一种防止窗膜中金属层氧化的方法及其窗膜的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种防止窗膜中金属层氧化的方法及其窗膜，该方法为：采用磁控溅射技术，将介电薄膜镀在干净的聚脂薄膜PET层表面，形成一层致密的纳米级介电薄膜层，之后在该介电薄膜层上进行金属层镀膜，完成金属镀层后，再将另一层介电薄膜镀在该金属层表面。该方法可以在窗膜的生产，运输以及贴膜使用后，减少其反红外纳米金属层在空气或者受污染空气中的氧化作用和退化作用。该方法使用磁控溅射技术，将防氧化层镀在窗膜结构中金属层的表面和底面，形成全方位的防水汽，防有机物，防氧化，防污染的保护层。该防氧化层多使用介电薄膜材料。使用这种方法可增强纳米金属层的光稳定性，从而提高了窗膜使用寿命，同时增强和延长了窗膜的节能功效。
【专利说明】一种防止窗膜中金属层氧化的方法及其窗膜
【技术领域】
[0001]本发明涉及玻璃窗膜生产领域，特别涉及一种防止窗膜中金属层氧化的方法及其窗膜。
【背景技术】
[0002]玻璃窗膜作为一种全新的建筑材料，越来越多地用于建筑物门窗、隔墙、顶棚以及银行业的安全防护。窗膜可以分为很多种类，其中节能窗膜更是一类新兴的节能建筑材料，节能窗膜的工作原理是依靠金属本身对红外线的反射能力，将太阳光中一大部分能量(红外线)反射出去，大幅度减少了夏季太阳光通过玻璃透射到室内的热量，从而达到减少空调使用，节能隔热的效果。
[0003]在近期的窗膜市场，充斥着各类染色膜和真空镀铝膜。这些膜虽然价格低廉，但并不是符合市场需求的最佳窗膜产品。对于染色膜，是利用涂布工艺将一层隔热介质均匀涂在透明聚酯膜上，这层隔热介质主要有短暂吸收红外线的功效。这类膜使用寿命短，容易出现退色，花纹的现象，当隔热介质吸收红外线饱和后，就会向室内辐射热量，没有任何节能的效果。第二种真空镀铝膜是用真空蒸镀的方法，将一层金属铝镀在透明聚酯膜上。这类膜拥有较低的可见光透射率(大约40% )，贴膜后屋内比较阴暗，同时拥有极高的可见光反射率(超过30%)，这类反光膜已经在欧美国家被列为光污染源之一。虽然国内尚未有此类规定，但显然高反光的窗膜并不是最理想的窗膜产品。而由于技术限制，真空蒸镀的方法并不能在镀膜结构上做出进一步的改善。
[0004]随着磁控溅射技术的发展，它可以把不锈钢、钛、镍、金、银、铜等金属制成透明隔热的纳米级金属层，使得玻璃窗膜在隔热功能大幅度提高的情况下同时具有很高的视觉清晰度，解决了染色、真空蒸镀镀膜工艺生产的玻璃窗膜的高反光、易褪色等缺陷。近年来，国内也有少数公司(少于5家)引进这项技术用于窗膜生产，而这项技术也会成为高端窗膜发展的必然选择。
[0005]然而，利用磁控溅射技术镀的金属层通常为纳米级(小于15nm)结构，非常容易在生产，运输过程中遭到损坏；抑或在贴膜使用后，也会被空气中的潮气或受污染空气中的硫化成分所氧化，导致大面积，可扩散，并且肉眼可见的黑色或深灰色斑点。一旦金属层被氧化，不仅仅影响美观并且影响了窗膜的节能效率。如何保证窗膜节能效率和使用寿命，防止此类金属层氧化和退化现象，是窗膜行业发展和研究的一个重点。
【发明内容】
[0006]为解决上述现有技术存在的问题，本发明的一个目的在于提供一种防止窗膜中金属层氧化的方法，本发明的另一个目的在于提供一种利用上述方法得到的窗膜，不仅能保证证窗膜节能效率和使用寿命，同时能防止窗膜的金属层氧化和退化现象的发生。
