树脂上露出芯片的有效图形区域；涂覆高解析度的第一类感光树脂将芯片暴露出的有效图形区域覆盖；在第一类感光树脂中形成通向芯片焊盘的导通孔；沉积种子层，在种子层上涂覆光刻胶，在光刻胶上显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘的电镀线路；涂覆阻焊油墨覆盖电镀线路，在阻焊油墨上显露出电镀线路上的金属焊盘；在金属焊盘上形成焊球。本方法可以降低成本和制造难度，提高涂覆树脂的表面均匀性，并且可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料。
【专利说明】扇出型圆片级封装的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及微电子封装方法，尤其是一种扇出型圆片级封装的制作方法。
【背景技术】
[0002]随着电子产品多功能化和小型化的潮流，高密度微电子组装技术在新一代电子产品上逐渐成为主流。为了配合新一代电子产品的发展，尤其是智能手机、掌上电脑、超级本等产品的发展，芯片的尺寸向密度更高、速度更快、尺寸更小、成本更低等方向发展。扇出型晶圆级封装技术(Fanout Wafer Level Package, FOWLP)的出现,满足了芯片产品尺寸更薄、节省材料(封装基板)等特点，但是如何降低扇出型圆片级封装产品的成本成为需要研究的方向。
[0003]日本J-Devices公司在US20110309503A1专利中，给出了一种扇出型晶圆级封装的制作方法，如图1所示。J-Devices公司的专利主要工艺如下:
第一步:使用粘结剂以一定间隔在基板上形成粘结层；
第二步:在粘结I父上贴放芯片；
第三步:涂覆第一绝缘树脂，并在树脂上开出窗口，露出芯片上的焊盘； 第四步:通过图形电镀与光刻的方法，制作重布线层(Redistribution Layer, RDL),将芯片上的焊盘引出；
第五步:制作第二绝缘层，并做开口露出重布线层的金属；
第六步:在第二绝缘层上面制作焊球或凸点。
[0004]该技术的不足之处在于，工艺的第三步中涂覆第一绝缘树脂，由于通常芯片厚度在50微米以上，所以涂覆绝缘树脂的厚度不易控制，不利于精细线路的制作。而且个别树月旨(如ΡΒ0)价格较高，不利于成本控制。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种扇出型圆片级封装的制作方法，能够降低制造成本，以及在工艺过程中降低制造难度和提高涂覆树脂的表面均匀性，并且可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料，大幅度提高了布线密度和制造精度。本发明采用的技术方案是:
一种扇出型圆片级封装的制作方法，包括下述步骤:
步骤一，提供一圆形的承载片，在承载片上贴覆粘结胶；
步骤二，将芯片正贴到粘结胶上；
步骤三，在圆形承载片上贴有芯片的那一面上涂覆第二类感光树脂，第二类感光树脂包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料，第二类感光树脂将芯片覆盖；
步骤四，去除芯片正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂，露出芯片的有效图形区域，使得芯片焊盘暴露在外；
步骤五，在承载片上贴有芯片的那一面上涂覆第一类感光树脂，第一类感光树脂包括BCB、PBO、PSP1、聚酰亚胺或陶氏化学公司的Intervia材料；第一类感光树脂将芯片暴露出的有效图形区域覆盖；
步骤六，在第一类感光树脂中形成通向芯片焊盘的导通孔；
步骤七，在导通孔中和第一类感光树脂上沉积种子层；在种子层上涂覆光刻胶，然后使得光刻胶上显露出用于制作电镀线路的图形，使用电镀的方法，在显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘的电镀线路；
步骤八，去除光刻胶和光刻胶底部的种子层，保留电镀线路底部的种子层；在承载片上涂覆阻焊油墨，使得阻焊油墨覆盖电镀线路；
然后在阻焊油墨上显露出电镀线路上的金属焊盘；
步骤九，在金属焊盘上形成焊球。
[0006]进一步地,所述步骤一中，圆形承载片的材料为S1、玻璃、金属板或有机基板。
[0007]进一步地，所述步骤三中，涂覆第二类感光树脂的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
