一种电致发光显示面板、其制作方法及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种电致发光显示面板、其制作方法及显示
目.0
【背景技术】
[0002]目前，有机发光显示器件作为下一代显示与照明技术的主流发展方向，具有主动发光、色域宽、响应快、视角广、对比度高、平面化等优点。为了提高有机发光显示器件的光取出效率，一种方式是内取出，主要是在基板的发光面贴附散射层，或者微透镜膜层，来减少玻璃基板到空气的全反射;一种方式是外取出，在有机发光显不器件内部引入光散射层，如在玻璃基板和透明导电层界面处引入光散射层或光栅结构，以提高光经过此界面时的取出效率。这种现有的提高光取出效率的方式中，由于需要增加膜层，会降低有机发光显示器件的柔性。
【发明内容】
[0003]本发明实施例的目的是提供一种电致发光显示面板、其制作方法及显示装置，用于解决提高有机发光显示器件光取出效率同时提高有机发光显示器件柔性的问题。
[0004]本发明实施例的目的是通过以下技术方案实现的:
[0005]—种电致发光显示面板，包括基板，位于所述基板上的多个有机发光二极管0LED;所述OLED包括位于所述基板上的透明的阳极层，位于所述阳极层上的有机发光结构，和位于所述有机发光结构上的阴极层，所述阴极层为反射层；
[0006]所述基板与所述阳极层的接触面上有与所述有机发光结构对应设置的凹槽结构；
[0007]在所述凹槽结构中设置有透明的填充层；
[0008]所述填充层的上表面与所述基板的上表面位于同一水平面；
[0009]所述填充层的折射率大于所述阳极层的折射率、且与所述基板的折射率不同。
[0010]较佳地，所述凹槽结构在所述基板上的正投影的区域覆盖所述有机发光结构在所述基板上的正投影的区域。
[0011]较佳地，所述凹槽结构在所述基板上的正投影的面积为所述有机发光结构在所述基板上的正投影的面积的I倍至1.5倍。
[0012]较佳地，所述凹槽结构在所述基板上的正投影的形状为圆形、正方形或者长方形。
[0013]较佳地，所述有机发光结构在所述基板上的正投影的形状为正方形；所述凹槽结构在所述基板上的正投影的形状为圆形。
[0014]较佳地，所述有机发光结构在所述基板上的正投影的形状为正方形时的宽度为1um至25um;所述凹槽结构在所述基板上的正投影的形状为圆形时的直径为20um至30umo
[0015]较佳地，所述基板为柔性基板。
[0016]较佳地，所述基板为聚酰亚胺PI基板。
[0017]较佳地，所述凹槽结构的深度不超过所述基板的厚度的2/3。
[0018]较佳地，所述填充层的材料为玻璃胶材料。
[0019]一种显示装置，包括以上任一项所述的电致发光显示面板。
[0020]一种如以上任一项所述的电致发光显示面板的制作方法，该制作方法包括:
[0021 ]在基板上形成凹槽结构；
[0022]在所述凹槽结构中形成填充层；
[0023]在所述填充层上形成与所述凹槽结构对应的阳极层、有机发光结构和阴极层。
[0024]较佳地，在基板上形成凹槽结构，包括:
[0025]在玻璃基板上涂覆PI液形成所述基板；
[0026]在所述填充层上形成与所述凹槽结构对应的阳极层、有机发光结构和阴极层之后，该制作方法还包括:
[0027]将所述基板下方的所述玻璃基板通过激光的方式去除。
[0028]较佳地，在所述凹槽结构上形成填充层，包括:
[0029]在所述凹槽结构中填充玻璃胶并烧结以形成填充层。
[0030]本发明实施例的有益效果如下:
