舱以未对接位置输送时，接口模块201’可包括任何适当的滑梭或运送单元，以使衬底吊舱210从未对接位置移动到对接位置。门接口 209D’可基本类似于上面描述的端口门209D。门接口 209D’和吊舱门210D之间的任何空间可排空(在这方面，被栗吸成真空和/或通气)，例如为了移除污染物(图36，方框36002)。吊舱门210D可按上面描述的方式从吊舱壳体210H上解锁，并且驱动器730可移动吊舱门210D及其上的成堆叠的衬底，以分开吊舱门210D与吊舱壳体210H，以及在预定位置/海拔35040处铺设成堆叠的衬底中的预定衬底。
[0065]吊舱210的内部空间和/或吊舱门210D和门接口 209D’之间的空间可排空(例如在这方面，吹扫)任何适当的气体(例如诸如氮或其它惰性气体)，使得吊舱210的内部空间内的压力和/或吊舱门和端口门之间的空间处于基本等于或大于微环境1060内的压力的气氛压力(图36，方框36003)。在一方面，衬底吊舱201可在真空状况中(例如吊舱的内部空间保持处于真空压力)输送到接口模块201’，并且以上面描述的方式到达气氛压力，以与微环境1060交接。在其它方面，衬底吊舱201可在大气状况中(例如吊舱的内部空间保持处于大气压力)输送到接口模块201’，并且以上面描述的方式用例如惰性气体吹扫衬底吊舱201，以与微环境1060交接。在另外的其它方面，在接口模块联接到构造成保持真空的腔室(诸如加载锁203和转移腔室202)上的情况下，吊舱210内的真空可由接口模块201’保持，使得加载锁203和/或转移腔室202的真空环境与吊舱210和/或隔开的受控环境封壳35002E共享。
[0066]驱动器35005可沿箭头799的方向移动护罩35002，使得吊舱壳体210H移动远离吊舱门210D，如图35B中显示的那样，使得支架210R上的成堆叠的衬底暴露于微环境，或者否则可由适当的衬底运送器接近(图36，方框36004)。在一方面，吊舱壳体210H可按基本类似于1998年8月4日授权的美国专利N0.5，788，458和2000年7月4日授权的N0.6，082，949中描述的方式提起护罩35002，这些专利的公开内容通过引用而整体地结合在本文中。在其它方面，护罩35002可为基本固定的，并且定位成以便围绕加载端口 1040提供隔开的受控环境封壳35002E。衬底吊舱210可输送到基本固定的护罩35002的吊舱壳体接口 35010(其中，端口板209’以基本类似于关于接口模块201所描述的方式密封吊舱壳体接口中的孔口 )。要注意的是，驱动器730可包括任何适当的行程，使得支架210R中的成堆叠的衬底可从基本固定的护罩35002的吊舱壳体接口 35010下降，以用类似于下面描述的方式，基本沿着微环境的转移平面来布置预定衬底或衬底支持件210RS。
[0067]加载端口门1040D可按任何适当的方式打开，使得至少部分地由护罩35002形成的隔开的受控环境封壳的内部通过开口 201F0与微环境1060的内部处于连通(图36，方框36005)。驱动器730可沿箭头799的方向移动支架210R，使得预定衬底(或衬底保持支持件210RS)沿着微环境1060衬底运送器(可基本类似于上面描述的转移机器人1013)的转移平面布置，以将预定衬底转移到微环境1060，以及/或者从微环境1060转移出预定衬底(图36，方框36006)。在其它方面，微环境的衬底运送器可包括Z轴驱动器，使得微环境的转移平面可沿箭头799的方向移动，以从支架210R移除衬底，或者将衬底布置到支架210R上，同时支架210R在箭头799的方向上保持基本固定。
[0068]如可认识到的那样，衬底吊舱210从接口模块210’转移可按与上面关于图36所描述的基本相反的方式进行。在一方面，接口模块210’可包括诸如上面描述的一个或多个真空栗和/或初抽阀，其构造成在衬底吊舱210从接口模块201’移除之前，将衬底吊舱210的内部空间栗吸到任何适当的真空压力。
