大面积镜面显示装置及其制造方法与流程

本公开涉及一种镜面显示装置，更具体地，涉及一种包括多个镜面图案的镜面显示装置以及一种制造所述镜面显示装置的方法。

背景技术：

最近，已经开发出具有镜面性质和图像显示性质的诸如有机发光显示(oled)装置和液晶显示(lcd)装置的显示装置并已将其引入市场。具体地，对于具有镜面性质和图像显示性质的大尺寸显示装置的需求正在增长。

传统的大尺寸镜面显示装置包括半透明反射镜(halfmirror)并且使显示面板与半透明反射镜的后表面结合。由于半透明反射镜具有反射性质和透射性质两种性质，所以包括半透明反射镜的镜面显示装置具有例如低于60％的低反射率。此外，由于图像被显示面板和半透明反射镜之间的间隙分开，从而降低了可视性并使根据视角的色彩印象(colorimpression)劣化。

技术实现要素：

示例实施例提供了一种具有改善的显示质量的镜面显示装置和一种制造所述镜面显示装置的方法。

根据示例性实施例，一种镜面显示装置包括镜面模块和显示模块。镜面模块包括透明基底和多个第一镜面图案。透明基底包括第一区以及与第一区相邻的第二区。第一镜面图案在第一区中设置在透明基底的表面上。显示模块包括发射光的显示部分和多个第二镜面图案。显示模块在第二区中在透明基底的所述表面上与镜面模块结合。

在示例性实施例中，镜面模块包括沿第一镜面图案连续地延伸的第一镜面层。显示模块还包括沿第二镜面图案连续地延伸的第二镜面层。

在示例性实施例中，显示部分包括发光区和非发射区。发光区与第二镜面图案之间的区域叠置。非发射区与第二镜面层和第二镜面图案叠置的堆叠区域叠置。

在示例性实施例中，发光区包括有机发光层或液晶层。

在示例性实施例中，第一镜面图案和透明基底的所述表面之间的距离与第二镜面图案和透明基底的所述表面之间距离基本上相同。

在示例性实施例中，显示模块还包括其上设置有第二镜面图案的基础基底。基础基底设置在第二镜面图案和透明基底之间。

在示例性实施例中，显示模块还包括其上设置有第二镜面图案的基础基底。第二镜面图案设置在基础基底和透明基底之间。

在示例性实施例中，第一镜面图案、第二镜面图案、第一镜面层和第二镜面层包括金属。

在示例性实施例中，第一镜面图案和第二镜面图案包括第一材料。第一镜面层和第二镜面层包括与第一材料不同的第二材料。

在示例性实施例中，镜面模块还包括在第一区中设置在第一镜面图案和透明基底之间的相位补偿层。

在示例性实施例中，镜面模块还包括在透明基底的第二区中设置有显示模块的至少一部分的凹部。

根据示例性实施例，一种镜面显示装置包括镜面模块和显示模块。镜面模块包括透明基底和在透明基底的第一区中设置在透明基底的表面上的多个第一镜面图案。显示模块在透明基底的与透明基底的第一区相邻的第二区中与透明基底结合，并且包括发射光的显示部分。

在示例性实施例中，其中，显示部分包括：多个开关元件，设置在基底上；绝缘结构，覆盖开关元件；第一电极，穿过绝缘结构并电连接到开关元件；显示层，设置在第一电极上；第二电极，设置在显示层上。显示模块还包括设置在第二电极的表面上的薄膜包封层。

在示例性实施例中，显示模块还包括设置在绝缘结构上的像素限定层。像素限定层包括暴露第一电极的开口。

在示例性实施例中，薄膜包封层在第二区中与透明基底结合。薄膜包封层的厚度小于像素限定层的第一开口和与第一开口相邻的第二开口之间的距离。

在示例性实施例中，基底在第二区中与透明基底结合。基底的厚度小于像素限定层的第一开口和与第一开口相邻的第二开口之间的距离。

根据示例性实施例，提供了一种制造镜面显示装置的方法。所述方法包括设置显示模块和镜面模块。将显示模块与镜面模块结合。显示模块包括基底、镜面基底以及设置在基底和镜面基底之间的显示部分。镜面模块包括透明基底、多个第一镜面图案和沿第一镜面图案连续地延伸的第一镜面层。透明基底包括第一区和与第一区相邻的第二区。第一镜面图案在第一区中设置在透明基底的表面上。将显示模块与镜面模块结合使得显示模块与透明基底在第一区中叠置。

在示例性实施例中，设置显示模块的步骤还包括在基础基底上形成多个第二镜面图案并且形成沿第二镜面图案连续地延伸的第二镜面层。

在示例性实施例中，镜面模块还包括在第一区中设置在第一镜面图案和透明基底之间的相位补偿层。

在示例性实施例中，镜面模块还包括在透明基底的第二区中设置有显示模块的至少一部分的凹部。

根据示例性实施例，镜面模块可以包括第一镜面图案和第一镜面层，显示模块可以包括第二镜面图案和第二镜面层。镜面模块可以具有与显示模块的镜面结构基本上相似或相同的镜面结构。因此，可以减少和/或防止诸如图像模糊或图像分离等的问题。

