专利名称：近红外线吸收性粘合剂组合物及光学薄膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及具有吸收近红外线的近红外线吸收能的近红外线吸收性粘合剂组合物，以及使用了该组合物的光学薄膜，特别涉及适用于设置在等离子显示屏(以下称为PDP)的视觉辨认侧的光学滤光片的光学薄膜。
背景技术：
PDP的原理是对在2块板状玻璃间封入的稀有气体(氦气、氖气、氩气、氙气等)施加电压，此时产生的紫外线照射发光体产生可见光。
由PDP产生可见光的同时，也会辐射出近红外线和电磁波等有害光。例如，近红外线会使家用电视机、空调、录像机等家用电器用近红外线遥控产生误操作，使通信器材误操作，在POS(商品出售时的信息管理)系统等的数据传输时产生不良影响。因此，在PDP前面(视觉辨认侧)设置防止近红外线等有害光的光学薄膜，例如将850～1100nm的近红外线的透过率控制在20％以下。
目前，作为光学薄膜，提出了使用阻断波长850～1100nm的近红外线的光学薄膜的方法。
作为光学薄膜，例如有使近红外线吸收色素分散于透明树脂中，将它涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)制等的薄膜上形成的光学薄膜。
作为近红外线吸收色素，据报道有二亚铵(diimonium)系、聚甲炔系、金属络合物系、squarylium系、花青苷系、靛苯胺系等各种色素。
为了赋予能够吸收宽幅波长的近红外线的高近红外线吸收能，一般2种以上组合使用这些色素。
但是，上述光学薄膜在用于光学滤光片时，由于是隔着粘合剂层贴合于玻璃板等透明基材的，所以制造步骤多，生产效率不佳。此外，所得光学滤光片也难以薄层化。
针对这种情况，提出了赋予粘合剂层以近红外线吸收能的方法。例如，日本专利特开2001-207142号公报中记载了使丙烯酸系粘合剂中含有红外线吸收色素的红外线吸收片。
但是，本发明者经过研究后发现，二亚铵系色素等近红外线吸收色素在丙烯酸系粘合剂中存在耐热性差和易劣化的问题。近红外线吸收色素的劣化会使光学薄膜的光学特性下降。
日本专利特开2001-207142号公报发明内容本发明是鉴于前述以往的技术所存在的问题而完成的发明。即，本发明的目的是提供耐热性良好、光学特性良好、且能以简单的工艺制造出光学滤光片的近红外线吸收性粘合剂组合物及光学薄膜。
本发明者经过认真研究后发现，通过使硅系粘合剂中含有近红外线吸收色素，能够提高该近红外线吸收色素的耐热性。此外，本发明者进行进一步的研究后发现，作为近红外线吸收色素使用二亚铵系色素时，仅该二亚铵系色素一种色素，就能够吸收较广范围的近红外线。
本发明是在上述研究的基础上完成的发明。本发明提供了含有近红外线吸收色素及硅系粘合剂的近红外线吸收性粘合剂组合物。
较好的是前述近红外线吸收色素含有以下通式(I)
表示的二亚铵系色素，式中，R1～R8分别独立地表示氢原子、可带有取代基的烷基、可带有取代基的链烯基、可带有取代基的芳烷基或可带有取代基的炔基，X-表示阴离子。
较好的是前述通式(I)中，R1～R8表示碳原子数4～8的烷基。
本发明还提供了具备由前述近红外线吸收性粘合剂组合物形成的近红外线吸收层的光学薄膜。
利用本发明的近红外线吸收性粘合剂组合物提供了耐热性良好、光学特性良好、且能以简单的工艺制造出光学滤光片的光学薄膜。
具体实施例方式
以下，对本发明进行详细说明。
本发明的近红外线吸收性粘合剂组合物的特征是，含有近红外线吸收色素及硅系粘合剂。
