技术总结
本实用新型提供一种单片式清洗装置，包括：载台、上盖、下腔；上盖上设有进液管和排液管；所述上盖与下腔合拢成一个内有腔体的整体结构；所述载台平置于所述腔体内，载台用于放置晶圆；载台的底部与轴连接；轴中间和载台连接轴的区域中设有吸气孔；所述轴伸出下腔外；下腔上设有多个进气孔；进气孔排布一周；在上盖上设有排气孔。进一步地，进气孔在下腔的位置位于载台边缘下方。本实用新型能够使得晶圆表面液体量增大，使得一次去除的颗粒或者光刻胶增多，液体量增大且不会流出晶圆表面。
技术研发人员：李春
受保护的技术使用者：吉姆西半导体科技（无锡）有限公司
文档号码：201720375929
技术研发日：2017.04.12
技术公布日：2017.11.03