半导体器件及方法与流程

文档序号:37147009发布日期:2024-02-26 17:00阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种半导体器件(10),其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的半导体器件(10),其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的半导体器件(10),其特征在于,

4.根据前述权利要求中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

5.根据前述权利要求中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

6.根据前述权利要求中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

7.根据权利要求1至5中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

8.根据权利要求5和7所述的半导体器件(10),其特征在于,

9.根据权利要求8所述的半导体器件(10),其特征在于,

10.根据权利要求1所述的半导体器件(10),其特征在于,

11.根据前述权利要求中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

12.根据前述权利要求中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

13.根据前述权利要求中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

14.根据前述权利要求中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

15.根据权利要求5至14中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

16.根据权利要求5至15中任一项所述的半导体器件(10),其特征在于,

17.根据权利要求1至16中任一项所述的器件,其特征在于,

18.一种用于制造半导体器件(10)的方法(20),其特征在于,所述方法包括:


技术总结
本发明涉及一种半导体器件。所述半导体器件包括:包括第一宽带隙半导体材料的衬底;布置在所述衬底上的第一导电类型的第一区域和第二导电类型的第二区域,其中所述第一区域和所述第二区域包括第二宽带隙半导体材料,并且所述第一区域和所述第二区域形成配置为反熔丝的齐纳PN二极管。还提供了一种用于制造所述半导体器件的对应方法。

技术研发人员:萨米尔·穆胡比
受保护的技术使用者:华为数字能源技术有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/2/25
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