其中，所述银层3的厚度为10纳米，所述第一氧化锌层和第二氧化锌层的厚度均为20纳米，所述透光玻璃基材I的厚度为3.2毫米，所述孔洞5的直径为300纳米。
[0032]孔洞5在银层3均匀分散，各孔洞5中心平均间距为500纳米。
[0033]为增加透光基材镀膜后的近红外光反射率，增加隔热功能，在透光玻璃基材I表面可叠加镀覆多组透光低辐射膜层结构。如图3所示，在透光玻璃基材I表面叠加镀覆了两组透光低辐射膜层结构。叠加后两组透光低辐射膜层结构相邻银层间氧化锌层厚度为40纳米。
[0034]所述透光低辐射膜层结构的制备方法，如图4所示，包括如下步骤:
[0035]S 1、采用磁控溅射的方法在透光玻璃基材I表面沉积第一氧化锌层2，该氧化锌层的厚度为20纳米；
[0036]S 2、利用氧化锌等电点比较高的特点，用静电吸附方法通过浸渍镀膜工艺在第一氧化锌层2表面吸附一层单分散微球6 ;所述单分散微球6的材料可为聚苯乙烯或二氧化硅；所述单分散微球6的直径为100?500纳米；
[0037]静电吸附-浸渍镀膜的工艺，可参照申请号201110141276.8的中国发明专利中所公开的技术方案；
[0038]S 3、在第一氧化锌层2表面再进行磁控溅射镀银，形成银层3，银层的厚度为10纳米；然后通过擦拭清洗去除所有单分散微球6，得到具有分散孔洞的银层3 ;
[0039]S 4、在银层表面再进行磁控溅射镀覆第二氧化锌层4，完成制备，得到透光低辐射膜层结构。
[0040]S 5、若在透光玻璃基材I上镀覆多组透光低辐射膜层结构，可在已镀覆的氧化锌层表面继续依次重复步骤S 2至S 4的操作，形成双组及三组以上透光低辐射膜层结构。
[0041]透光玻璃基材可替换选用光学性能相近的透光晶体基材或透光高分子有机化合物基材；
[0042]银层3可替换选用金层、铜层；氧化锌层可替换选用其它电介质膜层，包括氮化物层、金属氧化物层或掺杂金属氧化物层。具体包括氮化钛、氮化锆、氮化铪或氮化硅，二氧化钛、氧化铟或二氧化锡，铝掺杂氧化锌、铟掺杂氧化锌、镓掺杂氧化锌或锡掺杂氧化铟。
[0043]通过有限时域差分法(FDTD)光学计算模拟，对本实用新型所述的透光低辐射膜层结构与普通的无孔洞的银层低辐射膜层结构进行透光率分析比较，模拟测试样品包括:
[0044]1、玻璃原片，厚度3.2毫米；
[0045]2、传统单银膜层玻璃，包括厚度3.2毫米的玻璃基材，玻璃基材表面依次镀覆20纳米厚度底层氧化锌膜、10纳米厚度银膜及20纳米厚度顶层氧化锌膜，银膜不开设孔洞；
[0046]3、传统双银膜层玻璃，包括厚度3.2毫米的玻璃基材，玻璃基材表面依次镀覆20纳米厚度底层氧化锌膜、10纳米厚度第一银膜、40纳米厚度中间氧化锌膜、10纳米厚度第二银膜及20纳米厚度顶层氧化锌膜；
[0047]4、传统三银膜层玻璃，包括厚度3.2毫米的玻璃基材，玻璃基材表面依次镀覆20纳米厚度第一氧化锌膜、10纳米厚度第一银膜、40纳米厚度第二氧化锌膜、10纳米厚度第二银膜、40纳米厚度第三氧化锌膜、10纳米厚度第三银膜及20纳米厚度第四氧化锌膜；
[0048]5、有孔洞单银膜层玻璃，采用本实用新型所述透光低辐射膜层结构镀覆于玻璃基材，包括厚度3.2毫米的玻璃基材，玻璃基材表面依次镀覆20纳米厚度底层氧化锌膜、10纳米厚度银膜及20纳米厚度顶层氧化锌膜；银膜开设若干直径300纳米的孔洞，各孔洞中心平均间距为500纳米；
[0049]6、有孔洞双银膜层玻璃，采用本实用新型所述透光低辐射膜层结构镀覆于玻璃基材，包括厚度3.2毫米的玻璃基材，玻璃基材表面依次镀覆20纳米厚度底层氧化锌膜、10纳米厚度第一银膜、40纳米厚度中间氧化锌膜、10纳米厚度第二银膜及20纳米厚度顶层氧化锌膜；各银膜开设若干直径300纳米的孔洞，各孔洞中心平均间距为500纳米；
[0050]7、有孔洞四银膜层玻璃，采用本实用新型所述透光低辐射膜层结构镀覆于玻璃基材，包括厚度3.2毫米的玻璃基材，玻璃基材表面依次镀覆20纳米厚度第一氧化锌膜、10纳米厚度第一银膜、40纳米厚度第二氧化锌膜、10纳米厚度第二银膜、40纳米厚度第三氧化锌膜、10纳米厚度第三银膜、20纳米厚度第四氧化锌膜、10纳米厚度第四银膜及20纳米厚度第五氧化锌膜，各银膜开设若干直径300纳米的孔洞，各孔洞中心平均间距为500纳米；