本发明中，对与上述近红外线吸收色素组合使用的硅系粘合剂无特别限定，可采用公知的硅系粘合剂。
硅系粘合剂大致可分为自由基反应型和加成反应型2种。本发明中，为了特别有效地抑制近红外线吸收色素的劣化，最好采用加成反应型硅系粘合剂。
自由基反应型采用过氧化苯甲酰等有机过氧化物作为固化催化剂。例如，通过80℃的预干燥+150℃×5分钟的加热，通过以下反应式(A)表示的固化反应进行2个阶段的固化。
……(A)自由基反应型硅系粘合剂可通过有机过氧化物的添加量进行粘合特性的调整。
作为自由基反应型粘合剂，例如可使用《硅材料手册》(东レ·ダウコ—ニング株式会社发行)等中记载的材料。此外，有市售的东レ·ダウコ—ニング株式会社制商品名为SH4280、SE4200、SD4284、Q2-7735，GE东芝硅株式会社制商品名为YR3286、YR3340等产品。
加成反应型是利用至少一分子中含有2个以上的链烯基(较好为乙烯基)的含有链烯基的有机聚硅氧烷和一分子中含有2个以上的SiH基的有机氢化二烯聚硅氧烷间的氢化硅烷化反应来进行粘接的粘合剂。采用铂或铂化合物等加成反应催化剂。例如，通过以下反应式(B)表示的固化反应进行1个阶段的固化。
……(B)加成反应型硅系粘合剂可通过调节所用的含有链烯基的有机聚硅氧烷和有机氢化二烯聚硅氧烷的种类和配比量来调整粘合特性。
加成反应型硅系粘合剂与自由基反应型相比，可在低温和短时间的反应条件(例如，100℃×3分钟)下进行固化。因此，在例如后述的光学薄膜的制作中，使用该组合物在基材上形成近红外线吸收层时，作为该基材可使用耐热性低的材料。此外，具有不产生固化副产物和耐热性良好等优点。另外，由于不会象自由基反应型那样产生自由基，所以不会出现因自由基而导致的近红外线吸收色素的劣化。
加成反应型硅系粘合剂可采用例如专利第2734809号公报、日本专利特开平10-195414号公报、日本专利特开2001-158876号公报等记载的粘合剂。此外，有市售的东レ·ダウコ—ニング株式会社制商品名为SD4560、SD4570、SD4580、SD4590，GE东芝硅株式会社制商品名为XR37-B4399、XR37-B5389等产品。
对本发明的通过在硅系粘合剂中掺合而使近红外线吸收色素的耐热性有所提高的理由还不明确。可作以下推测，即在采用丙烯酸系粘合剂的情况下，构成该粘合剂的聚合物具有多个交联反应性基团(异氰酸酯基、羟基、缩水甘油基、羧基等)，该交联反应性基团与交联剂等反应而固化。由于该固化反应较慢，所以在形成近红外线吸收层后还有交联反应性基团残存。因此，该近红外线吸收层中的近红外线吸收色素劣化，所得光学薄膜的耐久性，特别是耐热性劣化。与此相反，硅系粘合剂在数分钟内就结束固化反应，所以近红外线吸收色素的劣化被抑制，所得光学薄膜的耐热性有所提高。
本发明中，作为近红外线吸收色素只要是在800～1100nm具有极大吸收波长的色素即可，对其无特别限定，一般可使用用于具有近红外线吸收能的光学滤光片的近红外线吸收色素。
这里，“在800～1100nm具有极大吸收波长”是指测定该色素的吸收光谱时，在波长800～1100nm的范围内具有1个以上的吸收峰。
本发明所用的近红外线吸收色素在利用以下的测定方法测定该色素的吸收光谱时，较好的是在显示吸收峰的波长(最大吸收波长(λmax))具有1.1×103以上的摩尔吸光系数(εm)，更好的是该系数在2.0×104以上，特别好的是在5.0×104以上。这样可使用近红外线吸收性粘合剂组合物形成的近红外线吸收层薄层化。
