湿法刻蚀装置及其刻蚀方法
【专利摘要】本发明公开一种湿法刻蚀装置，包括刻蚀槽(110)、设置在刻蚀槽(110)之内的多根滚轮(120)、浸泡槽(130)及升降器(140)，多根滚轮(120)用于承载待刻蚀的基板(150)，浸泡槽(130)设置在刻蚀槽(110)之内，并位于滚轮(120)之下，升降器(140)设置在浸泡槽(130)的底板(131)的下表面上，升降器(140)推动浸泡槽(130)上升或下降，以使浸泡槽(130)中的刻蚀液浸没或脱离待刻蚀的基板(150)。本发明在利用多根滚轮将基板传送至刻蚀槽中的同时，可向浸泡槽中注满新的刻蚀液，利于缩短浸泡刻蚀时间。此外，本发明将浸泡槽内已使用的刻蚀液完全排出，从而避免由于浸泡槽内的刻蚀液的置换能力不足，长时间积累使得刻蚀液变质的现象。
【专利说明】湿法刻蚀装置及其刻蚀方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及湿法刻蚀【技术领域】，具体地讲，涉及一种湿法刻蚀装置及其刻蚀方法。
【背景技术】
[0002] 湿法刻蚀工艺指的是采用液态化学药品对刻蚀物进行去除的刻蚀技术。湿法刻蚀 是用适当的刻蚀液，与刻蚀物进行化学反应，改变刻蚀物的结构，使无光刻胶覆盖的部分脱 离基片表面，而把有光刻胶覆盖的区域保存下来，这样便在基片表面得到了所需要的图案。
[0003] 在液晶显示面板制造过程中，对玻璃基板进行湿法刻蚀的模式主要包括喷淋 (Spray)模式和浸泡（Dip)模式。
[0004] 在传统的浸泡模式中，如图1所示，湿法刻蚀装置包括刻蚀槽11及设置在刻蚀槽 11内的多根平行的滚轮12,其中，刻蚀槽11的左右两侧板上分别设有阀门13。待刻蚀的玻 璃基板14在滚轮12的带动下进入刻蚀槽11后，需要将化学刻蚀液注满后才能对玻璃基板 14进行浸泡刻蚀，这样不利于缩短浸泡刻蚀时间。此外，随着浸泡刻蚀的进行，刻蚀槽11内 的化学刻蚀液的有效成分变化较快，而通过刻蚀槽11的阀门13无法将刻蚀槽11内的化学 刻蚀液完全排出，导致化学刻蚀液的置换能力不足，长时间积累会使得刻蚀槽11内的化学 刻蚀液变质，从而影响对玻璃基板14的刻蚀品质。
【发明内容】
[0005] 为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种湿法刻蚀装置， 包括刻蚀槽及设置在刻蚀槽之内的多根滚轮，所述多根滚轮用于承载待刻蚀的基板，其中， 所述湿法刻蚀装置还包括浸泡槽及升降器，其中，所述浸泡槽设置在所述刻蚀槽之内，并位 于所述滚轮之下，所述升降器设置在所述浸泡槽的底板的下表面上，所述升降器推动所述 浸泡槽上升或下降，以使所述浸泡槽中的刻蚀液浸没或脱离所述待刻蚀的基板。
[0006] 进一步地，所述浸泡槽的第一侧板和第二侧板的厚度均小于任意两根所述滚轮之 间的最小间隔。
[0007] 进一步地，所述浸泡槽的第一侧板和第二侧板均沿坚直方向下降，以使所述第一 侧板和第二侧板的顶面平齐于或低于所述底板的上表面，从而使所述浸泡槽中已使用的刻 蚀液完全排出。
[0008] 进一步地，所述湿法刻蚀装置还包括第一电磁阀和第二电磁阀，其中，所述第一电 磁阀设置在所述第一侧板上，用于控制所述第一侧板上升或下降，所述第二电磁阀设置在 所述第二侧板上，用于控制所述第二侧板上升或下降。
[0009] 进一步地，所述浸泡槽由聚氯乙烯材料形成。
[0010] 进一步地，所述升降器的外表面包裹耐腐蚀性材料。
[0011] 进一步地，所述第一电磁阀和第二电磁阀的外表面均包裹耐腐蚀性材料。
[0012] 本发明的另一目的还在于提供一种上述的湿法刻蚀装置的刻蚀方法，其包括：利 用多根滚轮将待刻蚀的基板传送至刻蚀槽中，同时在浸泡槽中注满刻蚀液；利用升降器推 动所述浸泡槽上升，以使所述浸泡槽中的刻蚀液浸没所述待刻蚀的基板，对所述待刻蚀的 基板进行刻蚀。
[0013] 进一步地，所述刻蚀方法还包括：在所述待刻蚀的基板刻蚀完成之后，利用升降器 推动所述浸泡槽下降，以使所述刻蚀液脱离经刻蚀的基板。
[0014] 进一步地，所述刻蚀方法还包括：将所述浸泡槽的相对的第一侧板和第二侧板沿 坚直方向下降，以使所述第一侧板和第二侧板的顶面平齐于或低于所述底板的上表面，从 而使所述浸泡槽中的刻蚀液完全排出。
[0015] 本发明的湿法刻蚀装置及其刻蚀方法，在利用多根滚轮将基板传送至刻蚀槽中的 同时，可向浸泡槽中注满新的刻蚀液，这样就无需等到基板被多根滚轮带动传送至刻蚀槽 之后，才向浸泡槽注入刻蚀液，利于缩短浸泡刻蚀时间。此外，本发明的湿法刻蚀装置及其 刻蚀方法能够将浸泡槽内已使用的刻蚀液完全排出，从而避免由于浸泡槽内的刻蚀液的置 换能力不足，长时间积累使得刻蚀液变质的现象。
【专利附图】
【附图说明】
