专利名称：：辐射敏感树脂组合物的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种辐射敏感树脂组合物，该组合物适合作为用于利用各种类型的辐射进行微加工的抗蚀剂，所述辐射例如远紫外线(例如KrF、ArF或F2准分子激光)、X射线(例如同步辐射)和带电粒子束(例如电子束)。
背景技术：
：在以制造集成电路器件为代表的微加工领域中，用于精细图案光刻的设计规则快速发展，以实现高度集成化和成本降低。随着该发展，强烈需要开发稳定地进行精细加工的光刻方法。为了响应这种动向，已经提出了作为抗蚀剂的感度由于酸的催化作用而得到改善的多种包含辐射敏感产酸剂的化学放大型抗蚀剂，所述辐射敏感产酸剂在暴露于辐射时产生酸。例如，专利文献l公开了一种具有叔丁基或叔丁氧羰基保护基的树脂与辐射敏感产酸剂的组合。专利文献2公开了一种具有甲硅烷基保护基的树脂与辐射敏感产酸剂的组合。此外，已经对化学放大型抗蚀剂做了许多报道，例如包含如下组分的抗蚀剂具有缩醛或缩酮保护基的树脂；以及辐射敏感产酸剂(参见例如专利文献3)。专利文献1:日本专利爿>开特开昭59-45439专利文献2:日本专利公开特开昭60-52845专利文献3:日本专利>^开特开平2-25850然而，随着用于精细图案光刻法的设计规则的发展，暴露了由驻波引起的图案线宽波动、由驻波引起的图案外形劣化、纳米边缘粗糙或LEF(线端缩短；一种线图案的膜厚度朝图案边缘方向变薄的现象)等方面的问题。具体地，当通过处理例如蚀刻将具有所述问题的图案传递给衬底时，可能降低图案的线宽精确度，导致集成电路器件的电特性等的显著下降(参见，例如非专利文献l、2、3和4)。因此，除了常规化学放大型抗蚀剂所需要的分辨率性能之外，上述性能对于应对精细化集成电路器件也是非常重要的。非专利文献1:J.Photopolym.Sci.Tech.(1998)，第571页非专利文献2:Proc.SPIE第3333巻，第313页非专利文献3:Proc.SPIE第3333巻，第634页非专利文献4:J.Vac.Sci.Technol.B16(1)，(1998)，第69页
发明内容考虑这些实际情况而完成了本发明。因此，本发明的目的是提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含辐射敏感产酸剂，充分抑制由驻波引起的图案线宽波动和图案外形劣化，并提供在纳米边缘粗糙度和LEF方面改善的抗蚀剂图案，所述辐射敏感产酸剂在感应有效辐射方面具有优异的分辨率性能，并且热稳定性和储存稳定性极好，所述有效辐射包括各种类型的辐射，例如极紫外线或远紫外线(例如KrF、ArF或F2准分子激光或EUV)、X射线(例如同步辐射)和带电粒子束(例如电子束)。由下面的描述，本发明的其它目的和优点将变得明显。本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，其特征在于所述组合物包含(A)辐射敏感产酸剂，所述辐射敏感产酸剂包含具有由下式(l-a)表示的结构和由下式(l-b)表示的结构的化合物，和磺酰亚胺化合物，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>(1-b)其中，在式(l-a)中，每个R1、每个112和每个113独立地表示氢原子、羟基、具有110个碳原子的线型、支化或环状烷基、具有1~10个^^、子的线型、支化或环状烷氧基、或叔丁氧羰基甲氧基，并且满足下列条件中的至少一个条件两个或更多个Ri分别是除氢原子之外的基团，两个或更多个R2分别是除氢原子之外的基团，和两个或更多个R3分别是除氲原子之外的基团，以及其中，在式(l-b)中，每个W独立地表示氢原子、氟原子或三氟曱基，并且一个或更多个W分别是氟原子或三氟甲基。在下文中，将详细地描述本发明。产酸剂(A)本发明的辐射敏感树脂组合物的特征在于包含辐射敏感产酸剂(在下文中称为"产酸剂(A)"),所述产酸剂(A)包含具有由式(l-a)表示的结构和由式(l-b)表示的结构的化合物(在下文中称为"产酸剂(l)，，)，和磺酰亚胺化合物。在式(l-a)中，由R1、议2和113表示的具有1~10个碳原子的线型、支化或环状烷基的例子包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、2-甲基-l-丁基、2-甲基-2-丁基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基、环戊基和环己基。作为替代方案，由R1、W和Rs表示的具有1~10个碳原子的线型、支化或环状烷氧基的例子包括甲H基、乙氧基、正丙氧基、异丙氡基、正丁氧基、异丁緣、仲丁lL&、叔丁緣、正戊g、新戊lL^、2-曱基-l-丁氡基、2-甲基-2-丁氡基、正己H基、正庚氧基、正辛氡基、2-乙基己氣基、正壬氧基、正癸氡基、环戊氧基和环己氧基。在式(l-a)中，RiRS必须满足下列条件中的至少一个务降两个或更多个Ri分别是除氢原子之外的基团，两个或更多个W分别是除氢原子之外的基团，和两个或更多个RS分别是除氢原子之外的基团。当R1、W或ie中的两个或更多个分别是除氢原子之外的基团时，这样的除氢原子之外的基团优选为羟基、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、甲氧基、叔丁氧基或叔丁氧羰基甲氧基等，尤其优选甲基、乙基、异丙基、叔丁氧基或叔丁氧羰基曱氧基等。在下文中，式(l-a)表示的结构和由下式(l-b)表示的结构分别称为"锍阳离子(a)"和"磺酸根阴离子(b)"。