用氯仿稀释该色素使试样浓度达到20mg/L，制得试样溶液。用分光光度计在300～1300nm的范围内测定该试样溶液的吸收光谱，读取其最大吸收波长(λmax)，用下式算出该最大吸收波长(λmax)下的摩尔吸光系数(εm)。
ε＝-log(I/Io)(ε吸光系数，Io入射前的光强度，I入射后的光强度)εm＝ε/(c·d)(εm吸光系数，c试样浓度(mol/L)，d杯长)这种近红外线吸收色素可采用无机系颜料、有机系颜料和有机系染料等常规产品。
无机系颜料可例举钴系色素、铁系色素、铬系色素、钛系色素、钯系色素、锆系色素、钼系色素、钌系色素、铂系色素、ITO系色素、ATO系色素等。
有机系颜料及有机系染料可例举二亚铵系色素、蒽醌系色素、铵系色素、花青苷系色素、份菁系色素、croconium系色素、squarylium系色素、azulenium系色素、聚甲炔系色素、萘醌系色素、吡喃鎓系色素、酞菁系色素、萘酞菁系色素、萘内酰胺系色素、偶氮系色素、稠合偶氮系色素、靛蓝系色素、perinone系色素、苝系色素、二噁嗪系色素、喹吖酮系色素、异吲哚满-1-酮系色素、奎酞酮系色素、吡咯系色素、硫靛系色素、金属络合物系色素、二噻茂系金属络合物系色素、吲哚苯酚系色素或三烯丙基甲烷系色素等。
本发明的上述近红外线吸收色素中，由于所得光学薄膜的色调良好，所以最好采用二亚铵系色素。
二亚铵系色素是以上通式(I)表示的化合物。
式(I)的R1～R8中的烷基可以是直链状或支链状，碳原子数较好为1～12，更好为4～8，最好为4～6。碳原子数如果在4以上，则对有机溶剂的溶解性良好，碳原子数如果在8以下，则耐热性良好。该烷基可例举甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、叔戊基、正己基、正辛基或叔辛基等。该烷基可带有烷氧基羰基、羟基、磺基或羧基等取代基。
链烯基可例举乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基或辛烯基等。该链烯基可带有羟基、羧基等取代基。
芳烷基可例举苄基、对氯苄基、对甲基苄基、2-苯基乙基、2-苯基丙基、3-苯基丙基、萘基甲基或2-萘基乙基等。该芳烷基的芳香环上可带有羟基、羧基等取代基。
炔基可例举丙炔基、丁炔基、2-氯丁炔基、戊炔基或己炔基等。该炔基可带有羟基、羧基等取代基。
X-表示氯离子、溴离子、碘离子、高氯酸根离子、高碘酸根离子、硝酸根离子、苯磺酸根离子、对甲苯磺酸根离子、甲基硫酸根离子、乙基硫酸根离子、丙基硫酸根离子、四氟硼酸根离子、四苯基硼酸根离子、六氟磷酸根离子、苯亚磺酸根离子、乙酸根离子、三氟乙酸根离子、丙酸根离子、苯甲酸根离子、草酸根离子、琥珀酸根离子、丙二酸根离子、油酸根离子、硬酯酸根离子、柠檬酸根离子、一氢二磷酸根离子、二氢一磷酸根离子、五氯锡酸根离子、氯磺酸根离子、氟磺酸根离子、三氟甲磺酸根离子、六氟砷酸根离子、六氟锑酸根离子、钼酸根离子、钨酸根离子、钛酸根离子、锆酸根离子、双(三氟甲磺酰)亚胺酸根离子、萘基磺酸根离子等阴离子。
这些阴离子中，较好的是高氯酸根离子、碘离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、六氟锑酸根离子、三氟甲磺酸根离子、双(三氟甲磺酰)亚胺酸根离子等，由于热稳定性最好，所以特别好的是六氟锑酸根离子、双(三氟甲磺酰)亚胺酸根离子。
本发明中，利用上述测定方法对二亚铵系色素测得的1000nm附近的摩尔吸光系数εm较好约为0.8×104～1.0×106。