根据示例性实施例，镜面模块可以包括相位补偿层或容纳显示模块的凹部。

根据示例性实施例，镜面显示装置可以包括镜面模块和与镜面模块结合的显示模块。因此，可以有效地获得大尺寸的镜面显示装置。此外，可以减少和/或防止显示质量的劣化。

附图说明

从下面结合附图的详细描述，示例实施例将被更清楚地理解。图1至图33表示如在此所描述的非限制性的示例实施例。

图1是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。

图2是示出图1的“a”区域的放大剖视图。

图3是示出图1的“b”区域的放大剖视图。

图4至图13是示出根据示例性实施例的制造镜面显示装置的方法的剖视图。

图14是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的平面图。

图15是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。

图16至图21是示出根据示例性实施例的制造镜面显示装置的方法的剖视图。

图22是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。

图23至图28是示出根据示例性实施例的制造镜面显示装置的方法的剖视图。

图29是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。

图30是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。

图31是示出图30的“c”区域的放大剖视图。

图32是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。

图33是示出图32的“d”区域的放大剖视图。

具体实施方式

在下文中将参照示出一些示例实施例的附图来描述各种示例实施例。相同的附图标记可以用于附图中相同的元件，可以省略任何重复的说明。

图1是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。图2是示出图1的“a”区域的放大剖视图。图3是示出图1的“b”区域的放大剖视图。

参照图1至图3，镜面显示装置10包括显示模块100和镜面模块200。显示模块100包括基底110、设置在基底110上的显示部分120以及镜面基底130，其中，镜面基底130与基底110相对使得显示部分120夹置在基底110和镜面基底130之间。

镜面模块200包括：透明基底210，包括第二区ii；多个第一镜面图案220，设置在透明基底210的与第二区ii相邻的第一区i中；第一镜面层230，沿第一镜面图案220连续地延伸。透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。透明基底210的第二区ii可以与显示模块100叠置，并且可以用作显示器和镜面。透明基底210的第一区i可以与第二区ii相邻，并且可以用作镜面。

在一些实施例中，透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以支撑第一镜面图案220、第一镜面层230和显示模块100。

第一镜面图案220可以设置在透明基底210的第一区i中。例如，第一镜面图案220可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第一镜面图案220可以包括反射材料。例如，第一镜面图案220可以包括诸如铝(al)、铬(cr)、铜(cu)、银(ag)、钛(ti)、钽(ta)、钼(mo)或钨(w)等的金属。

第一镜面层230可以设置在透明基底210的第一区i的基本上整个部分上以覆盖第一镜面图案220。在示例性实施例中，第一镜面层230可以在透明基底210的第一区i中连续地延伸。第一镜面层230可以接触透明基底210的下表面和第一镜面图案220。在示例性实施例中，第一镜面层230的反射率可以低于第一镜面图案220的反射率。

显示部分120可以包括设置在基底110上的开关元件(未示出)和电连接到开关元件的显示元件。参照图3，开关元件可以包括具有有源图案315、栅极绝缘层320、栅电极325、源电极343和漏电极345的薄膜晶体管。显示元件可以包括第一电极360、显示层380和第二电极390。在一些实施例中，基底110可以包括玻璃基底、透明塑料基底或柔性塑料基底等。

阻挡层310可以设置在基底110的上表面上。阻挡层310可以防止蒸汽进入到显示部分120中，并且可以防止杂质在基底110和显示部分120之间扩散。在一些实施例中，阻挡层310可以包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。这些材料可以各自单独使用或以它们的组合使用。阻挡层310可以具有包括氧化硅层和氮化硅层的堆叠结构。

在示例性实施例中，有源图案315可以包括诸如多晶硅的硅化合物。在另一示例性实施例中，有源图案315可以包括诸如氧化铟镓锌(igzo)、氧化锌锡(zto)或氧化铟锡锌(itzo)等的半导体氧化物。例如，通过溅射工艺设置包括硅化合物或半导体氧化物的有源层并且通过光刻工艺使有源层图案化，可以形成有源图案315。

栅极绝缘层320可以设置在阻挡层310上以覆盖有源图案315。例如，栅极绝缘层320可以包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。在示例性实施例中，栅极绝缘层320可以具有包括氧化硅层和氮化硅层的堆叠结构。

栅电极325可以设置在栅极绝缘层320上并且与有源图案315叠置。例如，可以在栅极绝缘层320上设置第一导电层，然后通过光刻工艺对第一导电层图案化以形成栅电极325。第一导电层可以包括诸如al、ag、w、cu、mo、ti、ta或cr等的金属、它们的金属合金或它们的金属氮化物。可以通过溅射工艺或原子层沉积(ald)工艺等形成第一导电层。第一导电层可以具有包括多个层的堆叠结构。例如，第一导电层可以具有al层和mo层的堆叠结构或者ti层和cu层的堆叠结构。

在示例性实施例中，可以由第一导电层形成扫描线。栅电极325可以从扫描线分支。

在示例性实施例中，使用栅电极325作为掩模通过杂质注入工艺在有源图案315的端部处形成源区和漏区。有源图案315的与栅电极325叠置且设置在源区和漏区之间的部分可以限定传输电子所通过的沟道区。

绝缘夹层330可以设置在栅极绝缘层320上以覆盖栅电极325。绝缘夹层330可以包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。在示例性实施例中，绝缘夹层330可以具有包括氧化硅层和氮化硅层的堆叠结构。

源电极343和漏电极345可以穿过绝缘夹层330和栅极绝缘层320以接触有源图案315。例如，源电极343和漏电极345可以分别接触有源图案315的源区和漏区。

例如，可以部分地蚀刻绝缘夹层330和栅极绝缘层320以形成暴露有源图案315的部分的接触孔。填充接触孔的第二导电层可以设置在绝缘夹层330上并且可以被图案化以形成源电极343和漏电极345。第二导电层可以包括与第一导电层的材料基本上相同的材料。