锍阳离子(a)的具体实例包括2，3-二羟基苯基二苯基锍阳离子、2,4-二羟基苯基二苯基锍阳离子、2，5-二羟基苯基二苯基锍阳离子、2,6-二羟基苯基二苯基锍阳离子、3，4-二羟基苯基二苯基锍阳离子、3，5-二羟基苯基二苯基锍阳离子、2，4，6-三羟基苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-3-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-4-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-5-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-6-甲基苯基二苯基锍阳离子、3-羟基-4-曱基苯基二苯基锍阳离子、3-羟基-5-曱基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-3-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-曱基-4-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-5-羟基苯基二苯基锍阳离子、3-甲基-4-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-3-甲緣苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-4-甲総苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-5-曱猛苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-6-甲緣苯基二苯基锍阳离子、3-羟基-4-甲猛苯基二苯基锍阳离子、3-羟基-5-甲lL&苯基二苯基锍阳离子、2-甲lL^-3-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-甲lL^-4-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-甲氧基-5-羟基苯基二苯基锍阳离子、3-甲IL^-4-鞋基苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-3-叔丁lL&苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-4-叔丁fL^苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-5-叔丁IL^苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-6-叔丁ft^苯基二苯基锍阳离子、3-羟基-4-叔丁絲苯基二苯基铳阳离子、3-羟基-5-叔丁絲苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁lL^-3-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧基-4-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁IL^-5-羟基苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁H^-4-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-3-叔丁氧n甲H&苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-4-叔丁氧n甲H&苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-5-叔丁氧装基甲lL&苯基二苯基锍阳离子、2-羟基-6-叔丁氧叛基甲IL^苯基二苯基锍阳离子、3-羟基-4-叔丁氧氣基曱H^苯基二苯基锍阳离子、3-羟基-5-叔丁氧g甲lL^苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧叛基甲氧基-3-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧g甲IL^-4-羟基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧g甲氧基-5-羟基苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁氧n曱氧基-4-羟基苯基二苯基锍阳离子、2,3-二曱基苯基二苯基锍阳离子、2，4-二甲基苯基二苯基锍阳离子、2，5-二甲基苯基二苯基锍阳离子、2,6-二甲基苯基二苯基锍阳离子、3,4-二曱基苯基二苯基锍阳离子、3,5-二甲基苯基二苯基铳阳离子、2，4，6-三甲基苯基二苯基锍阳离子、2,3-二乙基苯基二苯基锍阳离子、2,4-二乙基苯基二苯基锍阳离子、2,5-二乙基苯基二苯基锍阳离子、2，6-二乙基苯基二苯基锍阳离子、3，4-二乙基苯基二苯基锍阳离子、3，5-二乙基苯基二苯基锍阳离子、2，4，6-三乙基苯基二苯基锍阳离子、2，4-二正丙基苯基二苯基锍阳离子、2，4,6-三正丙基苯基二苯基锍阳离子、2,4-二异丙基苯基二苯基锍阳离子、2，4,6-三异丙基苯基二苯基锍阳离子、2，4-二正丁基苯基二苯基锍阳离子、2,4，6-三正丁基苯基二苯基锍阳离子、2,4-二异丁基苯基二苯基锍阳离子、2,4，6-三异丁基苯基二苯基锍阳离子、2,4-二仲丁基苯基二苯基锍阳离子、2,4,6-三仲丁基苯基二苯基锍阳离子、2，4-二叔丁基苯基二苯基锍阳离子、2，4,6-三叔丁基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正丙基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-异丙基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正丁基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-叔丁基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正己基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正辛基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正癸基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