一种聚集离子束的真空系统的制作方法

文档序号:8640402阅读:158来源:国知局
一种聚集离子束的真空系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及设备检测领域,具体涉及一种聚集离子束的真空系统。
【背景技术】
[0002]聚集离子束的机台在使用过程中,每次将样品放到样品室都需要放真空和抽真空两个动作,这两个动作需要花费很长时间,操作效率比较低,同时,分子泵的转速每次在0-48000转/分之间来回运动,这样容易造成真空泵的损坏,经济损失非常大(目前一个真空泵的价格约为30万)。
【实用新型内容】
[0003]鉴于目前聚集离子束的真空系统存在的上述不足,本实用新型提供一种工作效率高、能完全避免分子泵损坏的聚集离子束的真空系统。
[0004]为达到上述目的,本实用新型采用根据下技术方案:
[0005]一种聚集离子束的真空系统,所述真空系统包括真空泵、分子泵、样品室、气缸阀和排气阀,所述真空泵通过管道分别与分子泵、样品室连接,所述样品室安装在分子泵的顶部,所述气缸阀位于分子泵与样品室之间,所述气缸阀与分子泵密封连接,所述排气阀安装在真空泵与样品室之间的管道上。
[0006]依照本实用新型的一个方面,所述真空泵与样品室之间的管道上设有第一阀门,所述排气阀安装在第一阀门与样品室之间的管道上。
[0007]依照本实用新型的一个方面,所述真空系统还包括第二电磁阀,所述第一阀门通过第二电磁阀进行开启与关闭。
[0008]依照本实用新型的一个方面,所述真空泵与分子泵之间的管道上设有第二阀门,所述第二阀门通过第二电磁阀进行开启与关闭。
[0009]依照本实用新型的一个方面,所述排气阀与样品室之间的管道上安装有真空计。
[0010]依照本实用新型的一个方面,所述真空系统还包括第一电磁阀,所述气缸阀通过第一电磁阀进行开启与关闭。
[0011]本实用新型的优点:由于本实用新型的真空系统包括真空泵、分子泵、样品室、气缸阀和排气阀,真空泵通过管道分别与分子泵、样品室连接,样品室安装在分子泵的顶部,气缸阀位于分子泵与样品室之间,排气阀安装在真空泵与样品室之间的管道上,当聚集离子束的机台停止取样品时,将气缸阀关闭,由于气缸阀与分子泵密封连接,可让分子泵始终保持全速运转状态,排气阀打开能快速使样品室处于大气状态,从而轻易取出样品,节省大量时间,当聚集离子束的机台工作时,将气缸阀打开,由于分子泵处于全速运转状态,这样样品室很快就达到一个高度真空状态,避免分子泵从零转速状态快速提升到全速运转状态,大幅提高了分子泵的寿命,所以聚集离子束的真空系统的工作效率高、能完全避免分子泵损坏。
【附图说明】
[0012]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0013]图1为本实用新型的一种聚集离子束的真空系统的示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0015]如图1所示,一种聚集离子束的真空系统,所述真空系统包括真空泵9、分子泵3、样品室1、气缸阀2和排气阀5,真空泵9通过管道8分别与分子泵3、样品室I连接,样品室I安装在分子泵3的顶部,气缸阀2位于分子泵3与样品室I之间,气缸阀2与分子泵3密封连接,排气阀5安装在真空泵9与样品室I之间的管道8上。
[0016]在实际应用中,为了实现真空系统的自动化操作,真空系统设置了第一电磁阀11和第二电磁阀6,真空泵9与样品室I之间的管道8上设有第一阀门7,这样通过第一阀门7可开启或关闭真空泵9与样品室I之间的通道,排气阀5安装在第一阀门7与样品室I之间的管道8上,为了完全实现自动化操作,气缸阀2通过第一电磁阀11进行开启与关闭,第一电磁阀11的工作电压一般选用24V,第一阀门7通过第二电磁阀6进行开启与关闭,第二电磁阀6的工作电压一般选用220V,同理,真空泵9与分子泵3之间的管道8上设有第二阀门10,这样通过第二阀门10可开启或关闭真空泵9与分子泵3之间的通道,第二阀门10也通过第二电磁阀6进行开启与关闭。
