一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，属于半导体制造技术领域。
【背景技术】
[0002]半导体设备在使用中产生振动，腔体在支撑件上产生不稳定状态，容易造成腔体中反应气体分布不均，从而造成等离子分布的不均匀。另外，倾斜的腔体也会对机械手传送晶圆造成干扰，导致机械故障等问题发生，会降低半导体处理制程的良率。基于以上分析，半导体设备在使用时，腔体需要保持水平和固定。这样设备在运行时才能不改变腔体的状态，保证设备持续运行稳定，实现半导体产品的稳定生产。因此，需要设计一种新型的机架结构，保持腔体的稳定。
【发明内容】
[0003]本实用新型以解决上述问题为目的，提供一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，通过具有加固条和支撑座的长方体全钢框架实现半导体等离子体反应腔体的水平度和稳定度，并且整个机架内部整齐美观，方便检查和维修。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用下述技术方案:
[0005]—种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，所述机架装置安装于反应腔室的正下方，该机架装置包括机架本体，走线槽，加固条，载物平台，支撑座与滑轮；所述机架本体上设有走线槽，机架本体的两个侧面分别安装一根加固条，增加机架本体的称重能力和稳定性；所述载物平台固定在所述机架本体的下表面，机架本体的底部还设有滑轮与支撑座。
[0006]进一步地，所述机架本体为长方体钢质框架。
[0007]进一步地，所述机架本体与反应腔室通过螺丝相连接。
[0008]进一步地，所述载物平台为两个。
[0009]进一步地，所述支撑座的高度可调节。
[0010]本实用新型的有益效果是:
[0011]本实用新型的机架装置为长方体全钢框架，有较好的承重性。机架上表面与反应腔体通过螺丝相连，可更换不同反应腔体。机架侧面分别设有一根加固条，增加机架的承重能力和稳定性。机架下表面有四个滑轮和四个支撑座以及两个载物平台，滑轮起到移动机架的作用，可调节支撑座起到调整腔体水平，并固定机架的作用，载物平台可放置电气箱等装置。机架的框架上设有走线槽，利于各种电线的排布。通过具有加固条和支撑座的长方体全钢框架实现半导体等离子体反应腔体的水平度和稳定度。并且整个机架内部整齐美观，方便检查和维修。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型的机架装置的示意图；
[0013]图2为图1的仰视图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合实施例进一步对本实用新型进行详细说明，但发明保护内容不局限于所述实施例:
[0015]实施例1
[0016]参照图1-2，一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，所述机架装置安装于反应腔室的正下方，该机架装置包括机架本体1，走线槽2，加固条3，载物平台4，支撑座5与滑轮6 ;所述机架本体1上设有走线槽2，机架本体1的两个侧面分别安装一根加固条2，增加机架本体1的称重能力和稳定性；所述载物平台4固定在所述机架本体1的下表面，机架本体1的底部还设有滑轮6与支撑座5。
[0017]所述机架本体1为长方体钢质框架。
[0018]所述机架本体1与反应腔室通过螺丝相连接。
[0019]所述载物平台4为两个。
[0020]所述支撑座5的高度可调节。
[0021]安装时，将机架本体1与反应腔体通过螺丝将二者相连接，通过滑轮6将机架本体1移动至预定位置，锁死滑轮，避免机架移动，通过调节支撑座的高度并配合使用水平仪来调整机架和反应腔体的水平度，将两个电气箱分别放置于机架下方的载物台4上，将所引出的电线通过走线槽2与反应腔体相连。整个机架内部整齐美观，方便检查和维修。
【主权项】
1.一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，所述机架装置安装于反应腔室的正下方，其特征在于，该机架装置包括机架本体，走线槽，加固条，载物平台，支撑座与滑轮；所述机架本体上设有走线槽，机架本体的两个侧面分别安装一根加固条，增加机架本体的称重能力和稳定性；所述载物平台固定在所述机架本体的下表面，机架本体的底部还设有滑轮与支撑座。2.如权利要求1所述的一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，其特征在于，所述机架本体为长方体钢质框架。3.如权利要求1所述的一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，其特征在于，所述机架本体与反应腔室通过螺丝相连接。4.如权利要求1所述的一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，其特征在于，所述载物平台为两个。5.如权利要求1所述的一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，其特征在于，所述支撑座的高度可调节。
【专利摘要】一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，主要解决现有反应腔体在支撑件上安装不稳定等问题，本实用新型提供一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置，所述机架装置安装于反应腔室的正下方，该机架装置包括机架本体，走线槽，加固条，载物平台，支撑座与滑轮。本实用新型整个机架内部整齐美观，方便检查和维修，并且保证了反应腔体的稳定。
【IPC分类】H01J37/32, H01L21/67
【公开号】CN205081100
【申请号】CN201520818106
【发明人】续震, 王晓晨
【申请人】沈阳拓荆科技有限公司
【公开日】2016年3月9日
【申请日】2015年10月21日