正环己基苯基二苯基锍阳离子、2-曱基-3-甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-5-甲緣苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-6-甲猛苯基二苯基锍阳离子、3-甲基-4-甲H&苯基二苯基锍阳离子、3-甲基-5-甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2-甲猛-3-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-甲|1&-4-甲基苯基二苯1>锍阳离子、2-甲lL^-5-甲基苯基二苯基锍阳离子、3-曱氧基-4-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正丙氧基苯基二苯基锍阳离子、2-曱基-4-异丙猛苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正丁緣苯基二苯&锍阳离子、2-甲基-4-正己lL&苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正辛？L^苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-正癸lL&苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-环己lt^^^二苯^^锍阳离子、2-甲基-3-叔丁lL&苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-叔丁緣苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-5-叔丁緣苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-6-叔丁*^苯基二苯基铳阳离子、3-甲基-4-叔丁IL^苯基二苯基锍阳离子、3-甲基-5-叔丁fL&苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁|1^-3-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁絲-4-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁緣-5-甲基苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁絲-4-甲基苯基二苯基锍阳离子、4-叔丁氧基-2，6-二甲基苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-3-叔丁氧絲甲ItJ^苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-4-叔丁氧羰基甲IU^苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-5-叔丁氧n甲IL^苯基二苯基锍阳离子、2-甲基-6-叔丁氧羰基甲緣苯基二苯基锍阳离子、3-甲基-4-叔丁氧絲曱緣苯基二苯基锍阳离子、3-甲基-5-叔丁氧絲甲猛苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧g甲猛-3-甲基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧絲甲甲基苯基二苯^&锍阳离子、2-叔丁氧m^甲氧基-5-甲基苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁氧絲甲氧基-4-甲基苯基二苯基锍阳离子、4-叔丁氧録甲氧基-2,6-二曱基苯基二苯基锍阳离子、2，3-二甲猛苯基二苯基锍阳离子、2,4-二甲H&苯基二苯基锍阳离子、2,5-二甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2，6-二甲猛苯基二苯基锍阳离子、3,4-二甲lL^苯基二苯基锍阳离子、3，5-二甲氧基苯基二苯^^锍阳离子、2,4,6-三甲|1^苯基二苯基锍阳离子、2-甲H^-3-叔丁H^苯基二苯基铳阳离子、2-曱氧基-4-叔丁氧基苯基二苯基锍阳离子、2-曱氧基-5-叔丁錄苯基二苯基锍阳离子、2-曱猛-6-叔丁氧基苯基二苯基锍阳离子、3-甲lL^-4-叔丁IL&苯基二苯基锍阳离子、3-甲IL^-5-叔丁lL&苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧基-3-曱H&苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧基-4-甲IU^苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁lL^-5-甲ILi苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁氧基-4-甲H&苯基二苯基锍阳离子、2,3-二叔丁氧基苯基二苯基锍阳离子、2，4-二叔丁緣苯基二苯基锍阳离子、2，5-二叔丁猛苯基二苯基锍阳离子、2,6-二叔丁緣苯基二苯基锍阳离子、3,4-二叔丁緣苯基二苯基锍阳离子、3,5-二叔丁緣苯基二苯基锍阳离子、2,4,6-三叔丁氧基苯基二苯基锍阳离子、2-甲氧R^曱HJ^苯基二苯基锍阳离子、2-甲lL^-4-叔丁氧羰基甲IL^苯基二苯基锍阳离子、2-甲HJ^5-叔丁氧羰基甲猛苯基二苯基锍阳离子、2-甲緣-6-叔丁氧絲甲猛苯基二苯基锍阳离子、3-甲HJ^4-叔丁氧n甲氧基苯基二苯基锍阳离子、3-甲lL^-5-叔丁氧絲甲緣苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧絲甲fl^-3-曱IL^苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧氣基甲曱IL^苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧g曱氧基-5-甲H^苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁氧M甲M-4-甲緣苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧基-3-叔丁氧餘甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧基-4-叔丁氧絲甲猛苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁H^-5-叔丁氧氛基甲lL^苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧基-6-叔丁氧羰基甲ll^苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁ll^-4-叔丁氧m^甲lL&苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁IL^-5-叔丁氧m^甲IL&苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧氣基曱？L^-3-叔丁氧苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧叛基曱lL^-4-叔丁氧苯基二苯基锍阳离子、2-叔丁氧歉基甲lL^-5-叔丁氧苯基二苯基锍阳离子、3-叔丁氧n甲氧基-4-叔丁氧苯基二苯基锍阳离子、2，3-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2，4-二叔丁氧a&甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2，5-二叔丁氧甲HJ^苯基二苯基锍阳离子、2，6-二叔丁氧g甲氧基苯基二苯基锍阳离子、3，4-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍阳离子、3，5-二叔丁氧絲甲氧基苯基二苯基锍阳离子、2,4，6-三叔丁氧g甲緣苯基二苯基锍阳离子、苯基双(2，3-二曱基苯基)锍阳离子、苯基双(2,4-二甲基苯基)锍阳离子、苯基双(2,5-二甲基苯基)锍阳离子、苯基双(2，6-二甲基苯基)锍阳离子、苯基双(3，4-二甲基苯基)锍阳离子、苯基双(3，5-二甲基苯基)锍阳离子、苯基双(2，4,6-三曱基苯基)锍阳离子、三(2,3-二甲基苯基)锍阳离子、三(2，4-二甲基苯基)锍阳离子、三(2,5-二甲基苯基)锍阳离子、三(2,6-二曱基苯基)锍阳离子、三(3,4-二曱基苯基)锍阳离子、三(3，5-二曱基苯基)锍阳离子和三(2,4,6-三甲基苯基)锍阳离子。这些锍阳离子(a)中，优选2,4-二羟基苯基二苯基锍阳离子、2,4-二甲基苯基二苯基锍阳离子、2,6-二曱基苯基二苯基锍阳离子、2，4，6-三甲基苯基二苯基锍阳离子、2,4,6-三乙基苯基二苯基锍阳离子、2,4,6-三异丙基苯基二苯基锍阳离子、2,4-二叔丁緣苯基二苯基锍阳离子、2,4-二叔丁氧縣甲錄苯基二苯基锍阳离子、4-叔丁錄-2，6-二甲基苯基二苯基锍阳离子、4-叔丁氧絲甲緣-2,6-二曱基苯基二苯基锍阳离子等。接下来，在式(l-b)中，优选氟原子和三氟甲基作为由议4表示的基团。磺酸根阴离子(b)的具体实例包括2-氟M酸根阴离子、3-氟M酸才艮阴离子、4-氟M酸根阴离子、2,3-二氟^t酸根阴离子、2，4-二氟M酸根阴离子、2,5-二氟^t酸根阴离子、2，6-二氟M酸才艮阴离子、3,4-二氟M酸根阴离子、3,5-二氟^t酸根阴离子、2，4，6-三氟M酸根阴离子、2，3，5,6-四氟^t酸根阴离子、2,3,4，5，6-五氟^t酸根阴离子、2-氟-3-三氟曱基M酸根阴离子、2-氟-4-三氟甲基^t酸根阴离子、2-氟-5-三氟甲基辆酸根阴离子、2-氟-6-三氟甲基辆酸根阴离子、3-氟-4-三氟甲基辆酸根阴离子、3-氟-5-三氟甲基M酸根阴离子、2-三氟甲基-3-氟M酸根阴离子、2-三氟甲基-4-氟M酸根阴离子、2-三氟甲基-5-氟M酸根阴离子、3-三氟甲基-4-氟M酸根阴离子、2-三氟甲基M酸根阴离子、3-三氟甲基^t酸根阴离子、4-三氟甲基^t酸根阴离子、2,3-双(三氟曱基)苯磺酸根阴离子、2，4-双(三氟甲基)M酸根阴离子、2，5-双(三氟曱基)M酸根阴离子、2，6-双(三氟甲基)^t酸根阴离子、3,4-双(三氟曱基)^t酸根阴离子、3,5-双(三氟曱基)M酸根阴离子、2，4，6-三(三氟甲基)M酸根阴离子、2，3，5,6-四(三氟甲基)^t酸根阴离子和2，3，4，5，6-五(三氟甲基)M酸才艮阴离子。这些磺酸根阴离子(b)中，优选4-氟^酸根阴离子、2,4-二氟笨璜酸根阴离子、2,6-二氟^t酸根阴离子、2,3，4，5，6-五氟^t酸根阴离子、4-三氟甲基^t酸根阴离子、2,4-双(三氟甲基)^t酸根阴离子、2,4,6-三(三氟甲基)^t酸根阴离子、2,3,4，5，6-五(三氟甲基)M酸根阴离子等。本发明中优选使用的产酸剂(l)的具体实例包括4-氟M酸2,4-二羟基苯基二苯基锍、2,4-二氟苯磺酸2，4-二羟基苯基二苯基锍、2,6-二氟苯磺酸2,4-二羟基苯基二苯基铳、2,3,4，5,6-五氟苯磺酸2,4-二羟基苯基二苯基锍、4-三氟甲基笨璜酸2,4-二羟基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)M酸2，4-二羟基苯基二苯基锍、2,4,6-三(三氟曱基)^t酸2,4-二羟基苯基二苯基锍、2，3，4,5,6-五(三氟甲基)笨璜酸2，4-二羟基苯基二苯基锍、4-氟M酸2,4-二甲基苯基二苯基锍、2，4-二氟辆酸2,4-二曱基苯基二苯基锍、2，6-二氟苯磺酸2,4-二曱基苯基二苯基锍、2,3，4，5，6-五氟苯磺酸2,4-二甲基苯基二苯基锍、4-三氟甲基笨镜酸2，4-二曱基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)^黄酸2,4-二甲基苯基二苯基锍、2，4,6-三(三氟甲基)苯磺酸2，4-二甲基苯基二苯基锍、2,3,4，5，6-五