有源矩阵型有机电致发光显示面板的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种有源矩阵型有机电致发光显示面板。

背景技术：

目前，有源矩阵型有机电致发光显示面板例如amoled(activematrixorganiclight-emittingdiode，有源矩阵型有机发光二极管)显示面板，由于其具备低电压驱动、低功耗、适合大尺寸等优势广泛地应用于显示技术领域。

然而，显示面板中的有机发光器件对空气中的水和氧气比较敏感，容易受到水汽和氧气的影响，因此现有技术中通常采用薄膜封装(thinfilmencapsulation，tfe)层来隔离水和氧气。但是，在现有显示面板中，在设置薄膜封装层的过程中，由于会对薄膜封装层产生应力，而经常会出现容易脱离和结合不牢固的情况。

因此，需要一种能够有效改善薄膜封装层脱离状况的有源矩阵型有机电致发光显示面板。

技术实现要素：

鉴于此，本实用新型实施例提供一种有源矩阵型有机电致发光显示面板，有效地解决了tfe层容易脱离的问题。

一方面，本实用新型实施例提供的一种有源矩阵型有机电致发光显示面板，包括：基板，具有显示区域和环绕所述显示区域的周边区域；像素电路层，设置在所述基板上并位于所述显示区域；无机钝化层，设置在所述像素电路层的远离所述基板的一侧且位于所述显示区域和所述周边区域；多个有机电致发光元件，设置在所述无机钝化层的远离所述像素电路层的一侧且位于所述显示区域，其中每个所述有机电致发光元件包括阳极、阴极和夹设在所述阳极和所述阴极之间的有机功能层，所述阳极贯穿所述无机钝化层以电连接所述像素电路层；有机材料层，设置在所述无机钝化层的远离所述像素电路层的所述侧且位于所述显示区域和所述周边区域，其中所述有机材料层的远离所述无机钝化层的一侧形成有多个开口，所述多个开口位于所述显示区域并暴露所述多个有机电致发光元件的所述阳极以分别定义所述多个有机电致发光元件的发光区，位于所述周边区域的所述有机材料层形成有贯穿所述有机材料层的镂空结构以暴露所述无机钝化层；以及薄膜封装层，设置在所述显示区域和所述周边区域以覆盖所述多个有机电致发光元件和所述有机材料层，并填充在所述镂空结构内以与所述无机钝化层接触，其中，每个所述有机电致发光元件为有机发光二极管。

在本实用新型的一个实施例中，所述有机材料层包括平坦化层和像素定义层；其中，所述平坦化层设置在所述无机钝化层的远离所述像素电路层的所述侧且位于所述显示区域和所述周边区域；所述像素定义层设置在所述平坦化层的远离所述无机钝化层的一侧且位于所述显示区域和所述周边区域，其中所述像素定义层在所述多个开口所处位置分别形成有多个通孔；所述镂空结构位于所述平坦化层未被所述像素定义层覆盖的区域。

在本实用新型的一个实施例中，所述有机材料层包括平坦化层和像素定义层；其中，所述平坦化层设置在所述无机钝化层的远离所述像素电路层的所述侧且位于所述显示区域和所述周边区域；所述像素定义层设置在所述平坦化层的远离所述无机钝化层的一侧且位于所述显示区域和所述周边区域，其中所述像素定义层在所述多个开口所处位置分别形成有多个通孔；所述镂空结构依次贯穿所述像素定义层和所述平坦化层。

在本实用新型的一个实施例中，所述镂空结构为环绕所述显示区域的封闭沟槽。

在本实用新型的一个实施例中，所述镂空结构为分布于所述显示区域的多侧的多个条形沟槽或多个孔洞。

在本实用新型的一个实施例中，所述薄膜封装层包括依次堆叠的第一无机层、有机层和第二无机层；且所述第一无机层在所述镂空结构内与所述无机钝化层接触。

在本实用新型的一个实施例中，所述有源矩阵型有机电致发光显示面板还包括：封盖层，设置在所述薄膜封装层的内侧并覆盖所述多个有机电致发光元件；以及粘附层，设置在所述封盖层和所述薄膜封装层之间，其中所述粘附层包含氟化锂。