[0008]进一步地，所述步骤四中，具体在曝光机中通过对位曝光工艺，使第二类感光树脂发生反应，使用显影液将芯片正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂去除。
[0009]进一步地，所述步骤五中，涂覆第一类感光树脂的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
[0010]进一步地，所述步骤七中，通过溅射金属或化学沉铜工艺，在导通孔中和第一类感光树脂上沉积种子层。
[0011 ] 进一步地，所述步骤九中，通过植球、印刷、电镀或化学镀工艺形成焊球。
[0012]本发明的优点在于:
I).高性能芯片的扇出工艺大部分使用第一类感光树脂，该类树脂包括BCB、ΡΒ0,PSPI (光敏聚酰亚胺)、聚酰亚胺等材料。第一类感光树脂具有分辨率高，适合高频作业等特点，缺点是成本昂贵。第二类感光树脂主要包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜、感光型增层(build-up)材料等产品。第二类感光树脂的价格远低于第一类感光树脂，但是解析度等要求也随之降低。本发明使用第二类感光树脂作为芯片间的填充剂，第一类感光树脂制作线路扇出层，在保证封装工艺精度的同时，降低了制造成本。
[0013]2).使用两步涂胶方式，可以有效提高树脂涂覆的均匀性。在本发明中，首先使用第二类感光树脂将芯片与芯片之间的沟槽填平。填平后树脂顶部到芯片顶部的距离可控制在10微米以下，比较芯片贴片后的厚度大于50微米的厚度，由于第二类感光树脂涂覆后涂覆高度差的减少，使得第一类感光树脂的厚度只需略微高过第二类感光树脂，制造难度大大降低，树脂表面均勻性大幅提闻。
[0014]3).选用圆片进行封装，可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料，大幅度提高了布线密度和制造精度，解决了封装基板产品焊盘间距过大、可靠性低等一些问题。更适合于未来高密度封装技术的发展。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1为日本J-Devices公司的一种扇出型晶圆级封装的制作方法示意图。
[0016]图2为本发明的圆形承载片上贴覆粘结胶示意图。[0017]图3为本发明的粘贴芯片示意图。
[0018]图4为本发明的涂覆第二类感光树脂示意图。
[0019]图5A为本发明的在第二类感光树脂上露出芯片的有效图形区域示意图。
[0020]图5B为本发明的单个芯片在去除多余第二类感光树脂后剖视图。
[0021]图5C为本发明的单个芯片在去除多余第二类感光树脂后俯视图。
[0022]图6为本发明的涂覆第一类感光树脂示意图。
[0023]图7A为本发明的制作导通孔示意图。
[0024]图7B为本发明的导通孔小于芯片焊盘时的示意图。
[0025]图7C为本发明的导通孔大于芯片焊盘时的示意图。
[0026]图8为本发明的制作种子层和电镀线路示意图。
[0027]图9为本发明的涂覆阻焊油墨覆盖电镀线路，在阻焊油墨上显露出电镀线路上的金属焊盘示意图。
[0028]图10为本发明的制作焊球示意图。
[0029]图11为本发明的流程图。
【具体实施方式】
[0030]下面结合具体附图和实施例对本发明作进一步说明。
[0031]本发明所提出的扇出型圆片级封装的制作方法，具体包括下述步骤:
步骤一，如图2所示，提供一圆形的承载片101，在承载片101上贴覆粘结胶102 ；
此步骤中，由于是进行圆片级封装，因此承载片101选用尺寸较小的圆形承载片(相对
于方片级封装而言尺寸较小)。选用圆片进行封装，可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料，大幅度提高了布线密度和制造精度，解决了封装基板产品焊盘间距过大、可靠性低等一些问题。更适合于未来高密度封装技术的发展。承载片材料可以是S1、玻璃、金属板、有机基板等平板，具体可通过丝网印刷或点胶、热压、滚压等工艺，贴覆粘结胶102。
[0032]步骤二，如图3所示，将芯片103正贴到粘结胶102上；
此步骤中，具体可通过贴片机将芯片103正贴到粘结胶102上，即芯片103的背面与粘结胶102贴合。
[0033]步骤三，如图4所示，在圆形承载片101上贴有芯片103的那一面上涂覆第二类感光树脂104，第二类感光树脂104包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料，第二类感光树脂104将芯片103覆盖；