(三氟甲基)苯磺酸2，4-二甲基苯基二苯基锍、4-氟苯磺酸2,6-二甲基苯基二苯基锍、2,4-二氟辆酸2,6-二曱基苯基二苯基铳、2，6-二氟树酸2，6-二甲基苯基二苯基锍、2，3,4,5，6-五氟辆酸2，6-二甲基苯基二苯基锍、4-三氟甲基M酸2,6-二甲基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)M酸2，6-二甲基苯基二苯基锍、2，4,6-三(三氟曱基)苯磺酸2，6-二甲基苯基二苯基锍、2，3,4，5,6-五(三氟曱基)^黄酸2,6-二甲基苯基二苯基锍、4-氟M酸3,5-二甲基苯基二苯基锍、2，4-二氟树酸3,5-二甲基苯基二苯基锍、2，6画二氟辆酸3，5-二甲基苯基二苯基锍、2,3，4，5，6-五氟辆酸3，5-二甲基苯基二苯基锍、4-三氟甲基笨璜酸3，5-二甲基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟曱基)苯磺酸3，5-二曱基苯基二苯基锍、2,4，6-三(三氟甲基)笨璜酸3，5-二甲基苯基二苯基锍、2，3,4，5,6-五(三氟曱基)苯磺酸3,5-二甲基苯基二苯基锍、4-氟M酸2，4,6-三甲基苯基二苯基铳、2，4-二氟辆酸2,4,6-三曱基苯基二苯基锍、2，6-二氟苯磺酸2,4,6-三甲基苯基二苯基锍、2,3，4，5，6-五氟苯磺酸2,4,6-三甲基苯基二苯基锍、4-三氟甲基M酸2,4,6-三甲基苯基二苯基锍、2，4-双(三氟甲基)M酸2,4,6-三甲基苯基二苯基铳、2，4,6-三(三氟曱基)苯磺酸2,4,6-三曱基苯基二苯基锍、2,3,4，5,6-五(三氟甲基)苯磺酸2,4,6-三曱基苯基二苯基锍、4-氟笨璜酸2，4，6-三乙基苯基二苯基锍、2，4-二氟笨璜酸2,4,6-三乙基苯基二苯基锍、2，6-二氟笨璜酸2，4，6-三乙基苯基二苯基锍、2，3,4，5，6-五氟糾酸2,4，6-三乙基苯基二苯基锍、4-三氟甲基树酸2，4，6画三乙基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)M酸2，4，6-三乙基苯基二苯J^锍、2,4,6-三(三氟甲基)笨璜酸2，4,6-三乙基苯基二苯基锍、2，3，4,5,6-五(三氟甲基)M酸2,4，6-三乙基苯基二苯基锍、4-氟M酸2,4，6-三异丙基苯基二苯基锍、2，4-二氟苯磺酸2,4,6-三异丙基苯基二苯基锍、2,6-二氟苯磺酸2，4，6画三异丙基苯基二苯基锍、2,3,4，5,6-五氟^Pt酸2,4,6-三异丙基苯基二苯基锍、4-三氟甲基M酸2,4，6-三异丙基苯基二苯基锍、2，4-双(三氟甲基)苯磺酸2,4,6-三异丙基苯基二苯基锍、2,4，6-三(三氟甲基)M酸2，4,6-三异丙基苯基二苯基锍、2,3,4，5,6-五(三氟甲基)苯磺酸2，4，6-三异丙基苯基二苯基锍、4-氟苯磺酸2，4-二叔丁H^苯基二苯基锍、2，4-二氟辆酸2，4-二叔丁氧基苯基二苯基锍、2,6-二氟苯磺酸2，4-二叔丁氧基苯基二苯基锍、2,3，4，5，6-五氟辆酸2，4-二叔丁緣苯基二苯基锍、4-三氟甲基辆酸2,4-二叔丁lL^苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)笨晴酸2，4-二叔丁ltJ^苯基二苯基锍、2，4,6-三(三氟甲基)笨璜酸2，4-二叔丁|1^苯基二苯基锍、2,3,4，5，6國五(三氟甲基)树酸2,4-二叔丁錄苯基二苯基锍、4-氟糾酸2,6-二叔丁氧基苯基二苯基锍、2,4-二氟糾酸2,6-二叔丁H&苯基二苯基锍、2，6-二氟糾酸2，6-二叔丁猛苯基二苯基锍、2,3，4，5，6-五氟辆酸2,6-二叔丁氧基苯基二苯基锍、4-三氟甲基M酸2，6-二叔丁氧基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)M酸2,6-二叔丁ft^苯基二苯基锍、2，4,6-三(三氟甲基)M酸2,6-二叔丁IL^苯基二苯基锍、2，3,4,5,6-五(三氟甲基)笨璜酸2,6-二叔丁氧基苯基二苯基锍、4-氟苯磺酸3，5-二叔丁IL^苯基二苯基锍、2，4-二氟苯磺酸3，5-二叔丁IL^苯基二苯基锍、2,6-二氟苯磺酸3，5-二叔丁IL^苯基二苯基锍、2，3,4，5,6-五氟树酸3，5-二叔丁猛苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸3,5-二叔丁IL^苯基二苯基锍、2，4-双(三氟甲基)苯磺酸3，5-二叔丁氧基苯基二苯基锍、2，4，6-三(三氟甲基)^黄酸3，5-二叔丁錄苯基二苯基锍、2，3，4，5，6-五(三氟甲基)苯磺酸3,5-二叔丁氧基苯基二苯基锍、4-氟M酸2，4,6-三叔丁HJ^苯基二苯基铳、2，4-二氟笨晴酸2,4,6-三叔丁IL^苯基二苯基锍、2,6-二氟树酸2，4,6-三叔丁緣苯基二苯基锍、2，3，4,5,6-五氟^t酸2,4,6-三叔丁lL&苯基二苯基锍、4-三氟甲基^t酸2,4,6-三叔丁lt^苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)苯磺酸2，4,6-三叔丁氧基苯基二苯基锍、2,4，6-三(三氟甲基)树酸2,4,6-三叔丁IUL苯基二苯基锍、2，3,4,5,6-五(三氟曱基)M酸2,4,6-三叔丁lL&苯基二苯基锍、4-氟M酸2,4-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍、2，4-二氟^黄酸2,4-二叔丁氧叛基曱？