在本实用新型的一个实施例中，所述薄膜封装层包括依次堆叠的第一化学气相沉积层、喷墨印刷层和第二化学气相沉积层；且所述第一化学气相沉积层在所述镂空结构内与所述无机钝化层接触。

在本实用新型的一个实施例中，所述阳极包括依次堆叠的第一铟锡氧化层、银层和第二铟锡氧化层，所述阴极包含镁银合金层。

在本实用新型的一个实施例中，所述像素电路层包括多个像素电路，所述多个像素电路分别与所述多个有机电致发光元件的所述阳极电连接，且每个所述像素电路包含形成相互电连接的存储电容和多个晶体管；所述薄膜封装层包括依次堆叠的第一无机层、有机层和第二无机层；且所述第一无机层在所述镂空结构内与所述无机钝化层接触。

本实用新型实施例的有益效果在于：借由位于周边区域的有机材料层形成有贯穿有机材料层的镂空结构以暴露无机钝化层，从而薄膜封装层可以填充在镂空结构内，其增加了薄膜封装层的附着力，改善了薄膜封装层脱离风险，增加制程余裕度，延长使用显示面板的寿命以及提升了显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一实施例的一种有源矩阵型有机电致发光显示面板的剖视图。

图2为本实用新型一实施例的一种有源矩阵型有机电致发光显示面板的镂空结构的形状示意图。

图3为本实用新型另一实施例的一种有源矩阵型有机电致发光显示面板的镂空结构的形状示意图。

图4为本实用新型又一实施例的一种有源矩阵型有机电致发光显示面板的镂空结构的形状示意图。

图5为本实用新型再一实施例的一种有源矩阵型有机电致发光显示面板的剖视图。

图6为本实用新型一实施例的一种有源矩阵型有机电致发光显示面板的单个像素电路及有机发光二极管的电路连接关系示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本实用新型的示例性实施例的目的。但是本实用新型可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。

图1示出了本实用新型一实施例的有源矩阵型电致发光显示面板例如amoled显示面板的剖视图，所述amoled显示面板包括：基板110、像素电路层120、无机钝化层130、多个有机电致发光元件140(图1中仅示出一个有机电致发光元件140作为举例)、有机材料层150以及薄膜封装层160。

基板110具有显示区域112和环绕该显示区域112的周边区域114。

像素电路层120设置在基板110上并且位于显示区域112。

无机钝化层130设置在像素电路层120的远离基板110的一侧并且位于显示区域112和周边区域114。

各个有机电致发光元件140设置在无机钝化层130的远离像素电路层120的一侧并且位于显示区域112，每个有机电致发光元件140包括阳极1401、阴极1402和夹设在阳极1401和阴极1402之间的有机功能层1403，阳极1401贯穿无机钝化层130以电连接像素电路层120。

有机材料层150设置在无机钝化层130的远离像素电路层120的一侧且位于显示区域112和周边区域114，其中有机材料层150的远离无机钝化层130的一侧形成有多个开口170(图1中仅示出一个开口170作为举例)，各个开口170位于显示区域112并暴露相对应的各个有机电致发光元件140的阳极1401以分别定义相对应的各个有机电致发光元件140的发光区，位于周边区域114的有机材料层150形成有贯穿有机材料层150的镂空结构180以暴露无机钝化层130。

