专利名称：基底清洁装置的制作方法
基底清洁装置才支术领域本发明涉及一种基底清洁装置，尤其涉及这样的 一种基底清洁装 置，其能够将基底相对于垂直轴线以预定的倾斜角度牢固地安装好后， 通过上下移动刷子和超纯水喷嘴，以执行清洁处理去除附着在基底的 上下表面的杂质。
背景技术：
通常，在用于半导体器件、笔记本计算机等的电子设备(例如液 晶显示屏等)领域中，用于去除附着在半导体基底或玻璃基底表面(其 为处理的对象)上的、粘住的杂质等的清洁设备在制造半导体基底或 玻璃基底的处理中是必要的。代表性的用于执行清洁处理的清洁设备是水平类型的清洁设备，包括喷头(shower nozzle)以及位于其上部和下部的基底清洁刷。输 送装置相对于基底移动喷头和基底清洁刷，从而使得喷头将水注射到 基底的上下表面，并操作基底清洁刷去除附着在基底上的杂质。如上所述的水平类型的清洁设备的有利之处在于，它能够很好地 去除精微的有机杂质等，并在玻璃表面干燥后不会产生污点，这是因 为有足够多的水保留在基底上。然而，这种水平类型的清洁设备存在 的问题在于，这种清洁设备的体积和和需要的安装位置较大。此外，传统的水平类型的清洁设备还存在的 一个问题是生产成本高。此外，在使用传统的水平类型的清洁设备时存在的问题还在于， 由于输送长度增加，因此在基底直接移动时，会在基底的上下表面产 生例如擦伤等的损坏，并且基底破损的风险较高。此外，这种水平类型的清洁设备还具有的一个问题在于，基底清 洁刷在清洁基底时通过基底不超过一次，因此降低了清洁效率
发明内容
因此，针对现有技术中存在的上述问题而提出本发明，其目的在 于提供这样的一种基底清洁设备，其能够在将基底相对于垂直轴线以 预定的倾斜角度牢固地安装好后，通过上下移动刷于和超纯水喷嘴， 以执行清洁处理去除附着在基底的上下表面的杂质。为了实现上述目的，根据本发明的一个实施方案，提供了这样一种基底清洁设备，包括工作台，具有线性移动导引部分以及多个支撑销，所述线性移动 导引部分设置在所述工作台的两端，所述支撑销以栅格的形状设置为 相互间隔预定的间隔，从而使得它们能够被以向前或向后的方向驱动， 并用于支撑置于其前方的要被清洁的基底，所述工作台适于允许所述 基底以相对于垂直轴线的预定的倾斜角度牢固地安装在其上；清洁单元，用于在沿着所述线性移动导引部分上下移动时，清洁 牢固地安装在所述工作台上的所述基底的上下表面；防干超纯水供应单元，以能够被上下移动的方式设置在所述清洁 单元的前端和后端；以及控制设备，用于控制整个系统，从而使得能够通过所述清洁单元 和所述防干超纯水供应单元对所述基底进行清洁。
在参照相应的附图对本发明的优选实施方式进行描述后，本发明 的上述和其他目的、特征以及有益效果将变得显而易见，其中 图1为用于说明根据本发明的基底清洁设备的构造的视图； 图2为图1的后试图； 图3为图1的前^L图； 图4为图1的平面图； 图5为图1的侧一见图；图6为应用于图1上的上升/下降单元的平面图；以及图7为用于说明应用于图1中的支撑销的搡作状态的放大图。
具体实施方式
下面将详细描述根据本发明构造的基底清洁设备。如图l和2所示，根据本发明的基底清洁设备包括工作台15， 工作台15具有线性移动导引部分IO以及多个支撑销12,线性移动导 引部分IO设置在工作台15的两端，支撑销12以栅格的形状设置为相 互间隔预定的间隔，从而使得它们能够以向前或向后的方向被驱动， 以支撑置于其前方的要被清洁的基底40，工作台适于允许基底以相对 于垂直轴线的预定的倾斜角度牢固地安装在其上；清洁单元，用于在 沿着线性移动导引部分10上下移动时，清洁被牢固地安装在工作台 15上的基底40的上下表面；防干超纯水供应单元18,以能够被上下 移动的方式设置在所述清洁单元的前端和后端；以及控制设备20，用 于控制整个系统，从而使得能够通过清洁单元和防干超纯水供应单元 对基底进行清洁。工作台15的倾斜角度被设置为84°到86°。当倾斜角度为90°时， 会使得基底40与工作台15分开，如果倾斜角度小于上述角度，则从 工作台15运送基底40是不方便的。