[0069]如可认识到的那样，虽然在微环境的公共侧部上示出一个或多个接口模块201’，但在其它方面，接口模块201’可布置在微环境的任何适当的侧部上(如上面描述的那样)，诸如布置到BOLTS接口 35001或微环境1060的任何其它适当的接口上。如还可认识到的那样，接口模块201’可提供下者中的一个或多个:真空与气氛接口、气氛与真空接口，或者这两者，这取决于例如上游和下游衬底工艺流程要求。例如，在一方面，一个或多个接口模块201’可位于生产设备37000内，如图37中显示的那样。生产设施可基本类似于例如2012年9月25日授权的美国专利N0.8，272，827中描述的，该专利的公开内容通过引用而整体地结合在本文中。在一方面，生产设施包括处理模块PTC、PTC1、PTC2、PTB1、PTB2、PTA1、PTA2和任何适当的运送器37001，以将吊舱210运送到接口模块201’，或者将吊舱210运送出接口模块201’。如可认识到的那样，一些处理模块PTC、PTC1、PTC2、PTB1、PTB2、PTA1、PTA2可为带气氛式处理模块，而其它处理模块PTC、PTC1、PTC2、PTB1、PTB2、PTA1、PTA2可为真空处理模块。在这方面，运送器37001是架空运送系统，包括架空吊舱存储器37001S，但在其它方面，运送器37001可为任何适当的运送器。在一方面，一个接口模块201’可连接到带气氛式处理站PTC1上(诸如在EFEM或其它气氛腔室处)，带气氛式处理站PTC1在工艺流程中定位在带气氛式处理站PTC和真空处理站PTC2之间。处理站PTC1处的接口模块201’可构造成将衬底吊舱210与气氛工艺交接，并且然后将衬底吊舱210栗吸成真空，以与处理模块PCT2的真空工艺交接(例如其中加载锁操作可省略，因为衬底吊舱210已经处于真空气氛，使得吊舱210可按基本类似于名称为“Side Opening Unified Pod(侧部开口统一吊舱)”且在2008年5月19日提交的美国专利申请N0.12/123，391中描述的方式基本直接与真空环境交接。处理站PTC2处的接口模块201’可在带气氛式处理模块PTB1的上游，使得吊舱210可在吊舱的内部处于真空的情况下输送到处理站PTB1，其中，处理站PTB1的接口模块201’排空吊舱210，以与处理站PTB1的气氛环境交接。在其它方面中，处理站PTC2处的接口模块可排空吊舱210，使得吊舱210的内部处于气氛压力，以输送到带气氛式处理站 PTB1。
[0070]现在参照图38A，接口模块201’可构造成穿过式加载锁或腔室，这允许一个或多个衬底通过接口模块201’从另一个腔室38001(诸如另一个真空处理模块或另一个带气氛式处理腔室)传送到一个处理腔室38000中，诸如真空处理腔室或带气氛式处理腔室。在一方面，处理腔室38001可为带气氛式处理腔室，诸如上面描述的微环境1060，而且处理腔室38000可为基本类似于后端1020、转移腔室1025和处理站1030中的一个或多个的真空处理腔室或者任何其它适当的真空处理腔室(或者反之亦然)。在其它方面，处理腔室38000、38001两者可为带气氛式处理腔室，诸如微环境1060。仍然在其它方面，处理腔室38000、38001两者可为真空处理腔室，诸如后端1020、转移腔室1025和处理站1030中的一个或多个或者任何其它适当的真空处理腔室。
[0071]作为穿过式加载锁或腔室的示例，接口模块201’可密封，使得接口模块门209D’ ’密封端口板209中的开口(图39，方框39000)。具有一个或多个衬底保持位置38011A、38011B的支架38010可连接到接口模块门209D’ ’上，或者以别的方式悬吊在接口模块门209D’ ’上，使得一个或多个衬底保持位置38011A、38011B沿着在处理腔室38001和处理腔室38000之间延伸的一个或多个衬底转移平面STP定位。转移机器人38013可通过可密封开口 203S1将衬底从处理腔室38001转移到接口模块201’内的衬底保持位置38011A、38011B(例如在可密封开口 20332关闭的情况下)(图39，方框39010)。转移机器人可基本类似于本文描述的一个或多个机器人运送器，这取决于处理腔室38001内的气氛(例如气氛或真空)。在处理腔室38001是带气氛式处理腔室，并且处理腔室38001是真空处理腔室的情况下，可密封开口 203S1可关闭，而且接口模块201’可栗吸到处理腔室38000的真空气氛(图39，方框39020)。在处理腔室38001和处理腔室38001具有相同的环境的情况下(例如两个处理腔室都具有气氛环境，或者两个处理腔室都具有真空环境)，可密封开口203S1可关闭，并且在接口模块已经处于处理腔室38000、38001的真空或气氛压力的情况下，可省略对腔室的栗吸。可密封开口 203S2可为打开的，并且处理腔室38000的转移机器人38014 (这可基本类似于本文描述的真空和气氛转移机器人，这取决于处理腔室38000的环境)可将衬底从接口模块201’运送到处理腔室38000(图39，方框39030)。衬底从处理腔室38000转移到处理腔室38001可按与上面描述的基本相反的方式进行，其中，将接口模块201’栗吸成真空由对接口模块201’通气取代，以使接口模块201’到达处理模块38001的气氛压力。再次，如上面提到的那样，在处理腔室38000、38001两者都具有气氛环境或真空环境的情况下，可省略对接口模块201’通气。
