一种四元共蒸AIGS薄膜及其制备方法和应用与流程

文档序号:15972942发布日期:2018-11-16 23:36阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种四元共蒸AIGS薄膜,包括玻璃基底、沉积在玻璃基底上的金属Mo背电极以及共蒸在Mo背电极上的吸收层;所述吸收层为一步法四元共蒸Ag、In、Ga、Se形成的AIGS薄膜层。本发明还公开了四元共蒸AIGS薄膜的制备方法以及AIGS薄膜太阳能电池。采用一步法,通过控制蒸发源材料蒸气压对薄膜的生长过程进行精确的控制,提高效率和薄膜的均匀性。

技术研发人员:张险峰
受保护的技术使用者:电子科技大学中山学院
技术研发日:2018.06.14
技术公布日:2018.11.16
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