L&苯基二苯基锍、2，6-二氟树酸2,4-二叔丁氧餘曱絲苯基二苯基锍、2，3,4，5,6國五氟苯磺酸2，4-二叔丁氧羰基甲lL&苯基二苯基锍、4-三氟甲基^黄酸2,4-二叔丁氧g甲緣苯基二苯基锍、2，4-双(三氟甲基)M酸2，4-二叔丁氧羰基甲緣苯基二苯基锍、2,4，6-三(三氟甲基)辆酸2，4-二叔丁氧叛基曱絲苯基二苯基锍、2，3，4，5，6-五(三氟甲基)糾酸2，4-二叔丁氧羰基甲猛苯基二苯基锍、4-氟糾酸2，6-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍、2,4-二氟树酸2，6-二叔丁氧絲甲緣苯基二苯基锍、2，6-二氟辆酸2,6-二叔丁氧狄甲緣苯基二苯基锍、2，3,4,5,6-五氟树酸2，6-二叔丁氧羰基甲lL^苯基二苯基锍、4-三氟甲基M酸2,6-二叔丁氧g甲lL&苯基二苯基锍、2，4-双(三氟甲基)笨璜酸2，6-二叔丁氧羰基甲^苯基二苯基锍、2，4，6-三(三氟甲基)苯磺酸2，6-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍、2，3，4，5，6-五(三氟甲基)^黄酸2,6-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍、4-氟糾酸3,5-二叔丁氧羰基甲H^苯基二苯基锍、2,4-二氟转酸3，5-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍、2,6-二氟笨晴酸3,5-二叔丁氧羰基甲緣苯基二苯基锍、2，3,4，5，6-五氟糾酸3，5-二叔丁氧絲甲IL^苯基二苯基锍、4-三氟甲基笨璜酸3，5-二叔丁IUl基甲氧基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)^黄酸3，5-二叔丁氧羰基甲H^苯基二苯基锍、2,4,6-三(三氟甲基)M酸3，5-二叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍、2,3,4，5,6-五(三氟曱基)笨!黄酸3，5-二叔丁氧絲甲絲苯基二苯基锍、4-氟糾酸2,4,6-三叔丁氧JH^甲緣苯基二苯基锍、2,4-二氟树酸2，4，6-三叔丁氧織甲猛苯基二苯基锍、2，6-二氟糾酸2,4,6-三叔丁氧絲甲|1^苯基二苯基锍、2，3,4,5，6-五氟苯磺酸2,4,6-三叔丁氧羰基甲氧基苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸2,4,6-三叔丁氧絲曱緣苯基二苯基锍、2，4-双(三氟甲基)辆酸2,4,6-三叔丁氧羰基曱緣苯基二苯基铳、2,4，6-三(三氟甲基)M酸2，4，6-三叔丁氧絲曱緣苯基二苯基铳、2,3,4，5，6-五(三氟甲基)辆酸2,4,6-三叔丁氧縣甲錄苯基二苯基锍、4-氟糾酸4-叔丁緣-2,6-二甲基苯基二苯基锍、2，4-二氟苯磺酸4-叔丁猛-2,6-二甲基苯基二苯基锍、2，6-二氟笨璜酸4-叔丁H^-2，6-二甲基苯基二苯基锍、2，3,4,5,6-五氟M酸4-叔丁lL^-2,6-二甲基苯基二苯基锍、4-三氟甲基辆酸4-叔丁猛-2，6-二甲基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)笨晴酸4-叔丁|^-2，6-二甲基苯基二苯基锍、2，4，6-三(三氟甲基)苯磺酸4-叔丁氧基-2,6-二甲基苯基二苯基锍、2，3，4,5，6-五(三氟甲基)^黄酸4-叔丁H^-2,6-二甲基苯基二苯基锍、4-氟M酸4-叔丁氧羰基甲IL^-2，6-二甲基苯基二苯基锍、2,4-二氟笨璜酸4-叔丁氧羰基甲氧基-2，6-二曱基苯基二苯基锍、2，6-二氟辆酸4-叔丁氧絲甲M-2，6-二甲基苯基二苯基锍、2，3，4，5,6-五氟糾酸4-叔丁氧絲甲緣-2，6-二甲基苯基二苯基锍、4-三氟甲基^酸4-叔丁氧a&甲IL^-2，6-二甲基苯基二苯基锍、2,4-双(三氟甲基)絲酸4-叔丁氧絲曱|1&-2，6-二甲基苯基二苯基锍、2，4,6-三(三氟曱基)^t酸4-叔丁fm甲IL^-2,6-二甲基苯基二苯基锍和2,3，4,5，6-五(三氟甲基)笨璜酸4-叔丁氧羰基甲緣-2,6-二甲基苯基二笨基锐。这些产酸剂(l)中，优选2,4,6-三(三氟曱基)^t酸2，4-二羟基苯基二苯基锍、2,3，4,5，6-五(三氟甲基)^黄酸2，4-二曱基苯基二苯基锍、2，4-二氟苯磺酸2,4，6-三甲基苯基二苯基铳、4-三氟甲基苯磺酸2，4，6-三甲基苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸2,4,6-三乙基苯基二苯基锍、2,4-二氟笨璜酸2，4，6-三异丙基苯基二苯基锍、2，3，4，5，6-五氟树酸4-叔丁猛-2,6-二甲基苯基二苯基锍、2，4，6-三(三氟甲基)辆酸4-叔丁氧絲甲氧基-2，6-二甲基苯基二苯基锍等。特别地，优选2,4-二氟^t酸2，4，6-三曱基苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸2,4，6-三甲基苯基二苯基锍等。在本发明中，这些产酸剂(l)可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物4吏用。本发明的产酸剂(A)包含与产酸剂(l)组合的磺酰亚胺化合物。磺酰亚胺化合物的实例包括由下式(6)表示的化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>其中，在式(6)中，X表示二价基团，例如亚烷基、亚芳基或亚烷氧基，R"表示一价基团，例如烷基、芳基、囟代烷基或卣代芳基。磺酰亚胺化合物的具体实例包括N-(三氟甲磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(三氟甲磺酰lL^)邻苯二甲酰亚胺、N-(三氟甲磺酰lL&)二苯基马来酰亚胺、]\-(三氟甲磺酰猛)双环[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二曱酰亚胺、N-(三氟甲磺酰HiO-7-氧杂双环[2.2.1庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、N-(三氟甲磺酰IUO双环[2.2.1庚烷-5，6-氧-2，3-二曱酰亚胺、N-(三氟甲磺酰HiO萘酰亚胺、N-(九氟正丁^酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(九氟正丁磺酰氧基)邻苯二曱酰亚胺、N-(九氟正丁磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(九氟正丁磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(九氟正丁磺酰氧基)-7-氧杂双环[2.2.1庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