[0072]如可在上面看到的那样，在吊舱210不接合到接口模块201’上的情况下使衬底从处理腔室38001转移到处理腔室38000。参照图38B，在其它方面，穿过式加载锁可由与接口模块201’接合的吊舱210实现。例如，吊舱210可按类似于上面描述的方式加载在接口模块201’上，使得吊舱壳体210H密封接口模块端口板209开口(图40，方框40000)。接口模块门209D’ ’可从吊舱壳体210H移除吊舱门210D，并且降下吊舱门210D，使得支架210R的衬底保持支持件210RS中的至少一个沿着至少一个衬底转移平面STP定位(图40，方框40010)。如可认识到的那样，衬底保持支持件210RS中的一个或多个可清空，使得衬底可从处理模块38001运送通过可密封开口 203S1，并且运送到空的衬底支持件(图40，方框40020)。在处理腔室38001为带气氛式处理腔室，并且处理腔室38001为真空处理腔室的情况下，可密封开口 203S1可为关闭的，并且接口模块201’可栗吸到处理腔室38000的真空气氛(图40，方框40030)。在处理腔室38001和处理腔室38001具有相同的环境的情况下(例如两个处理腔室都具有气氛环境，或者两个处理腔室都具有真空环境)，可密封开口 203S1可为关闭的，并且在接口模块已经处于处理腔室38000、38001的真空或气氛压力的情况下，可省略对腔室的栗吸。可密封开口 203S2可为打开的，并且处理腔室38000的转移机器人38014可将衬底从接口模块201’运送到处理腔室38000(图40，方框40040)。衬底从处理腔室38000转移到处理腔室38001可按与上面描述的基本相反的方式进行，其中，接口模块201’栗吸成真空由对接口模块201’通气取代，以使接口模块201’到达处理模块38001的气氛压力。再次，如上面提到的那样，在处理腔室38000、38001两者都具有气氛环境或真空环境的情况下，可省略对接口模块201’通气。在其它方面，衬底可从处理腔室38000回到吊舱210 (图40，方框40050)。例如，衬底可如上面描述的那样从处理腔室38001的气氛环境转移到处理腔室38000的真空环境。然后衬底可从处理腔室38000的真空环境转移到定位在接口模块201’的真空环境中的吊舱的衬底保持支持件210RS。在一方面，吊舱门可为关闭的(例如在吊舱210的内部处于真空的情况下)，使得衬底可在真空状况下在吊舱内转移。
[0073]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底运送系统包括载体，载体具有壳体和门，壳体形成内部环境，内部环境具有用于保持至少一个衬底的开口，门用于将开口与外部气氛密封开，其中在被密封时，内部环境构造成保持其中的内部气氛，壳体包括流体贮存器，其在内部环境的外部，并且构造成容纳流体，从而在流体贮存器形成与内部气氛不同的气氛，以形成流体阻隔密封件，其将内部环境与载体外部的环境密封开。
[0074]根据公开的实施例的一个或多方面，流体贮存器构造成在第一环境被破坏时将流体释放到内部环境中。
[0075]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底运送系统包括真空腔室，其具有载体接口，载体接口构造成支持载体，以在真空腔室中运送至少一个衬底。
[0076]根据公开的实施例的一个或多方面，壳体和门中的至少一个包括冗余密封组件，冗余密封组件包括围绕开口的外周设置的至少一个真空密封件，以及至少一个流体贮存器密封件。
[0077]根据公开的实施例的一个或多方面，流体贮存器容纳压力高于内部气氛的压力的气体。
[0078]根据公开的实施例的一个或多方面，流体贮存器容纳压力高于大气压力的气体。
[0079]根据公开的实施例的一个或多方面，内部气氛处于低于大气压力的压力。
[0080]根据公开的实施例的一个或多方面，载体的壳体构造成支持真空内部环境。
[0081]根据公开的实施例的一个或多方面，冗余密封组件的至少一个真空密封件包括位于第一平面中的第一密封件和位于第二平面中的第二密封件，其中第一和第二平面彼此不同。
[0082]根据公开的实施例的一个或多方面，冗余密封组件的各个密封件匹配壳体和门中的至少一个中的凹陷密封表面。
[0083]根据公开的实施例的一个或多方面，壳体包括流体贮存器通道，其与流体贮存器连通，使得流体阻隔密封件设置在至少一个真空密封件的外侧，而至少一个流体贮存器密封件设置成围绕流体贮存器通道的外周。