此外，为了抑制光学薄膜加工时的劣化，使光学薄膜形成后具有实用程度的耐久性，最好采用具有98％以上的纯度的二亚铵系色素或具有210℃以上的熔点的二亚铵系色素。特别好的是采用具有98％以上的纯度、且具有210℃以上的熔点的二亚铵系色素。
本发明者经过研究后发现，在硅系粘合剂中掺合二亚铵系色素时，随着二亚铵系色素的侧链(相当于上述式(I)中的R1～R8的基团)的碳原子数的增加，该二亚铵系色素的吸收向短波长侧移动，仅依靠二亚铵系色素一种就可获得能够吸收范围较广的近红外线的效果。因此，具有成本降低、工序缩短、防止不同色素间的互相作用而导致的色素劣化等优点。
该吸收的位移例如在丙烯酸系树脂中使用二亚铵系色素时并没有发现，一般在1000nm附近，即近红外线范围的上限附近显现出最大吸收波长。因此，除了二亚铵系色素以外，需要进一步配合使用吸收850nm附近的近红外线的近红外线吸收色素。但是，通过使用硅系粘合剂，最大吸收波长向更短波长侧移动，所以仅依靠二亚铵系色素就能够吸收较广范围的近红外线。
本发明的近红外线吸收性粘合剂组合物中的近红外线吸收色素的配比量，对应于100质量份的硅系粘合剂较好为0.1～20质量份，更好为0.5～10质量份。近红外线吸收色素的配比量如果在0.1质量份以上，则能够得到充分的近红外线吸收能，如果在20质量份以下，则近红外线吸收色素对粘合力的耐久性产生不良影响的可能性就很小。该配比量可考虑目标光学薄膜所希望的近红外线吸收能、所用红外线吸收剂的吸光系数等适当决定。
在本发明中，如上所述，近红外线吸收色素最好含有二亚铵系色素，所有近红外线吸收色素中的二亚铵系色素的比例较好为50～100质量％，更好为80～100质量％。特别好的是近红外线吸收色素全部都为二亚铵系色素。
本发明的近红外线吸收性粘合剂组合物可通过在硅系粘合剂中掺合入近红外线吸收色素及后述的其它任意成分制得。可采用已知的任一种掺合方法。为了获得均一的组合物，较好的是采用将硅系粘合剂、近红外线吸收色素及其它任意成分溶解或分散于可使这些成分溶解或分散的溶剂中，例如后述的有机溶剂的方法。特别好的是采用将硅系粘合剂、近红外线吸收色素及其它任意成分溶解于可使这些成分溶解的溶剂中，再蒸馏除去该溶剂的方法。
在不影响到本发明的效果的前提下，本发明的近红外线吸收性粘合剂组合物中还可含有最大吸收波长在300～800nm范围内的色调修正色素、涂平剂、防带电剂、热稳定剂、防氧化剂、分散剂、阻燃剂、润滑剂、增塑剂或紫外线吸收剂等。
本发明的光学薄膜具有由前述近红外线吸收性粘合剂组合物形成的近红外线吸收层。
更具体来讲，例如可以是在使用时被剥离的剥离性基材上形成了该近红外线吸收层的薄膜，也可以是在可见光透过性的透明基材(以下称为承载膜)上形成该近红外线吸收层、与该承载膜一体化的薄膜。
一般，由于该光学薄膜被配置在PDP等显示装置的视觉辨认侧，所以最好是无色的。因此，按照JISZ8701-1999算出的C光源基准中，对应于无色的色度坐标为(x，y)＝(0.310，0.316)，所以本发明的光学薄膜最好适当选定色素的种类及含量，使(x，y)＝(0.310±0.100，0.316±0.100)。
此外，视感平均透过率最好在45％以上。
特别好的是同时满足上述色度坐标(x，y)的规定和视感平均透过率的规定。
例如，将本发明的近红外线吸收色素、硅系粘合剂及前述其它任意成分溶解或分散于有机溶剂中形成的溶液(以下称为涂液)涂布在剥离性基材或承载膜上，使其干燥就可形成本发明的近红外线吸收层。
