作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
[0033]实施例一
[0034]本实施例提出一种全彩OLED结构及其制造方法，该结构的示意图如图2所示。该OLED结构包括玻璃衬底1，设置在玻璃衬底2上的反射阳极、设置在反射阳极2上的第一空穴注入层3，设置在第一空穴注入层3上的第二空穴注入层，所述第二空穴注入层是微腔调整层。第二空穴注入层包括蓝光空穴注入层4-1，设置在蓝光空穴注入层4-1上的绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3，绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3互相以间隔层(未图示)间隔开来。
[0035]蓝光空穴注入层4-1、绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3的材料相同，都为常用P型材料的有机材料，如P型掺杂的酞菁铜(CuPc)，2-TNATA等。为了调整发光纯度，对应于不同颜色的发光层其厚度不同，因此将其命名为蓝光空穴注入层、绿光空穴注入层和红光空穴注入层。蓝光空穴注入层4-1、绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层的厚度满足一比例3:1:2，在优选的方式中蓝光空穴注入层4-1的厚度为750nm，绿光空穴注入层4-2的厚度为250nm，红光空穴注入层4-3的厚度为500nm。
[0036]形成蓝光空穴注入层4-1可以采用全开口掩模板配合蒸镀工艺完成，而形成绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3则分别各需要一套高精度掩模板配合蒸镀工艺完成。
[0037]这里只需要分别使用二次高精度遮挡掩模形成绿光空穴注入层和红光空穴注入层，不需要采用高精度遮挡掩模形成蓝光空穴注入层，减少了高精度遮挡掩模的使用。
[0038]在第二空穴注入层上设置有空穴传输层5,在空穴传输层5上设置有发光层,所述发光层包括蓝光发光层6-1和绿光与红光发光层6-2,所述蓝光发光层6-1覆盖所述绿光与红光发光层6-2。这里的发光材料都是常有的发光材料包括主发光体和掺杂发光体。
[0039]绿光与红光发光层6-2中通过调整掺杂比例的得到适当比例的红光和绿光，再结合第二空穴注入层中不同厚度蓝光空穴注入层、绿光空穴注入层和红光空穴注入层的微腔调整，得到全彩的光输出。这里所说的适当掺杂比例是在发光主体中掺杂1%_12%的有机红光磷光材料和3%_12%的有机绿光磷光材料，有机红光磷光材料可以是例如Ir (piq) 3，有机绿光磷光材料可以是例如Ir(ppy)3。
[0040]由于红光发光层和绿光发光层在是在同一层中掺杂适当比例的有机红光磷光材料和有机绿光磷光材料，不需要分别形成红光发光层和绿光发光层，减少了高精度遮挡掩模的使用。并且接下来将蓝光发光层6-1直接形成为覆盖绿光与红光发光层6-2，不需要使用高精度遮挡掩模形成单独的蓝光发光层，只需要使用全开口掩模，又减少一次使用高精度遮挡掩模。
[0041]该OLED结构还包括电子传输层7，设置于所述发光层上，和电子注入层8，设置于所述电子传输层7上，以及半透明阴极9，设置于所述电子注入层8上。这些都是OLED的常用结构，在此不再一一赘述。
[0042]接下来描述上述OLED结构的制造方法，首先提供一玻璃衬底I，接着在玻璃衬底I上形成反射阳极2，然后在反射阳极2上形成第一空穴层，这些都是本领域常用的技术，再次不再详述。
[0043]然后在第一空穴层3上形成蓝光空穴注入层4-1上，在蓝光空穴注入层4-1上形成绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3，绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3互相以间隔层(未图示)间隔开来。具体的做法可以是形成蓝光空穴注入层的厚度为蓝光空穴注入层4-1与绿光空穴注入层4-2与红光空穴注入层4-3的厚度之和，以上述蓝光空穴注入层4-1的厚度为750nm，绿光空穴注入层4-2的厚度为250nm，红光空穴注入层4-3的厚度为500nm为例，蓝光空穴注入层使用全开口的掩模板，覆盖整个蓝光，绿光及红光区域。绿光空穴注入层需使用高精度掩模板，将绿光空穴注入层形成于绿光区域中，设置于蓝光空穴注入层上。红光空穴注入层需使用高精度掩模板，将红光空穴注入层形成于红光区域，设置于蓝光空穴注入层上。图2中为清楚起见示出红光空穴注入层4-3与蓝光空穴注入层4-1为分离的结构，实际上它们是一体形成，绿光空穴注入层4-2与蓝光空穴注入层4-1也是如此。
[0044]然后以间隔层将绿光空穴注入层4-2与红光空穴注入层4-3间隔开来，在蓝光空穴注入层4-1、绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3上形成空穴传输层5，在空穴传输层5上形成以适当比例掺杂的绿光与红光发光层6-2，这里需要使用高精度掩模板定义绿光与红光发光层6-2得到图2所示的结构，接着在绿光与红光发光层6-2上形成蓝光发光层6-1 ο
[0045]在蓝光发光层6-1形成电子传输层7，在电子传输层7上形成电子注入层8，以及在电子注入层8上形成半透明阴极9。
[0046]本实施例提出的OLED结构和制造方法，以两次高精度遮挡掩模工艺形成不同厚度的空穴注入层和一次高精度遮挡掩模工艺形成绿光与红光发光层，在以微腔调整形成全彩发光的同时能够将传统的需要六道高精度遮挡掩模工艺减少至三道高精度遮挡掩模工艺，降低了成本，同时降低了混色发生的机率和减少了产品的不良率，得到高效果的全彩发光。
[0047]实施例二
[0048]本实施例提出一种全彩OLED结构及其制造方法，该结构的示意图如图3所示。该OLED结构包括玻璃衬底1，设置在玻璃衬底2上的反射阳极、设置在反射阳极2上第一空穴注入层3，设置在第一空穴注入层3上的第二空穴注入层，所述第二空穴注入层是调整层。第二空穴注入层包括蓝光空穴注入层4-1，设置在蓝光空穴注入层4-1上的绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3，绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3互相以间隔层(未图示)间隔开来。
[0049]蓝光空穴注入层4-1、绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3的材料相同，都为常用P型材料的有机材料，如P型掺杂的酞菁铜(CuPc)，2-TNATA等。为了调整发光纯度，对应于不同颜色的发光层其厚度不同，因此将其命名为蓝光空穴注入层、绿光空穴注入层和红光空穴注入层。蓝光空穴注入层4-1、绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3的厚度满足一比例3:1:2，在优选的方式中蓝光空穴注入层4-1的厚度为750nm，绿光空穴注入层4-2的厚度为250nm，红光空穴注入层4-3的厚度为500nm。
[0050]形成蓝光空穴注入层4-1可以采用全开口掩模板配合蒸镀工艺完成，而形成绿光空穴注入层4-2和红光空穴注入层4-3则分别需要一套高精度掩模板配合蒸镀工艺完成。
[0051]这里只需要分别使用二次高精度遮挡掩模形成绿光空穴注入层和红光空穴注入层，不需要采用高精度遮挡掩模形成蓝光空穴注入层，减少了高精度遮挡掩模的使用。
[0052]在第二空穴注入层上设置有空穴传输层5,在空穴传输层5上设置有发光层，所述发光层包括蓝光发光层6-1、绿光发光层6-2-1和红光发光层6-2-2,绿光发光层6_2_1形成在红光发光层6-2-2之上,所述蓝光发光层6-1覆盖绿光发光层6-2-1和红光发光层6-2-2。这里的发光材料都是常有的发光材料包括主发光体和掺杂发光体。
[0053]这里与实施例一不