基底清洁设备100在支撑销12之间设置有至少一个或多个超纯水 喷嘴ll，以此提高对基底的清洁能力。清洁单元包括上升/下降单元55，设置有滚动刷22和位于滚动 刷22上方和下方的多个超纯水喷嘴24、 38;牢固地耦合到工作台15 的下端框架、以使得上升/下降单元55上下移动的滑轮28;定时控制 装置30，其一端耦合到滑轮28;配重32，用于控制与上升/下降单元 55连接的线的张力，从而最小化上升/下降单元55的栽荷；电机34， 其位置与滑轮28成线性关系，并设置有驱动轴，驱动轴能够使基底 40从最高点到最低点上下移动，从而使电机34能够通过从外界施加 的驱动电流而以向前、后的方向转动；以及功率传输装置36，其一端 连接到驱动轴，而另一端连接到滑轮28，以改变电机34的旋转方向， 从而使得滑轮28能够根据电机40的旋转速度旋转。定时控制装置30包括带或链等。滚动刷22设置有单独的驱动电机，并可被操作，以通过刷子的旋 转力，和由于与基底40的上下表面直接接触而产生的物理摩擦力，去 除附着到基底40上下表面的杂质和残留材料。滚动刷22还设置有杆 状的细软毛，并净皮制成直径为65mm的杆，滚动刷22由直径为O.lmm 的软毛和尼龙612材料制成，从而能够以300RPM的速度3走转，以清 洁基底40。防干超纯水供应单元18设置有位置检测传感器60，用于将位置 检测传感器60检测到的位置信息传送到控制设备20，控制设备20根 据位置检测传感器60输入的信息控制支撑销12以向后的方向驱动， 以使得清洁单元通过，并在清洁单元通过后，控制支撑销12以向前的 方向驱动，以此支撑所述基底。如图7所示，支撑销12包括柱状体14以及帽13。柱状体14的 一侧被固定到支撑销固定单元70，并通过支撑销驱动电机(未示出) 以向前或向后的方向驱动。帽13对偶地设置，从而使得柱状体14不 会受到清洁化学品等的影响。支撑销12由PEEK制成，其为一种具有 高温属性和耐酸性能的热塑性塑料，在清洁时能够抵抗化学品的腐蚀， 并且其末端是光滑的，因此在其支撑基底时不会影响基底。在清洁单元的上升/下降单元55从上侧移动到下侧，从而在基底 下侧完成清洗过程时，控制设备20控制滚动刷22和超纯水喷嘴11、 24和38与上升/下降单元55 —起从下侧到上侧移动。如图3所示，在如上所构造的基底清洁设备IOO的下端设置有轮 子，以通过很小的力就能够将设备IOO推到期望的位置。下面将描述如上所构造的清洁设备的操作。首先，当工作人员将要被清洁的玻璃基底40运栽到工作台15时， 支撑销12将基底40支撑为具有预定的倾斜角度，从而将基底40设置 在工作台15上。当如上所述做好工作准备时，工作人员向控制设备 20输入开始工作的命令。在这种情况下，通过连接到控制设备的开始 按钮或类似部件执4于工作开始命令。当如上所述地向控制设备20输入开始工作的命令时，控制设备 20被操作以驱动与支撑销12连接的电机，从而使得支撑销12能够以 前或后的方向移动，并且清洁单元的上升/下降单元55能够以上下方
向移动。此外，控制设备20被操作以驱动超纯水喷嘴24、 38和防干超纯 水供应单元18，向基底40的上和下部分施加超纯水。当完成如上所述的设置时，控制设备20旋转电机34，从而使得 上升/下降单元55能够在底侧移动。接着，电机34的旋转力被传递到 滑轮28，滑轮28根据旋转力驱动定时控制装置30，以使得上升/下降 单元55在底侧移动。在这种情况下，驱动防干超纯水供应单元18的 超纯水喷嘴24和38，以使得向基底40的上和下部分施加超纯净的水。响应于从位置检测传感器60输入的位置检测信号，控制设备20 4企测到正向下部分移动的上升/下降单元55的当前位置，并以向后的 方向驱动支撑销12，从而使得上升/下降单元55能够没有任何干扰地 在底侧被驱动，并执行工作开始命令。此外，在上升/下降单元55通过预定的区域后，控制设备20被操 作以向后的方向驱动支撑销12支撑基底40。如上所述，当上升/下降单元55执行最初的从上到下运动以对基 底进行清洁时，控制设备20以向后的方向旋转电机，从而使得从上侧 到下侧移动的上升/下降单元55能够重复执行上述的清洁操作。