[0016] 通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点 将变得更加清楚，附图中：
[0017] 图1是现有的湿法刻蚀装置的结构示意图；
[0018] 图2是根据本发明的实施例的湿法刻蚀装置的结构示意图；
[0019] 图3a至图3d分别示出利用根据本发明的实施例的湿法刻蚀装置刻蚀基板的刻蚀 过程图。
【具体实施方式】
[0020] 以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实 施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施 例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明 的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。
[0021] 图2是根据本发明的实施例的湿法刻蚀装置的结构示意图。
[0022] 参照图2,根据本发明的实施例的湿法刻蚀装置包括：刻蚀槽110、多根滚轮120、 浸泡槽130、升降器140。
[0023] 多根滚轮120平行地设置在刻蚀槽110内，用于承载待刻蚀的基板（例如玻璃基 板）150并将基板150带动传送至刻蚀槽110中。浸泡槽130设置在刻蚀槽110中，并位于 多根滚轮120之下。升降器140可例如是气缸，其设置在浸泡槽130的底板131的下表面， 用于推动浸泡槽130向上或向下运动，以使注满浸泡槽130的刻蚀液浸没或脱离基板150。 当利用多根滚轮120将基板150传送至刻蚀槽110中的同时，可向浸泡槽130中注满新的 刻蚀液，这样就无需等到基板150被多根滚轮120带动传送至刻蚀槽110之后，才向浸泡槽 130注入刻蚀液，利于缩短浸泡刻蚀时间。此外，为了能够使浸泡槽130中的刻蚀液对基板 150进行浸泡刻蚀，在本实施例中，优选的，第一侧板132和第二侧板133的厚度小于任意 两根滚轮120之间的最小间隔，这里，任意两根滚轮120之间的最小间隔等于任意两根滚轮 120的圆心之间的距离减去滚轮120的直径。
[0024] 此外，为了能够将浸泡槽130内已使用的刻蚀液完全排出，从而避免由于浸泡槽 130内的刻蚀液的置换能力不足，长时间积累使得刻蚀液变质的现象，在本实施例中，浸泡 槽130的相对设置的第一侧板132和第二侧板133可沿坚直方向下降，以使第一侧板132 的顶面1321和第二侧板133的顶面1331平齐于或低于底板131的上表面，从而使浸泡槽 130中的已使用的刻蚀液完全排出。当然，应当理解，在将浸泡槽130中的已使用的刻蚀液 完全排出之后，第一侧板132和第二侧板133可沿坚直方向上升，以恢复浸泡槽130的原 状。为了推动第一侧板132和第二侧板133沿坚直方向上升或下降，在本实施例中，在第一 侧板132和第二侧板133上分别设有第一电磁阀161和第二电磁阀162,通过第一电磁阀 161和第二电磁阀162分别对应控制第一侧板132和第二侧板133进行坚直上升或坚直下 降。应当理解的是，本发明并不局限于此，例如也可采用气缸控制第一侧板132和第二侧板 133进行坚直上升或坚直下降。另外，为了避免刻蚀槽110中的刻蚀液对第一电磁阀161和 第二电磁阀162进行腐蚀，在本实施例中，优选的，在第一电磁阀161和第二电磁阀162的 外表面均包裹具有耐腐蚀性的材料，例如，全氟烷氧基树脂（简称PFA)材料。
[0025] 此外，在本实施例中，由于浸泡槽130存储的刻蚀液具有腐蚀等性质，因此优选 的，本实施例的浸泡槽130采用耐腐蚀的聚氯乙烯（PVC)材料形成。当然，本发明并不局限 于此,也可由其他合适类型的耐腐蚀的材料形成。另外，为了避免刻蚀槽110中的刻蚀液对 升降器140进行腐蚀，在本实施例中，优选的，在升降器140的外表面包裹具有耐腐蚀性的 材料，例如，全氟烷氧基树脂（简称PFA)材料。
[0026] 图3a至图3d分别示出利用根据本发明的实施例的湿法刻蚀装置刻蚀基板的刻蚀 过程图。
[0027] 在图3a中，利用多根滚轮120将待刻蚀的基板150带动传送至刻蚀槽110中的同 时，向浸泡槽130中注满刻蚀液。如此，无需等到基板150被多根滚轮120带动传送至刻蚀 槽110之后，才向浸泡槽130注入刻蚀液，利于缩短浸泡刻蚀时间。
[0028] 在图3b中，利用升降器140推动浸泡槽130向上运动，以使注满浸泡槽130的刻 蚀液浸没基板150,对基板150进行浸泡刻蚀。
[0029] 在图3c中，在基板150完成刻蚀之后，利用升降器140推动浸泡槽130向下运动， 以使注满浸泡槽130的刻蚀液脱离经刻蚀的基板150。此后，可利用多根滚轮120将经刻蚀 的基板150传送出刻蚀槽110,以使其进入下一道制程（例如水洗制程、干燥制程等）。