根据上文，薄膜晶体管可以设置在显示部分120的每个像素中。在示例性实施例中，可以在每个像素中设置至少两个薄膜晶体管和一个电容器。包括源电极343、漏电极345和栅电极325的薄膜晶体管可以具有包括设置在有源图案315上的栅电极325的顶栅结构，然而本公开不限于此。例如，在另一个示例性实施例中，薄膜晶体管可以具有包括设置在有源图案下方的栅电极的底栅结构。

在示例性实施例中，可以由第二导电层形成数据线。例如，源电极343可以从数据线分支。

过孔绝缘层350可以设置在绝缘夹层330上以覆盖源电极343和漏电极345。例如，过孔绝缘层350可以包括诸如聚酰亚胺、环氧树脂、丙烯酸树脂或聚酯等的有机材料。可以通过旋涂工艺或狭缝涂覆工艺等形成过孔绝缘层350。过孔绝缘层350可以用于使显示部分120的表面平坦。

包括第一电极360、显示层380和第二电极390的显示元件可以设置在过孔绝缘层350上。例如，第一电极360可以穿过过孔绝缘层350以接触漏电极345。例如，可以部分地蚀刻过孔绝缘层350以形成暴露漏电极345的上表面的通孔。填充通孔的第三导电层可以设置在过孔绝缘层350上并且被图案化以形成第一电极360。

第一电极360可以用作显示部分120的阳极或像素电极。第一电极360可以设置在显示部分120的每个像素中。

第三导电层可以包括金属、金属合金、金属氮化物和诸如金属氧化物的透明导电材料中的至少一种。例如，第三导电层可以包括与第一导电层的材料基本上相同的材料。第三导电层可以包括诸如氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锌或氧化铟等的透明导电材料。例如，第三导电层可以具有ito层、ag层和ito层的堆叠结构。

像素限定层370可以设置在过孔绝缘层350上。像素限定层370可以覆盖第一电极360的端部。例如，像素限定层370可以通过曝光工艺和显影工艺由光敏有机材料形成。在另一个示例性实施例中，像素限定层370可以通过光刻工艺而包括诸如硅化合物的无机材料。

在示例性实施例中，第一电极360的通过像素限定层370暴露的区域可以限定每个像素的发光区。显示层380可以设置在第一电极360上。显示层380可以在像素限定层370上延伸。在示例性实施例中，显示部分380可以包括有机发光材料使得显示装置可以用于有机发光显示器(oled)。在示例性实施例中，空穴传输层(htl)和电子传输层(etl)可以设置在显示层380的上方和下方。此外，空穴注入层(hil)可以设置在空穴传输层和第一电极360之间。电极注入层(eil)可以设置在电子传输层和第二电极390之间。

例如，可以在每个像素中选择性地印刷有机发光材料以形成显示层380。htl、etl、hil和eil中的至少一个可以选择性地设置在每个像素中，或者可以全部设置在基底110上。在示例性实施例中，显示装置可以具有每个像素选择性地发射具有红色、绿色和蓝色中的一种的光的rgb构造，然而本公开不限于此。例如，显示装置可以具有包括发射白光的白色像素的白色oled(woled)构造。

在另一个示例性实施例中，可以针对显示层380提供液晶材料。包括液晶材料的显示装置可以用作液晶显示器(lcd)。

第二电极390可以设置在显示层380上。第二电极390可以在像素限定层370上延伸。可以针对多个像素公共地设置第二电极390。第二电极390可以用作显示部分120的阴极。例如，可以通过使用开口掩模沉积金属或透明导电材料来形成第二电极390。

镜面基底130可以包括基础基底132、多个第二镜面图案134和第二镜面层136。第二镜面图案134可以设置在基础基底132下方，并且可以对应于第一镜面图案220。第二镜面层136可以沿第二镜面图案134延伸，并且可以对应于第一镜面层230。

在示例性实施例中，基础基底132可以被密封部分140分成第三区iii和第四区iv。密封部分140可以具有围绕第三区iii的环形或柱形。设置在密封部分140外部的区域可以限定第四区iv。

第三区iii可以与显示模块100的像素区叠置。例如，当镜面基底130被设置为用于显示模块100的包封基底时，第三区iii还可以与外围区的部分叠置。第四区iv可以与其中设置有向显示模块100供电的布线的布线区叠置。

例如，基础基底132可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。例如，密封部分140可以包括诸如有机硅树脂或环氧树脂等的粘合材料。密封部分140可以包括能够阻挡外部的杂质或蒸汽的各种材料。

第二镜面图案134可以设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。例如，第二镜面图案134可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第二镜面图案134可以包括反射材料。例如，第二镜面图案134可以包括诸如铝(al)、铬(cr)、铜(cu)、银(ag)、钛(ti)、钽(ta)、钼(mo)或钨(w)等的金属。

当镜面基底130被设置为用于显示模块100的包封基底时，第三区iii中的第二镜面图案134的至少一部分可以与显示模块100的非发射区叠置。显示模块100的非发射区可以由除发光区之外的区域(例如，相邻的第一电极360之间的区域)限定。第三区iii中相邻的第二镜面图案134之间的区域可以与显示模块100的发光区叠置。在示例性实施例中，相邻的第二镜面图案134之间的区域可以与显示模块100的发光区的至少一部分叠置。

第四区iv中的第二镜面图案134可以不与显示模块100的像素区叠置。第三区iii中的第二镜面图案134的至少一部分可以不与显示模块100的像素区叠置。第三区iii和第四区iv中的第二镜面图案134可以布置为彼此分隔开均匀的间隔。

第二镜面层136可以设置在基础基底132下方以覆盖第二镜面图案134。在示例性实施例中，第二镜面层136可以延伸以连续地设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。

