本发明涉及显示器加工领域，特别是涉及一种阵列基板以及蒸镀时防止阵列基板下沉的装置。
背景技术：
薄膜晶体管显示器因具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前的平板显示器市场中占据了主导地位。其中，薄膜晶体管显示器通常包括阵列基板和显示功能器件，在显示器加工过程中，常选用掩膜法使阵列基板与掩膜板对位，而后再将显示功能器件的原料蒸镀于阵列基板之上。
而在蒸镀过程中，阵列基板常常与掩膜板发生对位偏差，导致最终制成的显示器会出现色偏现象。
技术实现要素：
基于此，有必要针对上述问题，本发明提供了一种不会与掩膜版发生对位偏差、制成的显示器不会出现色偏的阵列基板。
一种阵列基板，包括：
基板；
磁性膜，形成于所述基板上；
以及阵列驱动层组，形成于所述磁性膜上。
上述阵列基板，在蒸镀过程中，由于其磁性膜能够与磁力板之间形成磁力吸附，可以使得阵列基板不会因重力作用而发生下沉；进而保证阵列基板平整，不会与下方掩膜板出现对位偏差，致使蒸镀完成后的显示器不会出现色偏现象。
在其中一个实施例中，所述磁性膜的厚度为0.05nm-600nm。
在其中一个实施例中，所述基板为玻璃基板。
本发明还提供了一种蒸镀时防止阵列基板下沉的装置。
一种蒸镀时防止阵列基板下沉的装置。
阵列基板为本发明所述的阵列基板；
所述装置包括：
挡板，压覆于所述阵列基板上；
以及磁力板，能够与所述阵列基板的磁性膜产生磁吸力；所述磁力板位于所述挡板远离阵列基板的一侧。
上述蒸镀时防止阵列基板下沉的装置可以使基板与掩膜板之间对位准确、蒸镀完成后的显示器不会出现色偏现象。
在其中一个实施例中，所述挡板的材质为铁或不锈钢。
在其中一个实施例中，所述挡板内设有用于对所述阵列基板进行降温的冷却机构。
在其中一个实施例中，所述磁力板的磁力均一性小于等于10％。
在其中一个实施例中，所述磁力板的磁感应强度为390高斯-410高斯。
在其中一个实施例中，所述磁力板为永磁体。
在其中一个实施例中，所述永磁体的材质为铁、钴、镍或其合金。
附图说明
图1为本发明一实施例的阵列基板与蒸镀时防止阵列基板下沉的装置的配合示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施方式，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
参阅图1，本发明一实施例的阵列基板，包括：基板101、磁性膜103以及阵列驱动层组105。蒸镀时防止本发明所述的阵列基板下沉的装置，包括：挡板201以及磁力板203。
其中，基板的主要作用是为其上的阵列驱动层组的加工提供载体。
在一优选的实施方式中，基板为刚性基板。优选地，基板为玻璃基板。当然，可以理解的是，也可以是刚性金属材质的基板或石英基板。
其中，磁性膜，形成于基板上。与磁力板相互配合，二者之间形成磁力吸附，可以防止阵列基板在蒸镀过程中因重力作用发生下沉。
在一优选的实施方式中，磁性膜为具有磁性的膜，例如：铁、钴、镍或者其合金。当然，可以理解的是，磁性膜的材料不限于金属材料，也可以选择其他能够被磁力板吸附的其他材料。
在一优选的实施方式中，磁性膜的厚度为0.05nm-600nm。此厚度可以使磁力板与磁性膜的吸附更牢靠。优选地，磁性膜的厚度为0.1nm-200nm。更优选地，磁性膜的厚度为0.1nm-100nm。
其中，阵列驱动层组形成于磁性膜上。其主要作用是提供电流和控制数据输入信号。具体而言，阵列驱动层组包括薄膜晶体管，薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极和半导体层等本领域所公知的组成阵列驱动层组所必须的元件，在此不再赘述。
