1.一种用于使用激光处理内皮层(17)的非侵入性装置(10)，所述装置(10)包括：
-光源(20)和相关联的光学系统(12)，用于生成沿着所述装置(10)的处理光轴(13)的激光处理射束(22)的脉冲，所述光源(20)和所述光学系统(12)被配置并布置成在所述激光处理射束(22)的横截面内提供：
-被布置在所述横截面的外周处的非零光强度的第一射束区(22a，122a)和第二射束区(22b，122b)，和
-被布置在所述第一射束区(22a，122a)与所述第二射束区(22b，122b)之间的、光强度比所述非零光强度低的第三射束区(22c，122c)；
所述光学系统(12)被进一步配置并布置成：
-在使用中将所述处理激光束(22)聚焦至在所述内皮层(17)中的被布置在所述处理光轴(13)上的焦斑(25)；
-在使用中将所述第一射束区(22a，122a)和所述第二射束区(22b，122b)沿着所述处理光轴(13)引导穿过外皮层(16)至所述焦斑(25)，由此所述第一射束区(22a，122a)和所述第二射束区(22b，122b)分别穿过所述外皮层(16)中的第一皮肤区(23a)和第二皮肤区(23b)；
其中所述第三射束区(22c，122c)的范围被预定和/或被控制成提供在所述外皮层(16)中的被布置在所述第一皮肤区(23a)与所述第二皮肤区(23b)之间的相应的第三皮肤区(23c)，
其中所述第三射束区的较低光强度被预定和/或被控制成提供在所述第三皮肤区(23c)内的在所述激光处理射束的所述脉冲期间的最大温度，其比在所述第一皮肤区(23a)和所述第二皮肤区(23b)内的在所述激光处理射束的脉冲期间的最大温度低；以及
其中所述光源(20)被配置并布置成在使用中提供比所述第一皮 肤区(23a)和所述第二皮肤区(23b)的热驰豫时间长的所述激光处理射束的脉冲的脉冲持续时间。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述光源(20)或光学系统(12)包括被配置并布置成提供所述第一射束区、所述第二射束区和所述第三射束区的至少一个光学元件，并且其中所述光学元件是中央掩模、环孔、空间光调制器(SLM)、衍射光学元件(DOE)、相位掩模、螺旋波片、漩涡波片、叉型全息图、Q板或圆柱形模式转换器。
3.根据权利要求1所述的装置，其中所述光学系统(12)被进一步配置并布置成在使用中将所述处理激光射束(22)聚焦至被布置在真皮(17)中的焦斑(25)，并且在使用中将所述第一射束区(22a，122a)和所述第二射束区(22b，122b)沿着所述处理光轴(13)引导穿过所述外皮层(16)至所述焦斑(25)，由此所述第一皮肤区(23a)和所述第二皮肤区(23b)被布置在角质层、表皮或皮肤表层中。
4.根据权利要求1所述的装置，其中所述光源(20)被配置并布置成在使用中提供比所述外皮层(16)的热弛豫时间长并且比所述内皮层(17)的热弛豫时间短的所述激光处理射束的脉冲的脉冲持续时间。
5.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一射束区(22a，122a)、所述第二射束区(22b，122b)和所述第三射束区(22c，122c)被配置成提供具有大于或等于所述外皮层(16)在所述脉冲持续时间时的热穿透深度的截面范围的第三皮肤区(23c)。
6.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一射束区(22a)和所述第二射束区(22b)是连续的并且形成非零光强度的环形区的一部分，所述第三射束区(22c)被配置成形成较低光强度的中央区，并且其中所述较低光强度的中央区由非零光强度的所述环形区围住。
7.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一射束区(122a)和所述第二射束区(122b)是非连续的，并且所述第三射束区(122c)被配置成在所述激光处理射束(122)的横截面内将所述第一射束区(122a)和所述第二射束区(122b)在其边界的整个长度上分开。
8.一种使用用于生成激光的装置(10)处理内皮层(17)的非侵入性方法，所述装置(10)包括用于生成沿着所述装置(10)的处理光轴(13)的激光处理射束(22)的脉冲的光源(20)和相关联的光学系统(12)，所述方法包括：
-生成具有横截面的所述激光处理射束(22)，所述横截面包括：
-被布置在所述横截面的外周处的非零光强度的第一射束区(22a)和第二射束区(22b)，和
-被布置在所述第一射束区(22a)与所述第二射束区(22b)之间的、光强度比所述非零光强度低的第三射束区(22c)；
-使用所述光学系统(12)将所述处理激光射束(22)聚焦至在所述内皮层(17)中被布置在所述处理光轴(13)上的焦斑(25)；
-将所述第一射束区(22a)和所述第二射束区(22b)沿着所述处理光轴(13)引导穿过外皮层(16)至所述焦斑(25)，其中所述第一射束区(22a)和所述第二射束区(22b)分别穿过所述外皮层(16)中的第一皮肤区(23a)和第二皮肤区(23b)；
-将所述第三射束区(22c)的范围预定和/或控制成提供在所述外皮层(16)中的被布置在所述第一皮肤区(23a)与所述第二皮肤区(23b)之间的相应的第三皮肤区(23c)，
-将所述第三射束区的较低光强度预定和/或控制成提供在所述第三皮肤区(23c)内的在所述激光处理射束的所述脉冲期间的最大温度，其比在所述第一皮肤区(23a)和所述第二皮肤区(23b)内的在所述激光处理射束的脉冲期间的最大温度低；和
-将所述光源(20)配置并布置成在使用中提供比所述第一皮肤区(23a)和所述第二皮肤区(23b)的热驰豫时间长的所述激光处理射束的脉冲的脉冲持续时间。
9.一种根据权利要求1至7中的任一项所述的装置在皮肤的处理中的使用，特别是用于非侵入性地减少皮肤中的褶皱、光化性角化、疤痕组织或痤疮、以及减少色斑。