第二镜面层136可以接触基础基底132的下表面和第二镜面图案134。在示例性实施例中，第二镜面层136可以具有比第二镜面图案134的反射率小的反射率。第二镜面层136的设置在相邻的第二镜面图案134之间的部分可以与显示模块100的发光区叠置。

密封部分140可以设置在第三区iii和第四区iv之间的边界上。密封部分140可以设置在第二镜面层136下方。

在示例性实施例中，显示模块100可以与镜面模块200结合，基础基底132可以与镜面模块200的透明基底210分隔开。

第一镜面图案220和第二镜面图案134可以包括基本上相同的材料。第一镜面层230和第二镜面层136可以包括基本上相同的材料。

在示例性实施例中，镜面模块200可以包括第一镜面图案220和第一镜面层230，显示模块100可以包括第二镜面图案134和第二镜面层136。因此，镜面模块200可以具有与显示模块100的镜面结构相似或相同的镜面结构。因此，可以减少和/或防止诸如图像模糊或图像分离等的问题。

根据示例性实施例，镜面显示装置10可以包括镜面模块200和与镜面模块200结合的显示模块100。因此，可以有效地获得大尺寸的镜面显示装置。此外，可以减少和/或防止显示质量的劣化。

在下文中，将进一步详细地描述制造镜面显示装置的方法。图4至图13是示出根据示例性实施例的制造镜面显示装置的方法的剖视图。例如，图4至图6可以是示出制造图1中示出的镜面显示装置10的方法的剖视图。

参照图4，可以在透明基底210上设置金属层222。透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。可以分别由透明基底210的外围部分和中心部分限定第一区i和第二区ii。

金属层222可以包括诸如al、ag、w、cu、mo、ti、ta或cr等的金属。这些金属可以各自单独使用或以它们的组合使用。可以通过溅射工艺、物理气相沉积(pvd)工艺、ald工艺、化学气相沉积(cvd)工艺、等离子体增强化学气相沉积(pecvd)工艺、热沉积工艺或真空沉积工艺等形成金属层222。

参照图5，可以通过例如光刻工艺使金属层222图案化以形成多个第一镜面图案220。例如，第一镜面图案220可以设置在透明基底210的第一区i中。第一镜面图案220可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

参照图6，在第一区i中的透明基底210的上表面上以及在第一镜面图案220上设置第一镜面层230以形成镜面模块200。第一镜面层230的厚度可以小于第一镜面图案220的厚度使得第一镜面层230可以透射入射到它上面的光。因此，进入到第一镜面层230中的光可以在没有设置第一镜面图案220的区域中穿过镜面模块200使得可以通过镜面模块200来显示图像。在示例性实施例中，第一镜面层230覆盖第一镜面图案220并且可以共形地设置在透明基底210的第一区i中。因此，可以减小和/或防止由于在第一镜面图案220之间通过的光的衍射造成的图像劣化。可以通过溅射工艺、pvd工艺、ald工艺、cvd工艺、pecvd工艺、热沉积工艺或真空沉积工艺等形成第一镜面层230。

参照图7，可以在基础基底132上设置金属层144。基础基底132可以是透明基底。基础基底132可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。基础基底132可以分成第三区iii和第四区iv。可以分别由基础基底132的中心部分和外围部分限定第三区iii和第四区iv。金属层144可以包括诸如al、ag、w、cu、mo、ti、ta或cr等的金属。这些金属可以各自单独使用或以它们的组合使用。可以通过溅射工艺、pvd工艺、ald工艺、cvd工艺、pecvd工艺、热沉积工艺或真空沉积工艺等形成金属层144。

参照图8，可以通过例如光刻工艺使金属层144图案化以形成多个第二镜面图案134。可以在基础基底132的第三区iii和第四区iv中设置第二镜面图案134。第二镜面图案134可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

参照图9，在基础基底132的上表面上和第二镜面图案134上设置第二镜面层136。第二镜面层136的厚度可以小于第二镜面图案134的厚度。第二镜面层136覆盖第二镜面图案134，并且可以共形地设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。可以通过溅射工艺、pvd工艺、ald工艺、cvd工艺、pecvd工艺、热沉积工艺或真空沉积工艺等形成第二镜面层136。

参照图10，可以在基础基底132的第三区iii和第四区iv之间设置密封部分140。可以通过印刷工艺或涂覆工艺等在基础基底132上设置诸如环氧树脂或有机硅树脂等的粘合树脂以形成密封部分140。

参照图11，可以通过包封工艺将镜面基底130与包括显示部分120的基底110结合以制造显示模块100。密封部分140设置在镜面基底130和基底110之间。例如，通过使用基础基底132的第四区iv中的第二镜面图案134作为对齐关键，可以将基底110与镜面基底130彼此结合以制造显示模块100。

参照图12和图13，可以将图6中示出的镜面模块200与图11中示出的显示模块100结合。透明基底210的第二区ii与显示模块100叠置以制造镜面显示装置10。例如，可以在第二区ii中的透明基底210的下表面上设置透明粘合层。显示模块100可以粘附到透明粘合层以与镜面模块200结合。

在示例性实施例中，可以通过增大镜面模块200的尺寸来增大镜面显示装置10的尺寸。因此，可以任意调整显示模块100的尺寸。相比于增大显示模块100的尺寸，增大镜面模块200的尺寸会相对容易。因此，根据在此描述的示例性实施例，可以容易地增大镜面显示装置10的尺寸。