在蒸镀过程中，上述阵列基板，其磁性膜因受到上方磁力板的磁力吸附，可以使得阵列基板不会因重力作用而发生下沉。进而保证阵列基板平整，不会与下方掩膜板出现对位偏差，致使蒸镀完成后的显示器不会出现色偏现象。
本发明还提供了蒸镀时防止本发明所述的阵列基板下沉的装置。
其中，挡板压覆于阵列基板上。挡板的主要作用是保持阵列基板平整。
具体而言，在蒸镀过程中，由于阵列基板的自身重力作用会发生下沉，但通常会有支撑组件对基板边缘进行支撑。因此，蒸镀过程中会产生阵列基板中部发生下沉，阵列基板的边缘发生上翘的现象，挡板通过对阵列基板的基板进行按压，可以避免基板边缘发生上翘，挡板还可以防止磁性膜因受上方磁力板磁力吸附过大导致基板中部向上隆起。进而保证基板在蒸镀过程中保持平整。从而使基板与掩膜板之间对位准确、蒸镀完成后的显示屏不会出现色偏现象。
在一优选的实施方式中，挡板的材质为刚性材料，刚性挡板具有一定的硬挺度，从而更好的实现对基板的按压。优选地，挡板的材质为铁或不锈钢等。
在一优选的实施方式中，挡板内设有用于对阵列基板进行降温的冷却机构。这样可以防止基板在蒸镀过程中因受热而发生膨胀，导致基板与像素的对位出现偏差，进而导致色偏现象。
其中，磁力板，磁力板位于挡板远离阵列基板的一侧。磁力板的主要作用是用于磁力吸附磁性膜。具体而言，在蒸镀过程中，由于阵列基板自身重力作用而发生下沉。本申请的发明人在基板的下表面蒸镀了一层磁性膜，因该膜受到上方的磁力板的磁力吸附，可以防止阵列基板受到重力作用下沉，从而使基板与掩膜板之间对位准确、进而保证蒸镀完成后的显示屏不会出现色偏现象。
在一优选的实施方式中，磁力板为永磁体。相对于利用电流大小控制磁性大小的电磁体而言，磁力更加稳定，不会产生过大波动，从而保证磁力板与磁性膜之间产生足够的磁力吸附，进而防止基板受到重力作用下沉。
进一步地，永磁体的材料为铁、钴、镍或其合金。
在一优选的实施方式中，磁力板的磁感应强度为390高斯-410高斯。以保证磁力板与磁性膜之间产生足够的磁力吸附，进而防止阵列基板受到重力作用下沉。
在一优选的实施方式中，磁力板的磁力均一性小于等于10％。这样可以使磁力在磁力板上均匀分布，进而有助于磁性膜的受力均匀。防止阵列基板的局部发生下沉。本文所述的磁力均一性也称为高斯均一性，其计算公式为：磁力均一性＝(磁力板上高斯最大值-磁力板上高斯最小值)/(磁力板上高斯最大值+磁力板上高斯最小值)。
此外，在蒸镀过程中，磁力板可以与下方的挡板留有一定空隙也可以与之紧贴。
以下结合阵列基板与蒸镀时防止阵列基板下沉的装置相互配合的工作原理进行阐述。
在蒸镀过程中，由于阵列基板的自身重力作用会发生下沉，但通常会有支撑组件对基板边缘进行支撑。因此，蒸镀过程中会产生阵列基板中部发生下沉，阵列基板的边缘发生上翘的现象，进而使得掩膜板和阵列基板发生对位偏差，致使蒸镀完成后的显示器会出现色偏现象。
上述蒸镀时防止阵列基板下沉的装置的磁力板与阵列基板的磁性膜分居基板两侧，在蒸镀时，先用顶针按压阵列基板的基板边缘处，然后移开顶针。这样的好处是通过用顶针按压基板边缘从而进行粗对位。在正式对位前，可以防止基板出现大范围移动，从而进一步防止出现对位偏差。再将防止阵列基板下沉的装置压覆在阵列基板的基板上，使磁力板与磁性膜之间形成磁力吸附，防止阵列基板在蒸镀过程中因重力作用发生下沉。此外，又加之防止阵列基板下沉的装置的挡板对基板的按压，可以避免基板边缘发生上翘，挡板还可以防止磁性膜因磁力吸附过大导致基板中部向上隆起。进而始终保证基板在蒸镀过程中保持平整。
综上所述，上述防止阵列基板下沉的装置可以防止阵列基板在蒸镀过程中因重力作用发生下沉，进而保证基板与掩膜板之间对位准确、蒸镀完成后的显示器不会出现色偏现象。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。