、]\-(九氟正丁磺酰|1^)双环[2.2.1庚烷-5,6-成-2,3-二甲酰亚胺、N-(九氟正丁磺酰IL^)萘酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰HJ0琥珀酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰HiO邻苯二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰HiO二苯基马来酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)-7-氧杂双环[2丄l庚-5-烯-2，3-二曱酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰|1&)双环[2.2.1庚烷-5,6-氧-2，3-二曱酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰IU0萘酰亚胺、N-(4-甲基苯磺酰lL^)琥珀酰亚胺、N-(4-甲基苯磺酰H^)邻苯二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯磺酰lL^)二苯基马来酰亚胺、N-(4-甲基苯磺酰氧基)双环[2.2.1庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基笨璜酰IU+7-氧杂双环[2.2.1庚-5-烯-2,3-二曱酰亚胺、N-(4-甲基苯磺酰氧基)双环[2,2.1庚烷-5,6-氧-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯磺酰li^)萘酰亚胺、N-(2-三反甲基苯磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(2-三氟曱基苯磺酰氧基)邻苯二曱酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(2-三氟甲基笨璜酰H&)双环[2.2.1庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基笨璜酰H&)-7-氧杂双环[2.2.11庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟曱基笨璜酰HSO双环[2.2.1庚烷-5，6-咸-2，3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(4-氟苯磺酰lL&)琥珀酰亚胺、N-(4-氟笨璜酰HiO邻苯二甲酰亚胺、N-(4-氟^t酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(4-氟^t酰氧基)双环[2,2.1庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、]\-(4-氟笨璜酰|1^)-7-氧杂双环[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、N-(4-氟^t酰lL&)双环[2.2.1]庚烷-5,6-氧-2，3-二甲酰亚胺、N-(4-氟笨璜酰氧基)萘酰亚胺、N-[(5-甲基-5-羧甲基双环[2丄l庚烷-2-基)磺酰氧基琥珀酰亚胺、N-[(5-曱基-5-羧甲基双环[2.2.1]庚烷-2-基)磺酰IL^]邻苯二甲酰亚胺、N-(5-甲基-5-羧甲基双环[2丄l庚烷-2-基)磺酰氧基二苯基马来酰亚胺、]\-[(5-甲基-5-羧曱基双环[2.2.1庚烷-2-基)磺酰|1^]双环[2.2.1庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、N-[(5-甲基-5-羧甲基双环[2.2.1庚烷-2-基)磺酰氧基-7-氧杂双环[2.2.1庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺、N-[(5-甲基-5-羧曱基双环[2.2.1]庚烷-2-基)磺酰氧基双环[2.2.11庚烷画5,6画氧醒2，3-二甲酰亚胺和N-[(5-甲基画5國羧甲基双环[2.2.1庚烷-2-基)磺酰|1&萘酰亚胺。在本发明中，这些磺酰亚胺化合物可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物使用。在本发明中，产酸剂(A)任选地还可以包含除产酸剂(l)和磺酰亚胺化合物之外的产酸剂(在下文中，称为"另外的产酸剂")。另外的产酸剂的实例包括镳盐化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、重氮甲烷化合物和將磺酸酯(oximesulfonate)化合物。在下文中将描述这些另外的产酸剂。镒盐4t合物鎩盐化合物的实例包括碘偷盐、锍盐、锛盐、重氮盐、铵盐和吡咬镥盐。鎩盐化合物的具体实例包括三氟甲磺酸双(对叔丁基苯基)碘镥、九氟正丁磺酸双(对叔丁基苯基)碘锡、邻三氟甲基M酸双(对叔丁基苯基)碘输、对三氟曱基苯磺酸双(对叔丁基苯基)碘镞、10-樟脑磺酸双(对叔丁基苯基)16碘镥、对甲苯磺酸双(对叔丁基苯基)硖镥、芘磺酸双(对叔丁基苯基)碘镥、正十二烷基M酸双(对叔丁基苯基)碘镥、笨晴酸双(对叔丁基苯基)碘锡、2，4-二氟^酸双(对叔丁基苯基)碘镥、正辛磺酸双(对叔丁基苯基)碘櫞、三氟甲磺酸二苯M输、九氟正丁磺酸二苯M纖、邻三氟甲基M酸二苯絲纖、对三氟甲基辆酸二苯純镥、10-樟脑磺酸二苯M鎩、对曱M酸二苯M像、芘磺酸二^^镥、正十二烷基^t酸二苯lJ^镥、M酸二苯JJ^镥、2,4-二氟^t酸二苯M镥、正辛磺酸二苯M镛、三氟曱磺酸三苯基锍、九氟正丁磺酸三苯基锍、邻三氟甲基M酸三苯基锍、对三氟甲基M酸三苯基锍、10-樟脑磺酸三苯基锍、对甲M酸三苯基锍、芘磺酸三苯基锍、正十二烷基苯磺酸三苯基锍、苯磺酸三苯基锍、2，4-二氟^t酸三苯基锍、正辛磺酸三苯基锍、三氟甲磺酸对甲基苯基二苯基锍、九氟正丁磺酸对甲基苯基二苯基锍、邻三氟曱基M酸对甲基苯基二苯基锍、对