前述有机溶剂可例举甲苯、二甲苯等芳香族系，N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等酰胺系，甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、丙酮等酮系，甲醇、乙醇、异丙醇等醇系，己烷等烃系，四氢呋喃等。这些有机溶剂可单独使用，也可根据需要适当混合使用。
涂液的涂布可采用浸涂法、喷涂法、旋涂法、珠涂法(bead coating)、金属棒涂法(wire bar)、刮刀涂布法、辊涂法、幕涂法、狭缝模头涂布法、凹印涂布法、狭缝反向涂布法、微凹印法或点涂法等涂布法。
本发明的近红外线吸收层的厚度较好为0.3～50.0μm的范围内。如果在0.3μm以上，则能够充分发挥出近红外线吸收能，如果在50μm以下，则能够减少成形时的有机溶剂的残留。从这些观点看，特别理想的范围是0.5～30.0μm。
剥离性基材可以是薄膜状或板状的，对其材料和厚度等无特别限定。为使剥离性良好，最好在该基材表面使用硅或低表面张力的树脂等来进行脱模处理。
承载膜的材料例如可选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)等聚酯类，聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃类，聚丙烯酸酯，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等聚丙烯酸酯类，聚碳酸酯(PC)类，聚苯乙烯类，三乙酸酯，聚乙烯醇，聚氯甲烷，聚偏氯乙烯，乙烯-乙酸乙烯共聚物，聚乙烯醇缩丁醛，聚氨酯类，玻璃纸等材料中，较好的是PET、PC、PMMA。
承载膜的厚度在10～500μm的范围内可使操作性良好，且可将浊度值控制在低值。此外，在承载膜上形成近红外线吸收层或后述的任意功能层前，最好对该承载膜的表面进行电晕处理或易粘合处理。
在剥离性基材或承载膜上设置本发明的近红外线吸收层后，从操作性良好的角度考虑，最好在该近红外线吸收层上再贴附剥离型薄膜。剥离型薄膜可使用与上述剥离性基材同样的材料。
本发明的光学薄膜除了近红外线吸收层之外，可具有1层以上的任意的功能性层。功能性层可例举防止紫外线导致色素劣化、改善耐光性的紫外线吸收层，使图像的视觉辨认度有所提高的防反射层，阻断从PDP等显示装置发出的电磁波的电磁波阻断层，赋予耐擦伤性功能的硬涂层或具有自我修复性的层，或防止最表面被污染的防污层，以及使各层层叠而采用的粘合或粘接层等。
功能性层例如可在形成近红外线吸收层前预先设置在该剥离性基材上，也可在剥离性基材上形成近红外线吸收层后，再设置于该近红外线吸收层上，还可剥离形成了近红外线吸收层的剥离性基材，设置于露出的近红外线吸收层上。此外，可以在近红外线吸收层形成前预先设置在承载膜上。另外，承载膜本身也可以具备功能性层的作用。
本发明的光学薄膜例如可剥离剥离型薄膜，将露出的近红外线吸收层贴在具有高刚性的透明基板(以下称为透明基板)上使用。作为透明基板的材料，可选自玻璃、透明且高刚性的高分子材料。该透明基板的材料较好为玻璃、强化或半强化玻璃、聚碳酸酯或聚丙烯酸酯等。
如果将光学薄膜贴合在透明基板上形成的产品用作光学滤光片，则能够发挥作为PDP等显示装置的保护板的功能。
本发明的光学薄膜或该光学薄膜贴合在透明基板上所形成的产品可用作PDP、等离子驱动液晶(PALC)显示板、场致发射显示器(FED)等平面型显示装置及阴极射线管显示装置(CRT)等显示装置用的光学滤光片。
这种情况下，光学薄膜最好设置在显示装置的视觉辨认侧，可设置在显示装置之外，或直接贴附在显示装置表面。