此步骤中，第二类感光树脂104主要包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料(如日立化成公司的RAYTEC材料、FZ系列材料、日本太阳油墨公司的AUS410材料等)，第二类感光树脂104的解析度虽然有些低，但是价格远低于BCB苯并环丁烯、PBO聚对苯撑苯并二恶唑、PSPI光敏聚酰亚胺、聚酰亚胺等第一类感光树脂。使用第二类感光树脂作为芯片间的填充剂，可以有效降低成本。涂覆工艺可以是旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压、真空压合等工艺。
[0034]步骤四，如图5A、图5B、图5C所示，去除芯片103正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂104，露出芯片103的有效图形区域，使得芯片焊盘106暴露在外；
具体地，如图5A所示，第二类感光树脂104涂覆完成后，通过加热等工艺将其预固化。然后在曝光机中通过对位曝光等工艺，使第二类感光树脂104发生反应，使用显影液将不需要的第二类感光树脂104去除，露出芯片103的有效图形区域。
[0035]图5B为单个芯片103曝光、显影工艺完成后的剖面图。从图中可以看出，第二类感光树脂104经过显影工艺，芯片焊盘106暴露在外面，便于后续线路的扇出工艺。芯片保护层105是待封装的芯片103自带的(由芯片提供厂家制作)。
[0036]图5C是单个芯片103曝光、显影工艺完成后的俯视图，从图中可以看出，第二类感光树脂104将芯片103边缘的区域盖住，使芯片中间的大部分区域(有效图形区域)露出，在这部分中间的区域中包括有电性要求的芯片焊盘106。第二类感光树脂104盖住芯片103边缘的宽度，取决于曝光对位的误差、第二类感光树脂104本身的性能、芯片外围无效区域的尺寸和产品的要求等影响因素。
[0037]步骤五，如图6所示，如图6所示，在承载片101上贴有芯片103的那一面上涂覆第一类感光树脂107，第一类感光树脂107包括此8、？80、？5?1、聚酰亚胺或陶氏化学公司的Intervia材料等用于半导体和芯片封装行业的高解析度感光树脂；第一类感光树脂107将芯片103暴露出的有效图形区域覆盖。涂覆工艺可以是旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压、真空压合等工艺。
[0038]步骤六，如图7A、图7B、图7C所示，在第一类感光树脂107中形成通向芯片焊盘106的导通孔108 ；
如图7A所示，第一类感光树脂107经过光刻、显影、固化等工艺，在其中形成通向芯片焊盘106的导通孔108 ；
图7B中显示，当芯片焊盘106尺寸比较大，便于形成通向芯片焊盘106的导通孔108，导通孔108的直径小于芯片焊盘106的直径。
[0039]图7C中显示，当芯 片焊盘106尺寸比较小，在芯片焊盘106范围内形成导通孔108比较困难，则考虑导通孔108的底部尺寸大于芯片焊盘106，导通孔108的直径大于芯片焊盘106的直径。
[0040]步骤七，如图8所示，在导通孔108中和第一类感光树脂107上沉积种子层109 ；在种子层109上涂覆光刻胶110，然后使得光刻胶110上显露出用于制作电镀线路111的图形，使用电镀的方法，在显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘106的电镀线路111 ；
此步骤中，可以通过派射金属(材料可以是Al、Au、Cr、Co、N1、Cu、Mo、T1、Ta、N1-Cr、Co — N1、Co — Cr、W等)或化学沉铜等工艺，在导通孔108中和第一类感光树脂107上沉积种子层109。然后在种子层109上面涂覆光刻胶110 (光刻胶可以是液态的，也可以是薄膜状的)，通过使用底片在光刻机里进行对位曝光，经过显影等工艺使得光刻胶110上显露出制作电镀线路111的图形。使用电镀的方法，在显露出的图形区域中形成电镀线路111(即重布线结构)，电镀线路111需要电连接芯片焊盘106。
[0041]步骤八，如图9所示，去除光刻胶110和光刻胶底部的种子层109，保留电镀线路111底部的种子层109 ;在承载片101上涂覆阻焊油墨113，使得阻焊油墨113覆盖电镀线路111 ；
