1.一种等离子表面处理装置,其特征在于,包括等离子发生器套管、电极和喷嘴,所述等离子发生器套管内包括容置腔,所述电极设置于所述容置腔内;所述喷嘴设置于所述容置腔的腔口处;所述喷嘴上设置有连通容置腔与外界的通槽,所述通槽包括朝向容置腔的内槽口和朝向外界的外槽口,所述外槽口包括相连通的条形缝隙和柱形通孔,条形缝隙与柱形通孔相平行且均沿垂直于通槽深度的方向贯穿喷嘴。
2.如权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述条形缝隙位于所述喷嘴的最外侧,所述柱形通孔设置于所述条形缝隙的内侧。
3.如权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述柱形通孔为圆柱形。
4.如权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述柱形通孔的内径大于所述条形缝隙的宽度。
5.如权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,还包括喷嘴保护套,所述喷嘴保护套的顶端套设于所述容置腔的腔口内;所述喷嘴套设于所述喷嘴保护套内。
6.如权利要求5所述的等离子表面处理装置,其特征在于,还包括喷嘴紧压指环,所述喷嘴保护套的顶端包括两层台阶面,所述容置腔的腔口设置有止挡部,所述喷嘴紧压指环夹设于上层台阶面与所述止挡部之间,所述喷嘴设置于所述下层台阶面与喷嘴紧压指环之间。
7.如权利要求5所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述喷嘴保护套与所述等离子发生器套管通过螺丝连接。
8.如权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述内槽口的面积大于所述外槽口的面积。
9.如权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,还包括旋转驱动装置,所述旋转驱动装置连接于所述喷嘴。