1.一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，其包括有机架，在所述的机架上设有工作平台；还包括有设于机架上的氧化石墨烯溶液涂覆设备、介电隔膜材料涂覆设备、正极材料涂覆设备、高能射线照射设备、清洗设备，以及干燥设备；还包括有设于机架上的可寻址位移机构，所述的氧化石墨烯溶液涂覆设备、介电隔膜材料涂覆设备、正极材料涂覆设备、高能射线照射设备、清洗设备均与位移机构连接且可于位移机构控制下移动至工作平台上方的任意位置；所述的干燥设备可热辐射至工作平台上。
2.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，所述的位移机构包括有控制设备，以及与控制设备连接由控制设备控制移动的移动台架；所述的移动台架包括有设于机架上可沿工作平台的一端和另一端之间的行程内来回运动的纵向运动架，以及设于纵向运动架上可垂直于纵向运动架的行径路线作往复运动的平伸架台。
3.根据权利要求2所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，所述的氧化石墨烯溶液涂覆设备包括有用于储存氧化石墨烯溶液的第一容器和氧化石墨烯溶液喷头，所述的第一容器和氧化石墨烯溶液喷头之间通过管道连接，所述的氧化石墨烯溶液喷头设于平伸架台上。
4.根据权利要求2所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，所述的介电隔膜材料涂覆设备包括有用于储存介电隔膜材料的第二容器和介电隔膜材料喷头，所述的第二容器和介电隔膜材料喷头之间通过管道连接，所述的介电隔膜材料喷头设于平伸架台上。
5.根据权利要求2所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，所述的正极材料涂覆设备包括有用于储存正极材料的第三容器和正极材料喷头，所述的第三容器和正极材料喷头之间通过管道连接，所述的正极材料喷头设于平伸架台上。
6.根据权利要求2所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，所述的干燥设备包括有干燥机和与干燥机连接的干燥风口喷头，所述的干燥风口喷头设于平伸架台上。
7.根据权利要求2所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，所述的高能射线照射设备为激光发射器，其设于平伸架台上。
8.根据权利要求2所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，所述的清洗设备包括有用于储存清洗溶剂的第四容器和清洗喷头，所述的第四容器和清洗喷头之间通过管道连接，所述的清洗喷头设于平伸架台上。
9.根据权利要求2所述的一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，还包括有上膜设备，所述的上膜设备包括有设于机架一侧的用于放置电极基料卷的料架，以及设于工作平台的始端的送膜辊。