[0084]根据公开的实施例的一个或多方面，流体贮存器构造成在至少一个真空密封件被破坏时，将流体通过流体贮存器通道释放到内部环境中。
[0085]根据公开的实施例的一个或多方面，门利用内部环境的真空力密封到壳体上。
[0086]根据公开的实施例的一个或多方面，通过内部环境和真空腔室之间的动态压力平衡释放门。
[0087]根据公开的实施例的一个或多方面，载体接口包括冗余密封组件，其包括位于第一平面中的第一密封件和位于第二平面中的第二密封件，其中第一和第二平面基本垂直于彼此。
[0088]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底运送器包括被动门锁，其构造成在失去真空力时将门固持到壳体上。
[0089]根据公开的实施例的一个或多方面，被动门锁包括球形锁销和球形锁栓。
[0090]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底运送系统包括被动门锁，其将门保持到壳体上，其中载体接口构造成释放被动门锁。
[0091]根据公开的实施例的一个或多方面，真空腔室包括至少一个可密封开口，以将真空腔室联接到至少一个衬底处理模块上。
[0092]根据公开的实施例的一个或多方面，载体接口包括吹扫端口，其构造成吹扫在门和载体接口之间的空间和在门和壳体之间的密封件中的至少一个。
[0093]根据公开的实施例的一个或多方面，载体接口为被动接口。
[0094]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底运送器包括壳体，其形成内部环境，用于在第一气氛中容纳至少一个衬底，壳体包括通往内部环境的开口和流体贮存器，流体贮存器形成流体阻隔密封件，流体阻隔密封件具有第二气氛，第二气氛不同于第一气氛且在第一气氛外部，门构造成关闭开口，其中在开口关闭时，壳体构造成保持内部环境内的第一气氛，并且冗余密封组件设置在壳体和门中的至少一个上，冗余密封组件包括至少设置成围绕开口的外周的第一密封件，以及至少第二密封件，其中，第二密封件设置在第一密封件和流体阻隔密封件之间。
[0095]根据公开的实施例的一个或多方面，壳体包括流体贮存器通道，其与流体贮存器连通且设置在第一密封件外侧，衬底运送器进一步包括流体贮存器密封件，其围绕流体贮存器通道的外周设置在外侧。
[0096]根据公开的实施例的一个或多方面，流体贮存器构造成在第一和第二密封件中的一个或多个被破坏时将流体通过流体贮存器通道释放到内部环境中。
[0097]根据公开的实施例的一个或多方面，门利用内部环境的真空力密封到壳体上。
[0098]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底运送器包括被动门锁，其构造成在失去真空力时将门固持到壳体上。
[0099]根据公开的实施例的一个或多方面，被动门锁包括球形锁销和球形锁栓。
[0100]根据公开的实施例的一个或多方面，被动门锁构造成被动地释放。
[0101]根据公开的实施例的一个或多方面，门构造成支持至少一个衬底。
[0102]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底运送器包括壳体，壳体具有:内部环境，内部环境构造成在第一气氛中保持至少一个衬底，第一气氛对于衬底处理气氛是公共的；密封内部环境的门；以及在门和壳体之间的流体阻隔密封件，流体阻隔密封件具有第二气氛，其不同于第一气氛且与第一气氛隔开，其中，外部密封件隔开流体阻隔密封件与壳体外部的外部气氛，而内部密封件隔开流体阻隔密封件与第一气氛，使得空隙存在于流体阻隔密封件和第一气氛之间。
[0103]根据公开的实施例的一个或多方面，提供中间密封件来隔开流体阻隔密封件与内部密封件。
[0104]根据公开的实施例的一个或多方面，流体阻隔密封件包括不同于内部环境且连接到壳体上的流体贮存器，以及流体通道。
[0105]根据公开的实施例的一个或多方面，流体通道将流体贮存器连接到在壳体和门之间的接口上。
[0106]根据公开的实施例的一个或多方面，流体阻隔密封件为加压密封件，其设置在外部气氛和第一气氛之间。
[0107]根据公开的实施例的一个或多方面，处理系统包括衬底处理工具、具有内部环境的受控制环境载体和具有与内部环境不同的气氛的流体阻隔密封件，以及受控制环境接口模块，受控制环境接口模块构造成联接受控制环境载体与衬底处理工具，其中，通过经由受控制环境接口模块将受控制环境载体联接到处理工具上而形成的通路形成清洁隧道。
[0108]根据公开的实施例的一个或多方面，形成于受控制环境接口模块的端口门和受控