参照图14，当镜面模块200大时，镜面显示装置可以包括一个镜面模块200和与镜面模块200结合的多个显示模块100。例如，镜面显示装置可以包括四个显示模块100使得每个显示模块100设置在镜面显示装置的角处，然而，本公开不限于此。在另一个示例性实施例中，镜面显示装置可以包括任意数量的显示模块。

图15是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。除了还包括相位补偿层外，镜面显示装置可以与图1中示出的镜面显示装置10基本上相同。因此，在附图中相同的附图标记可以用于相同的元件，并且可以省略重复的解释。

参照图15，镜面显示装置12包括显示模块100和镜面模块202。显示模块100包括基底110、设置在基底110上的显示部分120以及镜面基底130。显示部分120设置在基底110和镜面基底130之间。

镜面模块202包括具有第二区ii的透明基底210和设置在透明基底210的与第二区ii相邻的第一区i中的多个第一镜面图案220。第一镜面层230沿第一镜面图案220连续地延伸。

透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。透明基底210的第二区ii可以与显示模块100叠置，并且可以用作显示器和镜面。透明基底210的第一区i可以与第二区ii相邻，并且可以用作镜面。透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以支撑第一镜面图案220、第一镜面层230和显示模块100。

第一镜面图案220可以设置在透明基底210的第一区i中。例如，第一镜面图案220可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第一镜面层230可以设置在透明基底210的第一区i的基本上整个部分上以覆盖第一镜面图案220。在示例性实施例中，第一镜面层230可以在透明基底210的第一区i中连续地延伸。第一镜面层230可以接触透明基底210的下表面和第一镜面图案220。

显示部分120可以包括设置在基底110上的开关元件和电连接到开关元件的显示元件。基底110可以包括玻璃基底、透明塑料基底或柔性塑料基底等。

镜面基底130可以包括基础基底132、多个第二镜面图案134和第二镜面层136。第二镜面图案134可以设置在基础基底132下方，并且可以对应于第一镜面图案220。第二镜面层136可以沿第二镜面图案134延伸，并且可以对应于第一镜面层230。

在示例性实施例中，基础基底132可以分成第三区iii和第四区iv。第三区iii可以与显示模块100的像素区叠置。例如，当镜面基底130被设置为用于显示模块100的包封基底时，第三区iii还可以与外围区的部分叠置。第四区iv可以与其中设置有向显示模块100供电的布线的布线区叠置。

第二镜面图案134可以设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。例如，第二镜面图案134可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第二镜面层136可以设置在基础基底132下方以覆盖第二镜面图案134。在示例性实施例中，第二镜面层136可以延伸以连续地设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。

密封部分140可以设置在第三区iii和第四区iv之间的边界上。密封部分140可以设置在第二镜面层136下方。显示模块100可以与镜面模块202结合，使得基础基底132可以与镜面模块202的透明基底210分隔开。

在示例性实施例中，镜面模块202还可以包括在第一区i中设置在第一镜面图案220和透明基底210之间的相位补偿层400。相位补偿层400可以包括与透明基底210的材料基本上相同的材料。

相位补偿层400可以具有一定的厚度，使得透明基底210的第一表面212和第一镜面图案220的第一表面224之间的距离w1与透明基底210的第一表面212和第二镜面图案134的第一表面138之间的距离w2基本上相同。

在示例性实施例中，镜面模块202可以包括第一镜面图案220和第一镜面层230，显示模块100可以包括第二镜面图案134和第二镜面层136。因此，镜面模块202可以具有与显示模块100的镜面结构相似或相同的镜面结构。因此，可以减少和/或防止诸如图像模糊或图像分离等的问题。

在示例性实施例中，相位补偿层400设置在透明基底210和第一镜面图案220之间。因此，可以减少或去除第一镜面图案220和第二镜面图案134之间的水平差。此外，可以减少或去除由第一镜面图案220和第一镜面层230反射的光与由第二镜面图案134和第二镜面层136反射的光之间的相位差。

根据示例性实施例，镜面显示装置12可以包括镜面模块202以及与镜面模块202结合的显示模块100。因此，可以有效地获得大尺寸的镜面显示装置。此外，可以减少和/或防止显示质量的劣化。

图16至图21是示出根据示例性实施例的制造镜面显示装置的方法的剖视图。例如，图16至图21可以是示出制造图15中示出的镜面显示装置12的方法的剖视图。可以省略与参照图4至图13阐述的对工艺或材料的解释基本上相同的解释。

参照图16，可以在透明基底210的第一区i中设置相位补偿层400。相位补偿层400可以包括与透明基底210的材料基本上相同的材料。在示例性实施例中，可以在透明基底210上设置粘合剂，可以在粘合剂上设置相位补偿层400。

参照图17，可以在透明基底210上设置金属层222。透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。可以分别由透明基底210的外围部分和中心部分限定第一区i和第二区ii。

参照图18，可以通过例如光刻工艺使金属层222图案化以形成多个第一镜面图案220。例如，第一镜面图案220设置可以在透明基底210的第一区i中。第一镜面图案220可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

参照图19，可以在相位补偿层400的上表面上和第一镜面图案220上设置第一镜面层230以形成镜面模块202。第一镜面层230的厚度可以小于第一镜面图案220的厚度。在示例性实施例中，第一镜面层230覆盖第一镜面图案220并且可以共形地设置在相位补偿层400上。

参照图20和图21，可以将图19中示出的镜面模块202与图11中示出的显示模块100结合。透明基底210的第二区ii与显示模块100叠置以制造镜面显示装置12。例如，可以在第二区ii中的透明基底210的下表面上设置透明粘合层。显示模块100可以粘附到透明粘合层以与镜面模块202结合。

