用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明是涉及用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源。提供了基板处理腔室以及用于处理多个基板的方法，并且所述基板处理腔室大体包括电感耦合的饼形等离子体源，所述电感耦合的饼形等离子体源定位成使得在压板上旋转的基板将穿过与所述等离子体源相邻的等离子体区域。

技术研发人员：J·C·福斯特;J·约德伏斯基
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2014.03.14
技术公布日：2017.09.19