薄膜封装层160设置在显示区域112和周边区域114以覆盖各个有机电致发光元件140和有机材料层150，并填充在镂空结构180内以与无机钝化层130接触。

具体地，有机电致发光元件140例如为有机发光二极管(oled)。基板110例如由刚性透明材料形成。举例而言，基板110为石英基板、人造石英基板、氟化钙基板、掺氟石英基板或钠钙玻璃基板等。此外，基板110例如由柔性透明材料形成。举例而言，基板110为聚酰亚胺基板，可以包括第一聚酰亚胺层、阻挡膜层、第二聚酰亚胺层等。此外，值得一提的是，图1中的显示区域112仅示出一个有机电致发光元件140作为举例，但本实用新型实施例并不以此为限，其可以是多个有机电致发光元件，且这些有机电致发光元件以矩阵形式排列。再者，在有机电致发光元件的数量为多个时，其例如包括红色有机电致发光元件、绿色有机电致发光元件和蓝色有机电致发光元件。

无机钝化层130的材料例如为氮化硅，也可以使用氧化硅、氮氧化硅或其任意组合等。

具体地，阳极1401可以例如通过蒸镀工艺形成，并且例如由铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)、氧化锌(zno)或氧化铟(in2o3)的透明导电材料或者例如锂(li)、钙(ca)、氟化锂/钙(lif/ca)、氟化锂/铝(lif/al)、铝(al)、银(ag)、镁(mg)或金(au)的反射金属形成。例如，阳极电极1401可以通过顺序地堆叠ito、ag和ito形成。有机功能层1403例如包括空穴注入层(hil)，以及还包括空穴传输层(htl)、发光层(eml)、电子传输层(etl)和电子注入层(eil)中的至少一个层，以根据有机材料的种类发射不同颜色的光。阴极1402例如包括铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)、氧化锌(zno)或氧化铟(in2o3)的透明导电材料或者例如锂(li)、钙(ca)、氟化锂/钙(lif/ca)、氟化锂/铝(lif/al)、铝(al)、银(ag)、镁(mg)、金(au)或镁银合金等。在本实用新型各个实施例中，阴极1402通常为镁银合金，因为其具有密度小，铸造性能好，尺寸稳定性好以及易回收等优点。

薄膜封装层160的封装材料包括siox等无机材料甚至有机材料，以有效地隔离水和氧，从而有效地防止水、氧等物质进入oled材料中而使得显示面板退化，并且薄膜封装层160通常是通过涂布工艺或者蒸镀工艺或者溅镀工艺形成。

在本实用新型的实施例中，位于周边区域114的有机材料层150形成有贯穿有机材料层150的镂空结构180，并且封装薄膜层160填充在镂空结构180内，如此一来，封装薄膜层160中的无机材料与无机钝化层130直接接触，增加了薄膜封装层的附着力，而大大降低了封装薄膜层撕裂的风险，从而延长了amoled显示面板的使用寿命并提升了显示效果。此外，在本实用新型的实施例中，仅仅蚀刻有机材料层150使得其封装薄膜层160与无机钝化层接触，而没有对无机钝化层130作进一步蚀刻，如此一来，可以在确保薄膜封装层160的附着力的前提下简化制作工艺，降低制作成本。

在一个具体实施方式中，有机材料层150包括平坦化层1502和像素定义层1504；其中，平坦化层1502设置在无机钝化层130的远离像素电路层120的一侧且位于显示区域112和周边区域114；像素定义层1504设置在平坦化层1502的远离无机钝化层130的一侧且位于显示区域112和周边区域114，其中像素定义层1504在各个开口170所处位置分别形成相对应的通孔。再者，镂空结构180例如位于平坦化层1502未被像素定义层1504覆盖的区域，如此一来，镂空结构180仅贯穿平坦化层1502。

具体地，平坦化层1502和像素定义层1504例如为有机材料，其具有良好的弹性和柔韧性，起到了平坦化及缓冲应力的作用。具体地，平坦化层1502例如由聚硅氧烷系材料、亚克力系材料、或聚酰亚胺系材料等具有平坦化效果的材料形成。