在示例性实施例中，可以通过增大镜面模块202的尺寸来增大镜面显示装置12的尺寸。因此，可以任意调整显示模块100的尺寸。相比于增大显示模块100的尺寸，增大镜面模块202的尺寸会相对容易。因此，根据在此描述的示例性实施例，可以容易地增大镜面显示装置12的尺寸。

图22是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。除了具有形成在镜面模块中的凹部外，镜面显示装置可以与图1中示出的镜面显示装置10基本上相同。因此，在附图中相同的附图标记可以用于相同的元件，并且可以省略任何重复的解释。

参照图22，镜面显示装置14包括显示模块100和镜面模块204。显示模块100包括基底110、设置在基底110上的显示部分120以及镜面基底130。显示部分120设置在基底110和镜面基底130之间。

镜面模块204包括具有第二区ii的透明基底210和设置在透明基底210的与第二区ii相邻的第一区i中的多个第一镜面图案220。第一镜面层230沿第一镜面图案220连续地延伸。

透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。透明基底210的第二区ii可以与显示模块100叠置，并且可以用作显示器和镜面。透明基底210的第一区i可以与第二区ii相邻，并且可以用作镜面。透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以支撑第一镜面图案220、第一镜面层230和显示模块100。

第一镜面图案220可以设置在透明基底210的第一区i中。例如，第一镜面图案220可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第一镜面层230可以设置在透明基底210的第一区i的基本上整个部分上以覆盖第一镜面图案220。在示例性实施例中，第一镜面层230可以在透明基底210的第一区i中连续地延伸。第一镜面层230可以接触透明基底210的下表面和第一镜面图案220。

显示部分120可以包括设置在基底110上的开关元件和电连接到开关元件的显示元件。基底110可以包括玻璃基底、透明塑料基底或柔性塑料基底等。

镜面基底130可以包括基础基底132、多个第二镜面图案134和第二镜面层136。第二镜面图案134可以设置在基础基底132下方，并且可以对应于第一镜面图案220。第二镜面层136可以沿第二镜面图案134延伸，并且可以对应于第一镜面层230。

在示例性实施例中，基础基底132可以分成第三区iii和第四区iv。第三区iii可以与显示模块100的像素区叠置。例如，当镜面基底130被设置为用于显示模块100的包封基底时，第三区iii还可以与外围区的部分叠置。第四区iv可以与其中设置有向显示模块100供电的布线的布线区叠置。

第二镜面图案134可以设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。例如，第二镜面图案134可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第二镜面层136可以设置在基础基底132下方以覆盖第二镜面图案134。在示例性实施例中，第二镜面层136可以延伸以连续地设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。

密封部分140可以设置在第三区iii和第四区iv之间的边界上。密封部分140可以设置在第二镜面层136下方。显示模块100可以与镜面模块204结合，使得基础基底132可以与镜面模块204的透明基底210分隔开。

在示例性实施例中，镜面模块204可以具有用于容纳显示模块100的设置在第二区ii中的透明基底210的凹部410。

在示例性实施例中，凹部410的宽度可以与透明基底210的第二区ii的宽度基本上相同。凹部410可以具有一定的深度，使得透明基底210的第一表面212和第一镜面图案220的第一表面224之间的距离w1与透明基底210的第一表面212和第二镜面图案134的第一表面138之间的距离w2基本上相同。

在示例性实施例中，镜面模块204可以包括第一镜面图案220和第一镜面层230，显示模块100可以包括第二镜面图案134和第二镜面层136。因此，镜面模块204可以具有与显示模块100的镜面结构相似或相同的镜面结构。因此，可以减少和/或防止诸如图像模糊或图像分离等的问题。

在示例性实施例中，镜面模块204的透明基底210具有容纳显示模块100的凹部410。因此，可以减少或去除第一镜面图案220和第二镜面图案134之间的水平差。此外，可以减少或去除由第一镜面图案220和第一镜面层230反射的光与由第二镜面图案134和第二镜面层136反射的光之间的相位差。

根据示例性实施例，镜面显示装置14可以包括镜面模块204以及与镜面模块204结合的显示模块100。因此，可以有效地获得大尺寸的镜面显示装置。此外，可以减少和/或防止显示质量的劣化。

图23至图28是示出根据示例性实施例的制造镜面显示装置的方法的剖视图。例如，图23至图28可以是示出制造图22中示出的镜面显示装置14的方法的剖视图。可以省略与参照图4至图13阐述的对工艺或材料的解释基本上相同的解释。

参照图23，可以在透明基底210的第二区ii中形成凹部410。例如，可以通过机械钻孔工艺或激光钻孔工艺等在透明基底210的第二区ii中形成凹部410。

参照图24，可以在透明基底210上设置金属层222。透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。可以分别由透明基底210的外围部分和中心部分限定第一区i和第二区ii。

参照图25，可以例如通过光刻工艺使金属层222图案化以形成多个第一镜面图案220。例如，第一镜面图案220可以设置在透明基底210的第一区i中。第一镜面图案220可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

参照图26，可以在第一区i中的透明基底210的上表面上和第一镜面图案220上设置第一镜面层230以形成镜面模块204。第一镜面层230的厚度可以小于第一镜面图案220的厚度。在示例性实施例中，第一镜面层230覆盖第一镜面图案220并且可以共形地设置在透明基底210的第一区i中。

参照图27和图28，可以将图26中示出的镜面模块204与图11中示出的显示模块100结合。透明基底210的第二区ii与显示模块100叠置以制造镜面显示装置14。例如，可以在第二区ii中的透明基底210的下表面上设置透明粘合层。显示模块100可以粘附到透明粘合层以与镜面模块204结合。