然后使用底片在光刻机里进行对位曝光，经过显影等工艺，在阻焊油墨113上显露出电镀线路111上的金属焊盘112。
[0042]第九步，如图10所示，在金属焊盘112上通过植球、印刷、电镀、化学镀等工艺形成焊球114。
【权利要求】
1.一种扇出型圆片级封装的制作方法，其特征在于，包括下述步骤: 步骤一，提供一圆形的承载片(101)，在承载片(101)上贴覆粘结胶(102)； 步骤二，将芯片(103)正贴到粘结胶(102)上； 步骤三，在圆形承载片(101)上贴有芯片(103)的那一面上涂覆第二类感光树脂(104)，第二类感光树脂(104)包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料，第二类感光树脂(104)将芯片(103)覆盖； 步骤四，去除芯片(103)正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂(104)，露出芯片(103)的有效图形区域，使得芯片焊盘(106)暴露在外； 步骤五，在承载片(101)上贴有芯片(103)的那一面上涂覆第一类感光树脂(107)，第一类感光树脂(107)包括此8、？8015?1、聚酰亚胺或陶氏化学公司的Intervia材料?’第一类感光树脂(107)将芯片(103)暴露出的有效图形区域覆盖； 步骤六，在第一类感光树脂(107)中形成通向芯片焊盘(106)的导通孔(108)；步骤七，在导通孔(108)中和第一类感光树脂(107)上沉积种子层(109);在种子层(109)上涂覆光刻胶(110)，然后使得光刻胶(110)上显露出用于制作电镀线路(111)的图形，使用电镀的方法，在显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘(106)的电镀线路(111); 步骤八，去除光刻胶(110)和光刻胶底部的种子层(109)，保留电镀线路(111)底部的种子层(109);在承载片(101)上涂覆阻焊油墨(113)，使得阻焊油墨(113)覆盖电镀线路(111); 然后在阻焊油墨(113)上显露出电镀线路(111)上的金属焊盘(112)； 步骤九，在金属焊盘(112)上形成焊球(114)。
2.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法，其特征在于: 所述步骤一中，圆形承载片(101)的材料为S1、玻璃、金属板或有机基板。
3.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法，其特征在于: 所述步骤三中，涂覆第二类感光树脂(104)的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
4.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法，其特征在于: 所述步骤四中，具体在曝光机中通过对位曝光工艺，使第二类感光树脂(104)发生反应，使用显影液将芯片(103)正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂(104)去除。
5.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法，其特征在于: 所述步骤五中，涂覆第一类感光树脂(107)的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
6.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法，其特征在于: 所述步骤七中，通过溅射金属或化学沉铜工艺，在导通孔(108)中和第一类感光树脂(107)上沉积种子层(109)。
7.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法，其特征在于: 所述步骤九中，通过植球、印刷、电镀或化学镀工艺形成焊球(114)。
【文档编号】H01L21/56GK103745938SQ201410045811
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2014年2月8日 优先权日:2014年2月8日
【发明者】陈 峰, 耿菲 申请人:华进半导体封装先导技术研发中心有限公司