[0007]为达到上述目的，本发明的技术方案为:
[0008]一种防止窗膜中金属层氧化的方法，该方法为:
[0009]采用磁控溅射技术，将介电薄膜镀在干净的聚酯薄膜PET层表面，形成一层致密的纳米级介电薄膜层，之后在该介电薄膜层上进行金属层镀膜，完成金属镀层后，再将另一层介电薄膜镀在该金属层表面。
[0010]进一步的，所述磁控溅射中，通入气体为氩气，真空度10-6Torr ;磁控溅射靶材选用介电介质为二氧化硅，二氧化钛，氧化锌，氮化硅；介电薄膜匀速沉积在PET层或者金属层表面，其厚度为10-50nm。
[0011]进一步的，所述磁控溅射镀膜过程保持温度恒定，且不高于25 °C，防止磁控溅射中产生的热量导致PET层变形。
[0012]一种防止纳米金属层氧化的窗膜，由单面硬化PET层，其上采用磁控溅射镀有介电薄膜层，第一介电薄膜层上镀有防止红外反射的金属层，金属层的另一面镀有第二介电薄膜层，第二介电薄膜层另一面依次黏贴有安装胶层和离型膜层。
[0013]进一步的，所述第二介电膜薄层与安装胶层间设置有用于抗紫外线的PET层，该抗紫外线的PET层与第二介电膜薄层间还设有安装胶层。
[0014]进一步的，所述第一介电薄膜层和第二介电薄膜层厚度为10_50nm。
[0015]进一步的，所述第一介电薄膜层和第二介电薄膜层选取二氧化硅，二氧化钛，氮化硅作为磁控溅射的介电介质。
[0016]相对于现有技术，本发明的有益效果为:
[0017]采用磁控建设技术，在洁净的单面硬化的PET层上镀一层介电薄膜，厚度在10-50nm之间，在此介电薄膜上镀一层抗红外的纳米金属层，厚度在15nm以下。最后在纳米金属层上再覆盖一层介电薄膜，厚度在10-50nm。这三层磁控溅射膜是窗膜的主体部分。通过对这三层薄膜的厚度细微调整，可得到可见光高透射，红外高反射率的节能型窗膜。对于单层pet窗膜，可在完成主体镀膜后直接刷安装胶覆离型膜；对于双层pet窗膜，可加多一层抗紫外pet更进一步保护纳米镀膜，在第二层pet外部刷安装胶覆离型膜。
[0018]本发明的上述方法，使得窗膜中的纳米金属层多了上下两面的保护，它与传统窗膜相比的优点有:
[0019]I)通过在纳米金属层上下面加镀介电薄膜，从而在生产过程中有效防止了对金属纳米层的损害，有效防止了划伤，有机溶剂污染等。
[0020]2)同时在窗膜使用过程中，增强了纳米金属层的稳定性，减缓污染的空气，水气，化学物质等对窗膜中纳米金属层的腐蚀和氧化。
【专利附图】
【附图说明】
[0021]图1为本发明的窗膜结构示意图。
[0022]图2为在图1窗膜基础上，添加了抗紫外线的PET层的窗膜结构示意图。
[0023]其中，1-PET层，2-介电薄膜层，3-金属层，4_安装胶层，5_离型膜层。
【具体实施方式】
[0024]下面结合附图及【具体实施方式】对本发明方案做进一步详细描述，
[0025]实施例1:如图1所示一种防止单基底窗膜中金属层氧化的方法，将面积为30cmX30cm,厚度为50微米的高透明塑料薄膜PET层清洗后，采用磁控溅射方法依次沉积三层薄膜:第一层为厚度1nm的介电薄膜，第二层为纳米金属层，厚度10nm，第三层为厚度1nm的介电薄膜，与第一层相似。其中沉积温度为25°C，气压10-6ΤΟ1Γ。完成多层磁控溅射后，附着安装胶和离型膜即可完成窗膜制作。