[0051]8、有孔洞五银膜层玻璃，采用本实用新型所述透光低辐射膜层结构镀覆于玻璃基材，包括厚度3.2毫米的玻璃基材，玻璃基材表面依次镀覆20纳米厚度第一氧化锌膜、10纳米厚度第一银膜、40纳米厚度第二氧化锌膜、10纳米厚度第二银膜、40纳米厚度第三氧化锌膜、10纳米厚度第三银膜、20纳米厚度第四氧化锌膜、10纳米厚度第四银膜、20纳米厚度第五氧化锌膜、10纳米厚度第五银膜及20纳米厚度第六氧化锌膜，各银膜开设若干直径300纳米的孔洞，各孔洞中心平均间距为500纳米。
[0052]从有限时域差分法光学计算模拟结果可知，同等银膜数量及层数情况下，有孔洞单银膜层玻璃和有孔洞双银膜层玻璃比传统单银膜层玻璃和传统双银膜层玻璃在可见光波长段透过率更高，且在近红外光波长段的透过率不会提高；而有孔洞四银膜层玻璃和有孔洞五银膜层玻璃比传统多银膜层玻璃可以在保持极低的近红外光透过率的同时实现更高的可见光透过率。结果表明，采用本实用新型所述透光低辐射膜层结构镀覆于透光基材上比传统银膜结构组合具有更低的遮蔽系数。
[0053]此外，本实用新型所述透光低辐射膜层结构的制备方法采用的是离线镀膜方式，因此可使用钢化玻璃原片等增强透光基材，满足建筑安全及其他设备安全标准要求。
【主权项】
1.一种透光低辐射膜层结构，所述透光低辐射膜层结构镀覆于透光基材表面，所述透光低辐射膜层结构包括贵金属膜层、第一电介质膜层和第二电介质膜层，所述贵金属膜层下表面镀覆第一电介质膜层，所述贵金属膜层上表面镀覆第二电介质膜层，其特征在于:所述贵金属膜层分散开设有若干孔洞。2.根据权利要求1所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于:所述孔洞的孔径小于500纳米。3.根据权利要求2所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于:所述孔洞的孔径为100?500纳米。4.根据权利要求1所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于:所述透光基材为透光玻璃材料、透光晶体材料或透光高分子有机化合物材料；所述第一电介质膜层和第二电介质膜层相同或不同地为氮化物层或金属氧化物层；所述贵金属膜层为银层、金层或铜层。5.根据权利要求4所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于:所述氮化物为氮化钛、氮化锆、氮化铪或氮化硅；所述金属氧化物为氧化锌、二氧化钛、氧化铟或二氧化锡。6.根据权利要求1或2所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于:所述第一电介质膜层的厚度为10?100纳米，所述贵金属膜层的厚度为I?50纳米，第二电介质膜层的厚度为10?100纳米。
【专利摘要】本实用新型属于环保节能技术领域，公开了一种透光低辐射膜层结构。所述透光低辐射膜层结构镀覆于透光基材表面，所述透光低辐射膜层结构包括贵金属膜层、第一电介质膜层和第二电介质膜层，所述贵金属膜层下表面镀覆第一电介质膜层，所述贵金属膜层上表面镀覆第二电介质膜层，其中，所述贵金属膜层分散开设有若干孔洞。本实用新型所述透光低辐射膜层结构在取得较高可见光透过率的同时可获得更低的近红外光透过率，也同时提高近红外光反射率。
【IPC分类】B32B15/04, B32B17/06, B32B3/24, B32B9/00, B32B3/22
【公开号】CN204869851
【申请号】CN201520367163
【发明人】王洋
【申请人】惠州易晖能源科技股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年6月1日