本发明的光学薄膜耐热性良好、光学特性良好、且能以简单的工艺制造出光学滤光片。因此特别适用于产生近红外线的PDP等光学滤光片。
以下，为了对本发明进行详细说明例举实施例。本发明并不仅限于这些例子。例1～例7为实施例，例8～例12为比较例。
(例1)混合加成反应型硅系粘合剂(东レ·ダウコ—ニング·シリコ—ン株式会社制，商品名“SD4570”)100质量份、固化剂(东レ·ダウコ—ニング·シリコ—ン株式会社制，商品名“SRX212”)0.9质量份及甲基乙基甲酮100质量份，将固形成分调整为30质量％，获得主剂溶液。对应于该主剂溶液的树脂成分，在主剂溶液中加入1.0质量％的二亚铵系色素(N，N，N’，N’-四(对二乙基氨基苯基)-对苯二胺-六氟锑酸亚铵盐ナガセケミテツクス株式会社制，商品名“NIR-IM2C2”，λmax＝1059nm，εm＝8.36×104)，获得使上述材料溶解的涂液。用涂布棒将该涂液涂在厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东洋纺绩株式会社制，商品名“A4100”)，使干燥涂膜的厚度达到25μm，于120℃干燥5分钟后，与氟系隔膜(ニツパ株式会社制，商品名“SS-4”)贴合，获得光学薄膜。
(例2)除了用1.0质量％的N，N，N’，N’-四(对二丁基氨基苯基)-对苯二胺-六氟锑酸亚铵盐(ナガセケミテツクス株式会社制，商品名“NIR-IM2C4”，λmax＝1074nm，εm＝9.27×104)替代例1所用的二亚铵系色素之外，其它与例1同样，获得光学薄膜。
(例3)除了用1.0质量％的N，N，N’，N’-四(对二戊基氨基苯基)-对苯二胺-六氟锑酸亚铵盐(ナガセケミテツクス株式会社制，商品名“NIR-IM2C5”，λmax＝1079nm，εm＝8.92×104)替代例1所用的二亚铵系色素之外，其它与例1同样，获得光学薄膜。
(例4)除了用1.0质量％的N，N，N’，N’-四(对二己基氨基苯基)-对苯二胺-六氟锑酸亚铵盐(ナガセケミテツクス株式会社制，商品名“NIR-IM2C6”，λmax＝1078nm，εm＝9.00×104)替代例1所用的二亚铵系色素之外，其它与例1同样，获得光学薄膜。
(例5)除了用1.0质量％的N，N，N’，N’-四(对二辛基氨基苯基)-对苯二胺-六氟锑酸亚铵盐(ナガセケミテツクス株式会社制，商品名“NIR-IM2C8”，λmax＝1080nm，εm＝8.08×104)替代例1所用的二亚铵系色素之外，其它与例1同样，获得光学薄膜。
(例6)除了用1.0质量％的二亚铵系色素(N，N，N’，N’-四(对二丁基氨基苯基)-对苯二胺-双(双(三氟甲磺酰)亚胺酸)亚铵盐日本カ—リツト株式会社制，商品名“CIR-1085”，λmax＝1079nm，εm＝1.02×105)替代例1所用的二亚铵系色素之外，其它与例1同样，获得光学薄膜。
(例7)用防反射薄膜(旭硝子株式会社制，商品名“ア—クトツプURP2199”)替代例1所用的透明基材，在防反射层的相反面形成例1制得的含色素的粘合剂层。然后，剥去隔膜，与2.5mm的透明玻璃贴合，获得光学薄膜。
(例8)除了用丙烯酸系粘合剂(日本触媒株式会社制，商品名“DX2-PDP-19”)100重量份、固化剂(日本聚氨酯株式会社制，商品名“コロネ—トL-55E”)0.5重量份及甲基乙基甲酮33质量份混合、调整而形成的固形成分为30质量％的溶液替代例1使用的主剂溶液之外，其它与例1同样，获得光学薄膜。
(例9)除了用例8所用的主剂溶液替代例2使用的主剂溶液之外，其它与例2同样，获得光学薄膜。
