形成，例如，可包括聚合单体组合物，该聚合单体组合物包括二丙烯酸酯基单体和三丙烯酸酯基单体。单体组合物可进一步包括单丙烯酸酯基单体。在一个实现方式中，单体组合物可进一步包括适当的光引发剂，例如，三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦(TPO)。
[0069]薄膜封装层E的无机层可以是包括金属氧化物或者金属氮化物的单个层或者许多层。例如，无机层可包括选自SiNx、Al203、Si0#PTi0#的任何一个。薄膜封装层E的暴露于外部的顶层可由无机层形成，以便有助于防止水分侵入OLED 280中。
[0070]在一个实现方式中，薄膜封装层E可包括其中至少一个有机层插入至少两个无机层之间的至少一个夹层结构。在另一个实现方式中，薄膜封装层E可包括其中至少一个无机层插入至少两个有机层之间的至少一个夹层结构。在又一个实现方式中，薄膜封装层E可包括其中至少一个有机层插入至少两个无机层之间的夹层结构以及至少一个无机层插入至少两个有机层之间的夹层结构。
[0071]在一个实现方式中，薄膜封装层E可包括从OLED 280的顶部部分顺序形成的第一无机层、第一有机层和第二无机层。在另一实现方式中，薄膜封装层E可包括从OLED 280的顶部部分顺序形成的第一有机层、第一无机层、第二有机层、第二无机层、第三有机层和第三无机层。在又一实现方式中，薄膜封装层E可包括从OLED 280的顶部部分顺序形成的第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层、第三有机层和第四无机层。
[0072]包括氟化锂(LiF)的卤化金属层可额外地包括在OLED 280与第一无机层之间。在通过溅射法或者等离子体沉积法形成第一无机层期间，卤化金属层可以帮助防止OLED 280受到损坏。第一有机层可小于第二无机层，并且第二有机层可小于第三无机层。
[0073]因为在通过使用掩模组件130制造的显示设备200中可以精细地形成层的图案，所以以上描述的装置100和制造方法可以生产具有高分辨率的显示设备200。另外，当上述的掩模组件130、装置100和制造方法被用来持续地制造多个显示设备200时，显示设备200可被制造为具有相同的质量。
[0074]如上所述，根据一个或多个上述示例性实施方式，掩模组件、用于制造显示设备的装置以及制造显示设备的方法可通过改善的生产效率来表征。在真空沉积装置中，当使用蒸发/沉积技术将薄膜形成在基板上时，用来在基板上形成超高清晰度图案的具有多个开口的掩模插入沉积源和基板之间。然而，早期掩模具有的问题在于沉积材料不仅形成在基板的部分上，而且形成在掩模的部分上，该掩模的部分包括对应于开口的掩模的部分。这可以使掩模开口的大小改变，从而导致基板上的沉积膜的尺寸不正确。
[0075]在本发明的实施方式中，掩模的部分或者掩模的全部所有表面涂敷有具有疏水性的自组装单层膜(SAM)，以防止沉积材料被沉积在掩模上，从而在基板上实现均匀图案。即使沉积材料形成在掩模上，仍能够在不去除SAM层的情况下清洗掩模，并且该掩模在清洗后能够保持良好状况达90天以上。因此，根据本发明的实施方式，生产率、产品收得率和生产量能得到提高，以及沉积在基板上的薄膜的质量也得到提高。
[0076]应当理解，本文描述的示例性实施方式应仅被视为描述意义的，而非用于限制的目的。每个示例性实施方式内的特征或方面的描述通常应被视为可用于其他示例性实施方式中的其他类似特征或方面。
[0077]虽然已经参照附图描述了一个或多个示例性实施方式，但是本领域的普通技术人员应理解，在不背离由以下权利要求所限定的精神和范围的情况下，可在其中做出形式和细节上的各种变化。
【主权项】
1.一种掩模组件，包括: 掩模，包括开口 ；以及 自组装单层膜，涂敷在所述掩模的至少一部分上。2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜包括: 头端，接触所述掩模； 连接器，连接至所述头端；以及 末端，连接至所述连接器。3.根据权利要求2所述的掩模组件，其中，所述头端是亲水的。4.根据权利要求2所述的掩模组件，其中，所述末端是疏水的。5.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜包括选自于由以下各项组成的组中的至少一种材料:十八烷基三氯硅烷、含氟三氯硅烷和二氯二甲基硅烷。6.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜被涂覆在所述开口的内表面的各处。7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜被涂敷在所述掩模的面向沉积源的表面上。8.一种用于制造显示设备的装置，所述装置包括: 腔室； 沉积源，设置在所述腔室内以容纳和发射沉积材料； 掩模，与所述沉积源分离并且包括用来在基板上形成图案的开口， 其中，自组装单层膜被涂敷在所述掩模的至少一部分上。9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述自组装单层膜包括: 头端，接触所述掩模； 连接器，连接至所述头端；以及 末端，连接至所述连接器。10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述头端是亲水的并且所述末端是疏水的。11.根据权利要求8所述的装置，其中，所述自组装单层膜包括选自于由以下各项组成的组中的至少一种材料:十八烷基三氯硅烷、含氟三氯硅烷和二氯二甲基硅烷。12.根据权利要求8所述的装置，其中，所述自组装单层膜被涂覆在所述开口的各处。13.根据权利要求8所述的装置，其中，所述自组装单层膜被涂敷在所述掩模的面向所述沉积源的表面上。14.一种制造显示设备的方法，所述方法包括: 设置包括沉积源的腔室，所述沉积源在内部容纳沉积材料； 将基板和掩模插入所述腔室中，所述掩模介于所述沉积源与所述基板之间，所述掩模包括开口 ； 将所述基板与所述掩模对准；并且 通过加热所述沉积源将所述沉积材料经由所述掩模中的所述开口沉积在所述基板上， 其中，自组装单层膜被涂敷在所述掩模的至少一部分上。15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述自组装单层膜包括: 头端，接触所述掩模； 连接器，连接至所述头端；以及 末端，连接至所述连接器。16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述头端是亲水的并且所述末端是疏水的。17.根据权利要求14所述的方法，其中，所述自组装单层膜包括选自于由以下各项组成的组中的至少一种材料:十八烷基三氯硅烷、含氟三氯硅烷和二氯二甲基硅烷。18.根据权利要求14所述的方法，其中，将所述自组装单层膜涂覆在所述开口的内表面的各处。19.根据权利要求14所述的方法，其中，将所述自组装单层膜涂敷在所述掩模的面向所述沉积源的表面上。20.根据权利要求14所述的方法，其中，通过使用汽相沉积技术将所述自组装单层膜涂敷在所述掩模上。
【专利摘要】提供了一种掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法。掩模组件包括：掩模，该掩模包括具有图案的开口；以及自组装单层膜(SAM)，涂敷在掩模的至少一部分上。
【IPC分类】H01L51/56
【公开号】CN105529408
【申请号】CN201510670931
【发明人】金在植, 成宇镛, 李德重
【申请人】三星显示有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2015年10月15日
【公告号】US20160111681