[0026]利用该方法制备的一种防止窗膜中金属层氧化的窗膜，由单面硬化PET层1，其上采用磁控溅射镀有介电薄膜层2，第一介电薄膜层2上镀有防止红外反射的金属层3，金属层3的另一面镀有第二介电薄膜层2，第二介电薄膜层2另一面依次黏贴有安装胶层4和离型膜层5。所述第一介电薄膜层2和第二介电薄膜层2厚度为10nm。所述第一介电薄膜层2选取二氧化硅、第二介电薄膜层2选取二氧化钛。
[0027]实施例2:如图2所示为一种防止双基底窗膜中金属层氧化的方法，将面积为30cmX30cm,厚度为50微米的高透明塑料薄膜PET层清洗后，采用磁控溅射方法依次沉积三层薄膜:第一层为厚度50nm的介电薄膜，第二层为纳米金属层，厚度15nm，第三层为厚度150m的介电薄膜,与第一层相似。其中沉积温度为25°C,气压10_6Torr。在沉积层上涂布黏着剂并加多一层防紫外Pet就完成双基底窗膜的基本结构，再在防紫外PET层上附着安装胶和离型膜即完成双基底窗膜成品结构。
[0028]利用该方法制备的一种防止窗膜中金属层氧化的窗膜，由单面硬化PET层1，其上采用磁控溅射镀有介电薄膜层2，第一介电薄膜层2上镀有防止红外反射的金属层3，金属层3的另一面镀有第二介电薄膜层2，第二介电薄膜层2另一面依次黏贴有安装胶层4和离型膜层5。所述第一介电薄膜层2和第二介电薄膜层2厚度为50nm。所述第二介电膜薄层2与安装胶层4间设置有用于抗紫外线的PET层1，该抗紫外线的PET层I与第二介电膜薄层2间还设有安装胶层4。所述第一介电薄膜层2选取二氧化钛，第二介电薄膜层2选取氮化硅作为磁控溅射的介电介质。
[0029]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种防止窗膜中金属层氧化的方法，其特征在于，该方法为: 采用磁控溅射技术，将介电薄膜镀在干净的聚酯薄膜PET层表面，形成一层致密的纳米级介电薄膜层，之后在该介电薄膜层上进行金属层镀膜，完成金属镀层后，再将另一层介电薄膜镀在该金属层表面。
2.根据权利要求1所述的防止窗膜中金属层氧化的方法，其特征在于，所述磁控溅射中，通入气体为氩气，真空度10-6Torr ;磁控溅射靶材选用介电介质为二氧化硅，二氧化钛，氧化锌，氮化硅；介电薄膜匀速沉积在PET层或者金属层表面，其厚度为10-50nm。
3.根据权利要求1所述的防止窗膜中金属层氧化的方法，其特征在于，所述磁控溅射镀膜过程保持温度恒定，且不高于25°C，防止磁控溅射中产生的热量导致PET层变形。
4.一种防止窗膜中金属层氧化的窗膜，其特征在于，由单面硬化PET层，其上采用磁控溅射镀有介电薄膜层，第一介电薄膜层上镀有防止红外反射的金属层，金属层的另一面镀有第二介电薄膜层，第二介电薄膜层另一面依次黏贴有安装胶层和离型膜层。
5.根据权利要求4所述的窗膜，其特征在于，所述第二介电膜薄层与安装胶层间设置有用于抗紫外线的PET层，该抗紫外线的PET层与第二介电膜薄层间还设有安装胶层。
6.根据权利要求4或5所述的窗膜,其特征在于,所述第一介电薄膜层和第二介电薄膜层厚度为10-50nm。
7.根据权利要求6所述的窗膜，其特征在于，所述第一介电薄膜层和第二介电薄膜层选取二氧化硅，二氧化钛，氮化硅作为磁控溅射的介电介质。
【文档编号】B32B37/15GK104354413SQ201410616604
【公开日】2015年2月18日 申请日期:2014年11月3日 优先权日:2014年11月3日
【发明者】窦威 申请人:大连爱瑞德纳米科技有限公司