显示基板的制作方法

文档序号:12782337阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板划分有非像素区域和彩色像素区域,所述显示基板包括:衬底基板,所述衬底基板的上方且位于所述非像素区域内形成有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的上方形成有钝化层,所述钝化层的上方且位于所述彩色像素区域内形成有彩色色阻,所述钝化层和所述彩色色阻的上方形成有平坦化层,所述彩色像素区域中的所述平坦化层的厚度小于所述非像素区域中的所述平坦化层的厚度,所述平坦化层的上方形成有显示电极,所述显示电极与所述薄膜晶体管中的漏极过孔连接。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板为OLED基板,所述显示电极为阳极;

所述平坦化层的上方形成有像素界定层,所述像素界定层上形成有若干个容纳孔,所述容纳孔与所述显示电极对应设置,所述容纳孔内形成有机发光层,所述有机发光层的上方形成有阴极;

所述阴极的上方设置有保护基板。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板为液晶显示基板,所述显示电极为像素电极,所述像素电极的上方形成有保护层,所述保护层的上方形成有取向层。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还划分有白色像素区域。

5.根据权利要求1-4中任一所述的显示基板,其特征在于,所述非像素区域中的所述平坦化层的厚度与所述彩色像素区域中的所述平坦化层的厚度的差为:2μm~3μm。

6.根据权利要求1-4中任一所述的显示基板,其特征在于,所述非像素区域中的所述平坦化层的厚度为3μm~3.5μm;

所述彩色像素区域中的所述平坦化层的厚度为0~1.5μm。

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