1.一种透明导电膜，包括：
基材，包括相对设置的第一表面及第二表面；
第一硬涂层，形成于所述第一表面；
第二硬涂层，形成于所述第二表面；
光学调整层，形成于所述第一硬涂层远离所述基材的表面；
透明导电层，形成于所述光学调整层远离所述第一硬涂层的表面；
金属层，形成于所述透明导电层远离所述光学调整层的表面；
其特征在于，所述第一硬涂层和所述第二硬涂层的硬度小于所述光学调整层的硬度，且所述第一硬涂层和所述第二硬涂层的模量小于所述光学调整层的模量。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一硬涂层和所述第二硬涂层的硬度为0.30-0.55gpa，所述光学调整层的硬度为0.55-0.70gpa。
3.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一硬涂层和所述第二硬涂层的模量为5.00-7.00gpa，所述光学调整层的模量为7.00-9.00gpa。
4.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一硬涂层和所述第二硬涂层的厚度为0.5-5μm。
5.根据权利要求4所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一硬涂层和所述第二硬涂层的厚度相同。
6.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述光学调整层的厚度为50-500nm。
7.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述基材材质为聚环烯烃或聚碳酸酯。
8.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一硬涂层含有多个颗粒，所述金属层的表面形成多个凸起；或者，所述第二硬涂层含有多个颗粒，所述第二硬涂层表面形成多个凸起。
9.根据权利要求8所述的透明导电膜，其特征在于，所述凸起的分布密度为100-3000个/mm2。
10.一种触摸屏，其特征在于，所述触摸屏包括两个如权利要求1-9任一项所述的透明导电膜，所述两透明导电膜相贴合，所述触摸屏设有触摸区及引线区，所述金属层位于所述引线区；所述触摸区包括由所述透明导电层蚀刻而成的电极；所述引线区包括由所述金属层及位于所述引线区的透明导电层被蚀刻形成的引线。