如上所述，本发明并不局限于以上描述的实施方案，而是能够由 本领域的技术人员进行各种修改和变化。这些修改和变化落入所附的 本发明的权利要求书限定的精神和范围内。具有上述构造、功能和上述优选实施方式的本发明具有的有益效 果在于，能够在将基底相对于垂直轴线以预定的倾斜角度牢固地安装 好后，通过上下移动刷子和超纯水喷嘴，以执行清洁处理去除附着在 基底的上下表面的杂质。而且，根据本发明的另一有益效果在于，由于在基底的表面上有 大量材料例如树脂等要被去除，通过将基底以预定的倾斜角度牢固地 安装，可使得废物在清洁后向下流，并通过刷子从上端到下端的移动 而被清理，从而使得在基底的表面上不会留下任何废物。此外，由于刷子在从上端到下端移动时重复执行清洁处理，因此 能够提高对玻璃基底的清洁效率。
此外，根据本发明，由于基底被以预定的倾斜角度竖立起来进4亍 单独的清理，而不管设备和安装位置的是如何狭小，因此降低了生产 成本和安装成本等。
权利要求
1.一种基底清洁设备，包括工作台，具有线性移动导引部分以及多个支撑销，所述线性移动导引部分设置在所述工作台的两个端部，所述支撑销以栅格的形状设置为相互间隔预定的间隔，从而使得它们能够被以向前或向后的方向驱动，以支撑置于其前方的要被清洁的基底，所述工作台适于允许所述基底以相对于垂直轴线成预定倾斜角度地牢固安装在其上；清洁单元，用于在沿着所述线性移动导引部分上下移动时，清洁牢固地安装在所述工作台上的所述基底的上下表面；防干超纯水供应单元，以能够被上下移动的方式设置在所述清洁单元的前端和后端；以及控制设备，用于控制整个系统，从而使得能够通过所述清洁单元和所述防干超纯水供应单元对所述基底进行清洁。
2. 如权利要求1所述的基底清洁设备，其中，所述基底清洁设备 在所述支撑销之间以预定的间隔设置有至少一个或多个超纯水喷嘴。
3. 如权利要求1所述的基底清洁设备，其中，所述工作台的所述 倾斜角度为84°到86°。
4. 如权利要求1所述的基底清洁设备，其中，所述清洁单元包括 上升/下降单元，设置有滚动刷和位于所述滚动刷上方和下方的多个超纯水喷嘴；滑轮，牢固地耦合到所述工作台的下端框架、用于使所述上升/ 下降单元上下移动；定时控制装置，其一端耦合于所述滑轮；配重，用于控制与所述上升/下降单元连接的线的张力，从而最小 化所述上升/下降单元的载荷；电机，其位置与所述滑轮成线性关系，并设置有驱动轴，所述驱动轴能够使所述基底从最高点到最低点上下移动，从而所述电机能够通过从外界施加的驱动电流而以前、后方向转动；以及功率传输装置，其一端连接到所述驱动轴，而另一端连接到所述 滑轮，以改变所述电才几的旋转方向，/人而使得所述滑轮能够才艮据所述 电机的旋转速度旋转。
5. 如权利要求1所述的基底清洁设备，其中，所述防干超纯水供 应单元设置有位置检测传感器，用于将位置检测传感器检测到的位置 信息传递到所述控制设备，以及所述控制设备基于从所述位置检测传感器输入的位置信息控制所 述支撑销以向后的方向被驱动，以使得所述清洁单元通过，并在所述 清洁单元通过后控制所述支撑销以向前的方向驱动，以此支撑所述基 底。
6. 如权利要求1所述的基底清洁设备，其中，在所述清洁单元的 上升/下降单元从上侧移动到下侧，以完成基底下侧的清洁过程时，所述控制设备控制所述滚动刷和超纯水喷嘴工作，同时所述清洁单元的 上升/下降单元从下侧到上侧移动，以此驱动所述滚动刷和超纯水喷嘴。
7. 如权利要求1所述的基底清洁设备，其中，各个所述的支撑销 由具有高温属性和耐酸性能的热塑性塑料制成。
全文摘要
公开了一种基底清洁装置，其能够将基底相对于垂直轴线以预定的倾斜角度牢固地安装好后，通过上下移动刷子和超纯水喷嘴，以执行清洁处理去除附着在基底的上下表面的杂质。
文档编号B08B3/04GK101130189SQ20071000275
公开日2008年2月27日 申请日期2007年1月30日 优先权日2006年8月26日
发明者朱明勋 申请人:Kl技术株式会社