[0017]在实际应用中,本实用新型的聚集离子束的真空系统广泛应用到设备检测领域,尤其是芯片检测设备,为了实时检测样品室I的真空度,排气阀5与样品室I之间的管道8上安装有真空计4。
[0018]本实用新型的工作原理:由于本实用新型的真空系统包括真空泵9、分子泵3、样品室1、气缸阀2和排气阀5,真空泵9通过管道8分别与分子泵3、样品室I连接,样品室I安装在分子泵3的顶部,气缸阀2位于分子泵3与样品室I之间,排气阀5安装在真空泵9与样品室I之间的管道8上,为了实现真空系统的自动化控制,真空系统通过第一电磁阀11对气缸阀2进行开启或关闭,当聚集离子束的机台停止取样品时,通过第一电磁阀11将气缸阀2关闭,由于气缸阀2与分子泵3密封连接,可让分子泵3始终保持全速运转状态,排气阀5打开,放入适量的氮气,能快速使样品室I处于大气状态,无须关闭分子泵3和真空泵9,从而轻易取出样品,节省大量时间,当聚集离子束的机台工作时,通过第一电磁阀11将气缸阀2打开,由于分子泵3处于全速运转状态,这样样品室I很快就达到一个高度真空状态,避免分子泵3从零转速状态快速提升到全速运转状态,大幅提高了分子泵3的寿命,所以本实用新型的聚集离子束的真空系统的工作效率高、能完全避免分子泵损坏。
[0019]以上所述,仅为本实用新型的【具体实施方式】,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域技术的技术人员在本实用新型公开的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种聚集离子束的真空系统,其特征在于,所述真空系统包括真空泵、分子泵、样品室、气缸阀和排气阀,所述真空泵通过管道分别与分子泵、样品室连接,所述样品室安装在分子泵的顶部,所述气缸阀位于分子泵与样品室之间,所述气缸阀与分子泵密封连接,所述排气阀安装在真空泵与样品室之间的管道上。
2.根据权利要求1所述的聚集离子束的真空系统,其特征在于,所述真空泵与样品室之间的管道上设有第一阀门,所述排气阀安装在第一阀门与样品室之间的管道上。
3.根据权利要求2所述的聚集离子束的真空系统,其特征在于,所述真空系统还包括第二电磁阀,所述第一阀门通过第二电磁阀进行开启与关闭。
4.根据权利要求3所述的聚集离子束的真空系统,其特征在于,所述真空泵与分子泵之间的管道上设有第二阀门,所述第二阀门通过第二电磁阀进行开启与关闭。
5.根据权利要求1所述的聚集离子束的真空系统,其特征在于,所述排气阀与样品室之间的管道上安装有真空计。
6.根据权利要求1至5任一所述的聚集离子束的真空系统,其特征在于,所述真空系统还包括第一电磁阀,所述气缸阀通过第一电磁阀进行开启与关闭。
【专利摘要】本实用新型公开了一种聚集离子束的真空系统,所述真空系统包括真空泵、分子泵、样品室、气缸阀和排气阀,所述真空泵通过管道分别与分子泵、样品室连接,所述样品室安装在分子泵的顶部,所述气缸阀位于分子泵与样品室之间,所述气缸阀与分子泵密封连接,所述排气阀安装在真空泵与样品室之间的管道上。本实用新型提供的聚集离子束的真空系统的工作效率高、能完全避免分子泵损坏。
【IPC分类】H01J41-12
【公开号】CN204348679
【申请号】CN201420872273
【发明人】尚跃, 余夕霞
【申请人】上海聚跃电子科技有限公司
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2014年12月27日
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