1.一种等离子体处理装置，用于对被处理体进行等离子体处理，所述等离子体处理装置具备：
处理容器；
载置台，设置于所述处理容器内；
多个加热器，设置于所述载置台内；以及
供电装置，对所述多个加热器供给电力；
所述供电装置具有：
多个变压器，构成为使来自交流电源的电压降压，且各自具有与该交流电源连接的一次线圈及二次线圈；以及
多个零交控制型的固态继电器，分别设置于所述多个加热器中对应的一个加热器与所述多个变压器中对应的一个变压器的二次线圈之间。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，还具备：
多个第1配线，将所述多个加热器的第1端子与所述多个零交控制型的固态继电器分别连接；以及
多个第2配线，分别将所述多个加热器中对应的两个以上的加热器的第2端子与所述多个变压器中对应的一个变压器的二次线圈共同连接。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，
与所述多个第2配线中共同的第2配线连接的两个以上的加热器具有相同的电阻值。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，
所述供电装置还具有多个切换器，所述多个切换器变更所述多个变压器的变压比。
5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其中，
所述等离子体处理装置还具备控制部，所述控制部控制所述多个切换器，
所述控制部执行第1控制与第2控制，
所述第1控制，控制所述多个切换器，设定所述多个变压器的变压比，
所述第2控制，控制所述多个切换器，将所述多个变压器的变压比设定为比在所述第1控制中设定的所述多个变压器的变压比高的变压比。
6.一种运用方法，其为权利要求4所述的等离子体处理装置的运用方法，所述运用方法包含：
第1工序，控制所述多个切换器，设定所述多个变压器的变压比；以及
第2工序，控制所述多个切换器，将所述多个变压器的变压比设定为比在所述第1工序中设定的所述多个变压器的变压比高的变压比。
7.一种供电装置，用于对设置在等离子体处理装置的载置台内的多个加热器供给电力，所述供电装置具备：
多个变压器，构成为使来自交流电源的电压降压，且各自具有与该交流电源连接的一次线圈及二次线圈；以及
多个零交控制型的固态继电器，分别设置于所述多个加热器中对应的一个加热器与所述多个变压器中对应的一个变压器的二次线圈之间。
8.根据权利要求7所述的供电装置，其还具备多个切换器，所述多个切换器变更所述多个变压器的变压比。