[0030] 在图3d中，将浸泡槽130的相对设置的第一侧板132和第二侧板133沿坚直方向 下降，以使第一侧板132的顶面1321和第二侧板133的顶面1331平齐于或低于底板131 的上表面，从而使浸泡槽130中的已刻蚀完基板150的刻蚀液完全排出。此后，可将浸泡槽 130的相对设置的第一侧板132和第二侧板133沿坚直方向上升，以恢复浸泡槽130的原 状。在下一基板被多根滚轮120传输至刻蚀槽110中的同时，向浸泡槽130中注满新的刻 蚀液。如此，可在每次刻蚀完基板之后，将浸泡槽130中的已使用的刻蚀液完全排出，而后 注入新的刻蚀液，避免由于浸泡槽130内的刻蚀液的置换能力不足，长时间积累使得刻蚀 液变质的现象。
[0031] 虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解： 在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和 细节上的各种变化。
【权利要求】
1. 一种湿法刻蚀装置，包括刻蚀槽（110)及设置在刻蚀槽（110)之内的多根滚轮 (120)，所述多根滚轮（120)用于承载待刻蚀的基板（150)，其特征在于，所述湿法刻蚀装置 还包括浸泡槽（130)及升降器（140)，其中，所述浸泡槽（130)设置在所述刻蚀槽（110)之 内，并位于所述滚轮（120)之下，所述升降器（140)设置在所述浸泡槽（130)的底板（131) 的下表面上，所述升降器（140)推动所述浸泡槽（130)上升或下降，以使所述浸泡槽（130) 中的刻蚀液浸没或脱离所述待刻蚀的基板（150)。
2. 根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述浸泡槽（130)的第一侧板 (132)和第二侧板（133)的厚度均小于任意两根所述滚轮（120)之间的最小间隔。
3. 根据权利要求1或2所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述浸泡槽（130)的第一侧 板（132)和第二侧板（133)均沿坚直方向下降，以使所述第一侧板（132)和第二侧板（133) 的顶面平齐于或低于所述底板（131)的上表面，从而使所述浸泡槽（130)中已使用的刻蚀 液完全排出。
4. 根据权利要求3所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述湿法刻蚀装置还包括第 一电磁阀（161)和第二电磁阀（162)，其中，所述第一电磁阀（161)设置在所述第一侧板 (132)上，用于控制所述第一侧板（132)上升或下降，所述第二电磁阀（162)设置在所述第 二侧板（133)上，用于控制所述第二侧板（133)上升或下降。
5. 根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述浸泡槽（130)由聚氯乙烯材 料形成。
6. 根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述升降器（140)的外表面包裹 耐腐蚀性材料。
7. 根据权利要求4所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述第一电磁阀（161)和第二电 磁阀（162)的外表面均包裹耐腐蚀性材料。
8. -种权利要求1至7任一项所述的湿法刻蚀装置的刻蚀方法，其特征在于，包括： 利用多根滚轮（120)将待刻蚀的基板（150)传送至刻蚀槽（110)中，同时在浸泡槽 (130)中注满刻蚀液； 利用升降器（140)推动所述浸泡槽（130)上升，以使所述浸泡槽（130)中的刻蚀液浸 没所述待刻蚀的基板（150)，对所述待刻蚀的基板（150)进行刻蚀。
9. 根据权利要求8所述的刻蚀方法，其特征在于，还包括： 在所述待刻蚀的基板（150)刻蚀完成之后，利用升降器（140)推动所述浸泡槽（130) 下降，以使刻蚀液脱离经刻蚀的基板（150)。
10. 根据权利要求9所述的刻蚀方法，其特征在于，还包括： 将所述浸泡槽（130)的相对的第一侧板（132)和第二侧板（133)沿坚直方向下降，以 使所述第一侧板（132)和第二侧板（133)的顶面平齐于或低于所述底板（131)的上表面， 从而使所述浸泡槽（130)中已使用的刻蚀液完全排出。
【文档编号】H01L21/67GK104091775SQ201410351266
【公开日】2014年10月8日 申请日期:2014年7月22日 优先权日:2014年7月22日
【发明者】常建宇 申请人:深圳市华星光电技术有限公司