技术总结
本发明提供一种等离子体产生装置，所述等离子体产生装置包括介质窗、环绕所述介质窗设置的感应线圈和阻抗匹配装置，其中，所述等离子体产生装置还包括设置在所述介质窗和所述感应线圈之间的法拉第屏蔽件。本发明还提供一种半导体加工设备。在本发明所提供的等离子体产生装置中，感应线圈表面的电流传输将不会再受到等离子体状态扰动的影响，因此，本发明所提供的等离子体产生装置在工作时不会产生等离子体灭辉以及阻抗匹配装置重新匹配等现象，从而可以快速实现等离子体阻抗的匹配，进而更加容易控制博世刻蚀工艺过程中半导体基片的刻蚀形貌，提高博世工艺的可重复性。
技术研发人员：李兴存;赵隆超
受保护的技术使用者：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
文档号码：201510381779
技术研发日：2015.07.02
技术公布日：2017.01.11