在示例性实施例中，可以通过增大镜面模块204的尺寸来增大镜面显示装置14的尺寸。因此，可以任意调整显示模块100的尺寸。相比于增大显示模块100的尺寸，增大镜面模块204的尺寸会相对容易。因此，根据在此描述的示例性实施例，可以容易地增大镜面显示装置14的尺寸。

图29是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。除了第二镜面图案和第二镜面层设置在基础基底的不同表面上外，镜面显示装置可以与图1中示出的镜面显示装置10基本上相同。因此，在附图中相同的附图标记可以用于相同的元件，并且可以省略任何重复的解释。

参照图29，镜面显示装置16包括显示模块102和镜面模块200。显示模块102包括基底110、设置在基底110上的显示部分120以及镜面基底130。显示部分120设置在基底110和镜面基底130之间。

镜面模块200包括具有第二区ii的透明基底210和设置在透明基底210的与第二区ii相邻的第一区i中的多个第一镜面图案220。第一镜面层230沿第一镜面图案220连续地延伸。

透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。透明基底210的第二区ii可以与显示模块102叠置，并且可以用作显示器和镜面。透明基底210的第一区i可以与第二区ii相邻，并且可以用作镜面。透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以支撑第一镜面图案220、第一镜面层230和显示模块102。

第一镜面图案220可以设置在透明基底210的第一区i中。例如，第一镜面图案220可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第一镜面层230可以设置在透明基底210的第一区i的基本上整个部分上以覆盖第一镜面图案220。在示例性实施例中，第一镜面层230可以在透明基底210的第一区i中连续地延伸。第一镜面层230可以接触透明基底210的下表面和第一镜面图案220。

显示部分120可以包括设置在基底110上的开关元件和电连接到开关元件的显示元件。基底110可以包括玻璃基底、透明塑料基底或柔性塑料基底等。

镜面基底130可以包括基础基底132、多个第二镜面图案134和第二镜面层136。第二镜面图案134可以设置在基础基底132下方，并且可以对应于第一镜面图案220。第二镜面层136可以沿第二镜面图案134延伸，并且可以对应于第一镜面层230。

在示例性实施例中，基础基底132可以分成第三区iii和第四区iv。第三区iii可以与显示模块102的像素区叠置。例如，当镜面基底130被设置为用于显示模块102的包封基底时，第三区iii还可以与外围区的部分叠置。第四区iv可以与其中设置有向显示模块102供电的布线的布线区叠置。

第二镜面图案134可以设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。例如，第二镜面图案134可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第二镜面层136可以设置在基础基底132上以覆盖第二镜面图案134。在示例性实施例中，第二镜面层136可以延伸以连续地设置在基础基底132的第三区iii和第四区iv中。

密封部分140可以设置在第三区iii和第四区iv之间的边界上。密封部分140可以设置在基础基底132下方。显示模块102可以与镜面模块200结合，使得第二镜面图案134可以面向镜面模块200的透明基底210。

在示例性实施例中，镜面模块200可以包括第一镜面图案220和第一镜面层230，显示模块102可以包括第二镜面图案134和第二镜面层136。因此，镜面模块200可以具有与显示模块102的镜面结构相似或相同的镜面结构。因此，可以减少和/或防止诸如图像模糊或图像分离等的问题。

在示例性实施例中，第二镜面图案134被设置为面向镜面模块200的透明基底210。因此，可以减少或去除由第一镜面图案220和第一镜面层230反射的光与由第二镜面图案134和第二镜面层136反射的光之间的相位差。

根据示例性实施例，镜面显示装置16可以包括镜面模块200以及与镜面模块200结合的显示模块102。因此，可以有效地获得大尺寸的镜面显示装置。此外，可以减少和/或防止显示质量的劣化。

图30是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。图31是示出图30的“c”区域的放大剖视图。除了显示模块包括薄膜包封层而不是包封基底并且镜面图案和镜面层包括在镜面模块中之外，镜面显示装置可以与图1中示出的镜面显示装置10基本上相同。因此，在附图中相同的附图标记可以用于相同的元件，并且可以省略任何重复的解释。

参照图30和图31，镜面显示装置18包括显示模块104和镜面模块208。显示模块104包括基底110、设置在基底110上的显示部分120以及设置在显示部分120和镜面模块208之间的薄膜包封层300。

镜面模块208包括具有第二区ii的透明基底210和设置在透明基底210的第一区i和第二区ii中的多个第一镜面图案226。第一镜面层232沿第一镜面图案226连续地延伸。

透明基底210可以分成第一区i和第二区ii。透明基底210的第二区ii可以与显示模块104叠置，并且可以用作显示器和镜面。透明基底210的第一区i可以与第二区ii相邻，并且可以用作镜面。透明基底210可以包括玻璃基底或透明塑料基底等。透明基底210可以支撑第一镜面图案226、第一镜面层232和显示模块104。

第一镜面图案226可以设置在透明基底210的第一区i和第二区ii中。例如，第一镜面图案226可以具有格子形、线形、网形或岛形，并且在它们之间可以具有基本上均匀的间隔。

第一镜面层232可以设置在透明基底210的第一区i和第二区ii的基本上整个部分上以覆盖第一镜面图案226。在示例性实施例中，第一镜面层232可以在透明基底210的第一区i和第二区ii中连续地延伸。第一镜面层232可以接触透明基底210的下表面和第一镜面图案226。