[0031]本发明实施例提供的一种电致发光显示面板、其制作方法及显示装置中，由于基板在其与阳极层的接触面设置有与每个有机发光结构对应的凹槽结构，凹槽结构中设置有透明的填充层，在该凹槽结构的折射作用下，减小了每个有机发光结构发出的光到基板的入射角度，降低了光从阳极层进入基板发生全反射的可能，提高了对每个有机发光结构发出的光的取出效率，从而提高了整体的光取出效率;并且在基板内部设置凹槽结构，填充层的上表面与基板的上表面高度相等，不会增加整体膜层厚度，就不会降低电致发光显示面板的柔性。
【附图说明】
[0032]图1为本发明实施例提供的一种电致发光显示面板的结构示意图；
[0033]图2为本发明实施例提供的一种电致发光显示面板的制作方法的流程图；
[0034]图3为本发明实施例提供的形成基板的工艺流程示意图；
[0035]图4为本发明实施例提供的形成凹槽结构的工艺流程示意图；
[0036]图5为本发明实施例提供的形成填充层的工艺流程示意图；
[0037]图6为本发明实施例提供的形成OLED的工艺流程示意图；
[0038]图7为本发明实施例提供的有机发光结构和凹槽结构的俯视示意图。
【具体实施方式】
[0039]下面结合附图和实施例对本发明提供的一种电致发光显示面板、其制作方法及显示装置进行更详细地说明。附图中各膜层的厚度不代表电致发光显示面板的真实的厚度和比例。
[0040]如图1所示，本发明实施例提供一种电致发光显示面板，包括基板I，位于基板I上的多个0LED2;该0LED2包括位于基板I上的透明的阳极层21，位于阳极层21上的有机发光结构22，和位于有机发光结构22上的阴极层23，阴极层23为反射层；
[0041 ]基板I与阳极层21的接触面上有与有机发光结构22对应设置的凹槽结构3 ；
[0042]在凹槽结构3中设置有透明的填充层4;
[0043]填充层的上表面与基板的上表面位于同一水平面；
[0044]填充层4的折射率大于阳极层21的折射率、且与基板I的折射率不同。
[0045]图1中的箭头示意的是光路走向。
[0046]本发明实施例中，由于基板I在其与阳极层21的接触面设置有与每个有机发光结构22对应的凹槽结构3，凹槽结构3中设置有透明的填充层4，在该凹槽结构3的折射作用下，减小了每个有机发光结构22发出的光到基板I的入射角度，降低了光从阳极层21进入基板I发生全反射的可能，提高了对每个有机发光结构22发出的光的取出效率，从而提高了整体的光取出效率;并且在基板I内部设置凹槽结构3，填充层4的上表面与基板I的上表面高度相等，不会增加整体膜层厚度，就不会降低电致发光显示面板的柔性。
[0047]较佳地，凹槽结构3在基板I上的正投影的区域覆盖有机发光结构22在基板I上的正投影的区域。
[0048]本实施例中，使凹槽结构3在基板I上的正投影大于有机发光结构22在基板I上的正投影，有利于尽可能多的取出每个有机发光结构22发出的光，以提高整体的光取出效率。
[0049]较佳地，凹槽结构3在基板I上的正投影的面积为有机发光结构22在基板I上的正投影的面积的I倍至1.5倍。
[0050]基于以上任意实施例，凹槽结构3的形状有多种，例如，凹槽结构3在基板I上的正投影的形状可以为圆形、正方形或者长方形。
[0051]在一种可能的实施例中，有机发光结构22在基板I上的正投影的形状为正方形；凹槽结构3在基板I上的正投影的形状为圆形。
[0052]较佳地，有机发光结构22在基板I上的正投影的形状为正方形时的宽度为1um至25um ；凹槽结构3在基板I上的正投影的形状为圆形时的直径为20um至30um。
[0053]基于以上任意实施例，较佳地，上述基板I为柔性基板，有利于提高电致发光显示面板的柔性。
[0054]其中，使基板I为柔性基板的材料有多种。例如，上述基板I为聚酰亚胺(Polyimide，PI)基板。