在另一具体实施方式中，所述有机材料层包括平坦化层1502和像素定义层1504；其中，所述平坦化层1502设置在所述无机钝化层130的远离所述像素电路层120的所述侧且位于所述显示区域112和所述周边区域114；所述像素定义层1504设置在所述平坦化层1502的远离所述无机钝化层130的一侧且位于所述显示区域112和所述周边区域114，其中所述像素定义层1504在各个开口170所处位置分别形成有相对应的通孔。再者，例如图1所示，所述镂空结构180依次贯穿所述像素定义层1504和所述平坦化层1502。

尽管在图1中周边区域114仅示出了一个镂空结构180，然而，在实际应用中，镂空结构可以为多个，在此不做限定。

在一个具体实施方式中，如图2所示，镂空结构180为环绕所述显示区域112的封闭沟槽。

在另一具体实施方式中，如图3所示，镂空结构180为分布于所述显示区域112的多侧的多个条形沟槽。

在又一个具体实施方式中，如图4所示，镂空结构180为分布于所述显示区域112的多侧的多个孔洞。

值得一提的是，镂空结构180的形状在此并不作限定，诸如可以为u型，l形等，只要使得薄膜封装层160能够与无机钝化层130直接接触即可。

具体地，所述镂空结构180可以通过利用光掩膜蚀刻工艺在显示区域四周形成，其清除有机材料层中的部分有机材料来形成，从而使得tfe结构中的封装材料直接接触到无机钝化层，从而增加tfe材料的附着力，使得tfe结构不易脱离，从而提高显示面板的可靠度并改善显示画面均匀度。

在一个具体实施方式中，薄膜封装层160包括远离于基板110依次堆叠的第一无机层、有机层和第二无机层；且第一无机层在所述镂空结构180内与所述无机钝化层130接触。举例来说，第一无机层和第二无机层例如是化学气相沉积层，所述有机层例如是喷墨印刷层。

在一个具体实施方式中，例如图5所示，amoled显示面板还包括：封盖层200，设置在所述薄膜封装层160的内侧并覆盖各个有机电致发光元件140；以及粘附层190，设置在封盖层200和薄膜封装层160之间，其中所述粘附层190例如包含氟化锂。

在一个具体实施方式中，阳极1401包括依次堆叠的第一铟锡氧化层(ito)、银层(ag)和第二铟锡氧化层(ito)，阴极1402例如包含镁银合金层(mgag)。

在一个具体实施方式中，像素电路层120包括多个像素电路，所述多个像素电路分别与所述多个有机电致发光元件的所述阳极电连接。如图6所示，每个所述像素电路例如包括彼此电连接的存储电容122和多个晶体管121、123；每个所述有机电致发光元件为有机发光二极管14。更具体地，将正电压电源elvdd提供给正电源端子，并且可将接地电源电压elvss提供给接地电源端子，驱动晶体管121的状态控制流经有机电致发光元件14的电流量，从而控制有机发光二极管14的发光亮度。为确保晶体管121被保持在连续数据帧之间的期望状态，像素电路包括存储电容122，存储电容122上的电压在节点a处被施加到晶体管121的栅极以控制晶体管121。可使用一个或多个开关晶体管例如晶体管123将数据加载到存储电容122中。当开关晶体管123断开时，数据线d与存储电容122隔离，并且节点a上的栅极电压等于被存储在存储电容122中的数据值。当栅极线g(扫描线)提供控制电压使开关晶体管123导通时，数据线d上的新数据信号将被加载到存储电容122中。存储电容122上的新数据信号在节点a处被施加到晶体管121的栅极，从而调节晶体管121的状态借此调节有机发光二极管14发射的相应光量。

在本实用新型的上述具体实施例中，通过改变有机材料层150的结构，即，在显示区域四周的周边区域内增加了镂空结构，借此增加薄膜封装层的附着力，改善了薄膜封装层脱离风险，增加制程余裕度，延长使用显示面板的寿命以及提升了显示效果。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。