一种锂离子电池隔膜及其电池的制作方法

文档序号:8999084阅读:157来源:国知局
一种锂离子电池隔膜及其电池的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及锂离子电池技术领域,尤其是一种锂离子电池隔膜及其电池。
【背景技术】
[0002]现有锂离子电池依靠仅有的正极片、负极片、隔膜进行饱液量,致使电池循环寿命提不上来;现对放形锂离子电池需进行二次注液造成原材料成本、制程人员增加、电池电性能循环集聚衰减。电池壳体内无电解液储存,电池在循环过程中极片锂化,造成电池电性能差。
【实用新型内容】
[0003]针对上述现有技术的不足,本实用新型的目的之一是提供一种锂离子电池隔膜,该隔膜不仅可以起到隔离的作用,同时还能储存电解液,从而改善电池的电性能。
[0004]本实用新型的目的之二是提供了使用该隔膜的锂离子电池。
[0005]为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
[0006]一种锂离子电池隔膜,包括基膜层,所述基膜层的一侧涂覆带有凹痕的涂覆层。其中基膜层为常规锂离子电池用基膜层(聚乙烯,聚丙烯,聚乙烯、聚丙烯等),涂覆层可为陶瓷、PVDF、HVF混聚物。
[0007]较佳地,所述基膜层的另一侧也涂覆带有凹痕的涂覆层。
[0008]较佳地,所述凹痕呈米字形状均匀排布在所述涂覆层上。
[0009]较佳地,所述凹痕呈雪花形状均匀排布在所述涂覆层上。
[0010]较佳地,所述凹痕呈网格状均匀排布在所述涂覆层上。
[0011]一种锂离子电池,包括正负极片、活性物质和极耳,还包所述的隔膜。
[0012]本实用新型包括基膜层,所述基膜层的一侧涂覆带有凹痕的涂覆层,其中涂覆层包含正常涂覆隔膜,聚乙烯,聚丙烯,聚乙烯、聚丙烯作为原材料基材,其中所述涂覆隔膜可为陶瓷、PVDF、HVF混聚物;将陶瓷、PVDF、HVF混聚物呈凹痕状(米字、雪花状或网格状)分布基材上,从而电池吸液过程中,涂层上的凹痕有利于电解液储存在其内,相对于微孔状结构直线型的结构使得电解液在应力作用下更便于其存储和释放,电池在循环过程中有利于电解液充分与电池极片吸收,进一步提升电池循环性能的寿命。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型实施例1中涂覆层的结构示意图,
[0014]图2为本实用新型实施例2中涂覆层的结构示意图,
[0015]图3为本实用新型实施例3中涂覆层的结构示意图,
[0016]图4为本实用新型隔膜的结构示意图。
【具体实施方式】
[0017]下面将结合本实用新型实施例的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0018]实施例1
[0019]—种锂离子电池隔膜,见图1,包括基膜层I (聚乙烯,聚丙烯,聚乙烯、聚丙烯等),基膜层的一侧涂覆2带有米字形状凹痕21的陶瓷、PVDF、HVF混聚物。对于多层结构,基膜层的另一侧也可以涂覆带有凹痕的涂覆层。在后续与电芯极片进行组装吸液过程中,部分电解液被吸入凹痕内存储下来,电池在循环过程中有利于电解液充分与电池极片吸收。
[0020]实施例2
[0021]—种锂离子电池隔膜,见图2,包括基膜层I (聚乙烯,聚丙烯,聚乙烯、聚丙烯等),基膜层的一侧涂覆2带有雪花形状凹痕21的陶瓷、PVDF, HVF混聚物。
[0022]实施例3
[0023]—种锂离子电池隔膜,见图3,包括基膜层I (聚乙烯,聚丙烯,聚乙烯、聚丙烯等),基膜层的一侧涂覆2带有网格形状凹痕21的陶瓷、PVDF, HVF混聚物。
[0024]以上所揭露的仅为本实用新型的优选实施例而已,当然不能以此来限定本实用新型之权利范围,因此依本实用新型申请专利范围所做的等同变化,仍属本实用新型所涵盖的范围。
【主权项】
1.一种锂离子电池隔膜,包括基膜层,其特征在于,所述基膜层的一侧涂覆带有凹痕的涂覆层。2.如权利要求1所述的锂离子电池隔膜,其特征在于:所述基膜层的另一侧也涂覆带有凹痕的涂覆层。3.如权利要求1或2所述的锂离子电池隔膜,其特征在于:所述凹痕呈米字形状均匀排布在所述涂覆层上。4.如权利要求1或2所述的锂离子电池隔膜,其特征在于:所述凹痕呈雪花形状均匀排布在所述涂覆层上。5.如权利要求1或2所述的锂离子电池隔膜,其特征在于:所述凹痕呈网格状均匀排布在所述涂覆层上。6.—种锂离子电池,包括正负极片、活性物质和极耳;其特征在于:还包括权利要求1-5中任意一项所述的隔膜。
【专利摘要】本实用新型涉及锂离子电池技术领域,具体公开了一种锂离子电池隔膜及其电池;本实用新型包括基膜层,基膜层的一侧涂覆带有凹痕的涂覆层;本实用新型在电池吸液过程中,涂层上的凹痕有利于电解液储存,电池在循环过程中有利于电解液充分与电池极片吸收,进一步提升电池循环性能的寿命。
【IPC分类】H01M2/18, H01M2/16
【公开号】CN204651377
【申请号】CN201520216068
【发明人】张晓晓, 周亮
【申请人】东莞市金耐尔能源科技有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年4月10日
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