1.一种锅体，其特征在于，包括锅本体和冷喷涂工艺制成的涂层，所述涂层至少覆盖锅本体的底部，所述涂层为导磁金属层。
2.根据权利要求1所述一种锅体，其特征在于，所述涂层包括第一涂层，第一涂层在锅本体的底部的覆盖面呈圆环形或圆形。
3.根据权利要求2所述一种锅体，其特征在于，所述第一涂层的厚度为0.1-0.6mm。
4.根据权利要求2所述一种锅体，其特征在于，所述第一涂层的孔隙率为0.05-0.9％。
5.根据权利要求2所述一种锅体，其特征在于，所述第一涂层的粗糙度为3-12微米。
6.根据权利要求2所述一种锅体，其特征在于，所述覆盖面呈圆环形，其内径为30-80mm。
7.根据权利要求2所述一种锅体，其特征在于，所述第一涂层的外侧边缘距离锅本体的底面的最底端的高度大于0，小于或等于40mm。
8.根据权利要求1-7任一项所述一种锅体，其特征在于，所述涂层还包括第二涂层，所述第二涂层沿周向围在锅本体的侧壁上。
9.根据权利要求8所述一种锅体，其特征在于，所述第二涂层的高度为50-130mm。
10.根据权利要求8所述一种锅体，其特征在于，所述第二涂层的底端与锅本体的底平面的距离为30-50mm。
11.根据权利要求1-7任一项所述一种锅体，其特征在于，所述涂层的材质为铁、不锈钢或铜。
12.根据权利要求1-7任一项所述一种锅体，其特征在于，所述锅本体的材质为铝、铝合金、不锈钢或陶瓷。
13.根据权利要求1-7任一项所述一种锅体，其特征在于，所述锅本体呈球形或外凸的鼓型。
14.一种烹饪器具，其特征在于，包括电磁感应线圈和权利要求1-13任一项所述的锅体，电磁感应线圈与所述涂层的位置相对。