显示部分120可以包括：多个开关元件，设置在基底110上；绝缘结构，覆盖开关元件；多个第一电极360，穿过绝缘结构以电连接到开关元件；多个显示层380，设置在第一电极360上；第二电极390，公共地设置在显示层380上。绝缘结构可以包括栅极绝缘层320、绝缘夹层330和过孔绝缘层350。像素限定层370可以设置在绝缘结构上。像素限定层370可以具有分别暴露第一电极360的多个开口372和374。

薄膜包封层300可以连续地设置在第二电极390的上表面上。例如，薄膜包封层300可以设置在第二电极390的轮廓上。在示例性实施例中，薄膜包封层300可以具有至少一个有机层和至少一个无机层交替地沉积的堆叠结构。无机层可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝(alox)、氮化铝(alnx)、氧化钛(tiox)或氧化锌(znox)等。有机层可以包括丙烯酸酯单体、苯乙炔、二胺、二酐、硅氧烷、硅烷、聚对二甲苯、诸如聚乙烯或聚丙烯的聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、氟树脂或聚硅氧烷等。

在示例性实施例中，薄膜包封层300可以与透明基底210的第二区ii结合。此外，薄膜包封层300的厚度w1可以小于像素限定层370的彼此相邻的第一开口372和第二开口374之间的距离l1。

根据示例性实施例，镜面显示装置18可以包括镜面模块208和与镜面模块208结合的显示模块104。因此，可以有效地获得大尺寸的镜面显示装置。此外，可以减少和/或防止显示质量的劣化。

在示例性实施例中，显示模块104的薄膜包封层300与镜面模块208结合。此外，薄膜包封层300的厚度小于像素限定层370的宽度。因此，可以减少和/或防止由图像分离导致的显示质量的劣化。

图32是示出根据示例性实施例的镜面显示装置的剖视图。图33是示出图32的“d”区域的放大剖视图。除了显示模块具有后部发射结构外，镜面显示装置可以与图30中示出的镜面显示装置18基本上相同。因此，在附图中相同的附图标记可以用于相同的元件，并且可以省略任意重复的解释。

参照图32和图33，镜面显示装置20包括显示模块106和镜面模块208。镜面模块208包括具有第二区ii的透明基底210、设置在透明基底210的第一区i和第二区ii中的多个第一镜面图案226以及沿第一镜面图案226连续地延伸的第一镜面层232。第二区ii与显示模块106叠置。

显示模块106包括基底112、设置在基底112的下表面上的显示部分122以及覆盖显示部分122的薄膜包封层302。

显示部分122可以包括多个开关元件和电连接到开关元件的多个显示元件。例如，每个开关元件可以包括具有有源图案415、栅极绝缘层420、栅电极425、源电极443和漏电极445的薄膜晶体管。例如，每个显示元件可以包括第一电极460、显示层480和第二电极490。

基底112可以包括玻璃基底、透明塑料基底或柔性塑料基底等。在另一个示例性实施例中，基底112可以包括有机膜。

阻挡层412可以设置在基底112下方。阻挡层412可以防止杂质扩散到开关元件或显示元件中。

栅极绝缘层420可以设置在阻挡层412下方以覆盖有源图案415。栅电极425可以设置在栅极绝缘层420下方，并且可以与有源图案415叠置。

绝缘夹层430可以设置在栅极绝缘层420下方以覆盖栅电极425。源电极443和漏电极445可以穿过绝缘夹层430和栅极绝缘层420以接触有源图案415。

过孔绝缘层450可以覆盖源电极443和漏电极445。第一电极460可以穿过过孔绝缘层450以接触漏电极445。

像素限定层470可以设置在过孔绝缘层450下方。像素限定层470可以覆盖第一电极460的端部。像素限定层470可以包括暴露显示层480的多个开口472和474。显示层480可以设置在第一电极460下方。

第二电极490可以设置在像素限定层470的表面和显示层480的通过像素限定层470的开口472和474暴露的表面上。薄膜包封层302可以设置在第二电极490的表面上。

阻挡层412、有源图案415、栅极绝缘层420、栅电极425、绝缘夹层430、源电极443、漏电极445、过孔绝缘层450、第一电极460、像素限定层470、显示层480和第二电极490可以包括与图1和图3中示出的阻挡层310、有源图案315、栅极绝缘层320、栅电极325、绝缘夹层330、源电极343、漏电极345、过孔绝缘层350、第一电极360、像素限定层370、显示层380和第二电极390的材料基本上相同的材料。

在示例性实施例中，基底112可以与透明基底210的第二区ii结合。此外，基底112的厚度w2可以小于像素限定层470的彼此相邻的第一开口472和第二开口474之间的距离l2。例如，基底112可以包括有机膜。

根据示例性实施例，镜面显示装置20可以包括镜面模块208和与镜面模块208结合的显示模块106。因此，可以有效地获得大尺寸的镜面显示装置。此外，可以减少和/或防止显示质量的劣化。

在示例性实施例中，具有后部发射结构的显示模块106与镜面模块208结合。此外，基底112的厚度小于像素限定层470的宽度。因此，可以减少和/或防止由于图像分离导致的显示质量的劣化。

前述是对示例实施例的说明而不将被解释为对它们的限制。尽管已经描述了示例实施例，但是本领域技术人员将容易理解的是，在实质上不脱离本公开的新颖性教导和优势的情况下，示例性实施例中的许多修改是可能的。因此，所有这样的修改意图包括在本公开的范围内。因此，将理解的是，前述是对各种示例实施例的说明而不将被解释为受限于所公开的具体示例实施例，对所公开的示例实施例及其它示例实施例的修改意图包括在本公开的范围内。