(例10)除了用例8所用的主剂溶液替代例3使用的主剂溶液之外，其它与例3同样，获得光学薄膜。
(例11)除了用例8所用的主剂溶液替代例4使用的主剂溶液之外，其它与例4同样，获得光学薄膜。
(例12)除了用例8所用的主剂溶液替代例5使用的主剂溶液之外，其它与例5同样，获得光学薄膜。
试验例1用以下方法对例1～12所得的光学薄膜的光学特性(视感平均透过率、色度、近红外线透过率)及耐久性(耐热性、耐光性)进行评价，其结果示于表1。
(光学特性)使用分光光度计(岛津制作所株式会社制，UV-3100)，在380～1300nm的范围内测定从各试样切下的20×20mm见方的试验片的光谱。
按照JIS Z8701-1999，算出可视范围(380～780nm)中的加权平均透过率(视感平均透过率Tv)、色度坐标(x，y)。
近红外范围(850nm、900nm、950nm、1000nm)的各波长的近红外线透过率分别为T850、T900、T950、T1000。
(耐热性)采用定温恒温器(东京理化器械株式会社制)，将温度设定为80℃，将1000小时试验后的各试样的Tv、x、y的各测定值与试验前的测定值进行比较。试验前后的变化量全部未满3％的记为○，有任一项在3％以上～未满5％的记为△，有任一项在5％以上的记为×。
表1
如表1所示，例1～7的光学薄膜(实施例)的近红外线透过率都较低，光学特性都良好。更详细来看，使用了侧链的碳原子数分别为2、4、5、6、8的二亚铵系色素的例1～5的光学薄膜的近红外线透过率与侧链的碳原子数成比例，特别是在850nm附近明显减少，侧链的碳原子数为2～8的例2～5的光学薄膜在所有4个波长范围内的近红外线透过率都在10％以下。此外，关于例1～例7的光学薄膜的耐热性，虽然使用了侧链的碳原子数为8的二亚铵系色素的例5的光学薄膜的耐热性稍差，但其它例的耐热性较好。从外观看，例3的光学薄膜的色调最好。
与此相反，将例1～5的二亚铵系色素掺合入丙烯酸系粘合剂中的例8～12的光学薄膜的耐热性都较差。此外，不论侧链的碳原子数如何，近红外线透过率，特别是850nm附近的近红外线透过率较高。
权利要求
1.近红外线吸收性粘合剂组合物，其特征在于，含有在800～1100nm具有极大吸收波长的近红外线吸收色素及硅系粘合剂。
2.如权利要求1所述的近红外线吸收性粘合剂组合物，其特征还在于，前述硅系粘合剂为加成反应型硅系粘合剂。
3.如权利要求1或2所述的近红外线吸收性粘合剂组合物，其特征还在于，前述近红外线吸收色素含有以下通式(I) 表示的二亚铵系色素，式中，R1～R8分别独立地表示氢原子、可带有取代基的烷基、可带有取代基的链烯基、可带有取代基的芳烷基或可带有取代基的炔基，X-表示阴离子。
4.如权利要求3所述的近红外线吸收性粘合剂组合物，其特征还在于，前述通式(I)中，R1～R8表示碳原子数4～8的烷基。
5.光学薄膜，其特征在于，具备由权利要求1～4中任一项所述的近红外线吸收性粘合剂组合物形成的近红外线吸收层。
全文摘要
本发明提供了耐热性良好、光学特性良好、且能以简单的工艺制造出光学滤光片的近红外线吸收性粘合剂组合物及光学薄膜。以含有近红外线吸收色素及硅系粘合剂为特征的近红外线吸收性粘合剂组合物，以及具备由该近红外线吸收性粘合剂组合物形成的近红外线吸收层的光学薄膜。
文档编号G03C1/73GK1580836SQ200410056740
公开日2005年2月16日 申请日期2004年8月12日 优先权日2003年8月13日
发明者宫古强臣, 森胁健 申请人:旭硝子株式会社