三氟甲基^t酸对甲基苯基二苯基锍、10-樟脑磺酸对甲基苯基二苯基锍、对甲^t酸对甲基苯基二苯基锍、芘磺酸对甲基苯基二苯基锍、正十二烷基^t酸对甲基苯基二苯基锍、M酸对甲基苯基二苯基锍、2，4-二氟M酸对甲基苯基二苯基锍、正辛磺酸对甲基苯基二苯基锍、三氟曱磺酸对乙基苯基二苯基锍、九氟正丁磺酸对乙基苯基二苯基锍、邻三氟甲基^t酸对乙基苯基二苯基锍、对三氟甲基M酸对乙基苯基二苯基锍、10-樟脑磺酸对乙基苯基二苯基锍、对甲M酸对乙基苯基二苯基锍、芘磺酸对乙基苯基二苯基锍、正十二烷基M酸对乙基苯基二苯基锍、笨璜酸对乙基苯基二苯基锍、2，4-二氟M酸对乙基苯基二苯基锍、正辛磺酸对乙基苯基二苯基锍、三氟甲磺酸对异丙基苯基二苯基锍、九氟正丁磺酸对异丙基苯基二苯基锍、邻三氟甲基^t酸对异丙基苯基二苯基锍、对三氟曱基M酸对异丙基苯基二苯基锍、10-樟脑磺酸对异丙基苯基二苯基锍、对甲M酸对异丙基苯基二苯基锍、芘磺酸对异丙基苯基二苯基锍、正十二烷基M酸对异丙基苯基二苯基锍、^t酸对异丙基苯基二苯基铳、2,4-二氟M酸对异丙基苯基二苯基锍、正辛磺酸对异丙基苯基二苯基锍、三氟甲磺酸对叔丁基苯基二苯基锍、九氟正丁磺酸对叔丁基苯基二苯基锍、邻三氟甲基M酸对叔丁基苯基二苯基锍、对三氟甲基M酸对叔丁基苯基二苯基锍、10-樟脑磺酸对叔丁基苯基二苯基锍、对曱M酸对叔丁基苯基二苯基锍、芘磺酸对叔丁基苯基二苯基锍、正十二烷基M酸对叔丁基苯基二苯基锍、M酸对叔丁基苯基二苯基锍、2，4-二氟^t酸对叔丁基苯基二苯基锍、正辛磺酸对叔丁基苯基二苯基锍、三氟甲磺酸对甲氧基苯基二苯基锍、九氟正丁磺酸对甲lt^苯基二苯基锍、邻三氟甲基M酸对甲ltj^苯基二苯基锍、对三氟甲基^t酸对甲ftJ^苯基二苯基锍、10-樟脑磺酸对曱氧基苯基二苯基锍、对甲M酸对甲I^苯基二苯基锍、芘磺酸对甲ll^苯基二苯基锍、正十二烷基^t酸对甲lt^苯基二苯^^锍、M酸对甲氧基苯基二苯基锍、2,4-二氟^t酸对甲lL&苯基二苯基锍、正辛磺酸对甲lL^苯基二苯基锍、三氟甲磺酸对叔丁lL&苯基二苯基锍、九氟正丁磺酸对叔丁lL^苯基二苯基锍、邻三氟曱基M酸对叔丁lL^苯基二苯基锍、对三氟甲基^t酸对叔丁IL^苯基苯基二苯基锍、10-樟脑磺酸对叔丁氧基苯基二苯基锍、对曱^t酸对叔丁IL^苯基二苯基锍、芘磺酸对叔丁H&苯基二苯基锍、正十二烷基^t酸对叔丁H&苯基二苯基锍、苯磺酸对叔丁lL&苯基二苯基锍、2,4-二氟M酸对叔丁H&苯基二苯基锍、正辛磺酸对叔丁^^苯基二苯基锍、三氟甲磺酸对叔丁氧甲氧基苯基二苯基锍、九氟正丁磺酸对叔丁氧羰基甲IL&苯基二苯基锍、邻三氟甲基M酸对叔丁氧絲曱緣苯基二苯基锍、对三氟甲基M酸对叔丁氧羰基曱IL^苯基二苯基铳、10-樟脑磺酸对叔丁氧羰基甲H&苯基二苯基锍、对甲M酸对叔丁氧l^甲lL^苯基二苯基铳、芘磺酸对叔丁氧g甲氧基苯基二苯基锍、正十二烷基^^酸对叔丁氧羰基甲n^苯基二苯基锍、M酸对叔丁氧g甲氧基苯基二苯基锍、2,4-二氟^t酸对叔丁氧g甲iL&苯基二苯基锍和正辛磺酸对叔丁氧n甲H&苯基二苯基锍。砜化合物砜化合物的实例包括p-酮砜和p-磺酰砜。砜化合物的具体实例包括苯甲酰甲基苯基砜、均三甲苯基苯甲酰甲基砜、二(苯基磺g)甲烷、l，l-二(苯基磺g)环戊烷、l，l-二(苯基磺酰基)环己烷和4-三苯甲酰曱基砜。磺酸酯化合物磺酸酯化合物的实例包括烷基磺酸酯、g代烷基磺酸酯、芳基磺酸酯和亚氨基磺酸酯。磺酸酯化合物的具体实例包括安息香曱苯磺酸酯、焦掊酚三三氟曱磺酸酯、焦掊酚三甲磺酸三酯、硝基节基-9,10-二乙氡基蒽-2-磺酸酯、a-羟甲基安息香甲苯磺酸酯、a-羟曱基安息香正辛磺酸酯、a-羟甲基安息香正十二烷磺酸酯和(X-羟甲基安息香三氟甲磺酸酯。重氮曱烷化合物重氮甲烷化合物的例子包括由下式(7)表示的化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula>其中，在式(7)中，每个R"独立地表示具有1~20个碳原子的线型、支化或环状烷基、具有620个碳原子的芳基、具有7~20个碳原子的芳烷基或任何具有杂原子和1~20个碳原子的其它一价有机基团，并且这些烷基、芳基和芳烷基可以被取代。重氮甲烷化合物的具体实例包括双(三氟甲基磺酰基)重氮曱烷、双(叔丁基磺酰基)重氮甲烷、双(环己基磺酰基)重氮甲烷、双(苯基磺酰基)重氮甲烷、双(对甲基苯基磺酰基)重氮甲烷、双(1,4-二氧杂螺[4.5癸烷-7-磺酰基)重氮甲烷、双(1,5-二氧杂螺[5.5十一烷-8-磺酰基)重氮甲烷、双(3,3-二甲基-l，5-二氧杂螺[5.5十一烷-8-磺iL&)重氮曱烷、甲基磺酰基环己基磺酰基重氮甲烷、甲基磺g苯基磺酰基重氮甲烷、甲基磺酰基对甲基苯基磺酰基重氮甲烷、叔丁基磺酰基环己基磺,重氮甲烷、叔丁基磺酰基苯基磺酰基重氮曱烷、叔丁基磺酰基对曱基苯基磺酰基重氮甲烷、环己基磺酰基1,4-二氧杂螺[4.5癸烷-7-磺醃基重氮甲烷、环己基磺酰基1,5-二氧杂螺[5.5十一烷-8-磺酰基重氮甲烷和环己基磺酰基3，3-二甲基-l,5-二氧杂螺[5.5]十一烷-8-磺醃基重氮甲烷。將磺酸酯化合物脬磺酸酯化合物的实例包括(5-正丙基磺酰氧基亚氨基-5H-噻吩-2-亚基)(2-甲基苯基)乙腈和2,2,2-三氟-1-[4-{3-(4-[2，2,2-三氟-1-(1-正丙磺酰猛亚JL^)乙基]苯IU0正丙HS4苯基]乙烷肟1-正丙磺酸酯。在本发明中，这些另外的产酸剂可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物使用。在本发明中，相对于100重量份后文所述的树脂(B)，所用的产酸剂(A)的量通常为0.01~20重量份，优选0.1~15重量份，尤其优选0.3~8重量份。在这种情况下，如果所用的产酸剂(A)的量少于给定范围，则可能出现由驻波导致的图案线宽波动和图案外形劣化。另一方面，如果所用的产酸剂(A)的量超过给定范围，则图案外形可能变为向前的锥形形式。此外，相对于全部产酸剂(A)，所用的磺酰亚胺化合物的比例通常为0.1~20wt%,优选l15wt。/。。在这种情况下，如果所用的磺酰亚胺化合物的比例少于给定范围，则可能出现分辨率变差或线边缘粗糙(LER)。另一方面，如果所用的磺酰亚胺化合物的比例超过给定范围，则图案外形可能变为T顶形式。此外，相对于全部产酸剂(A)，所用的另外的产酸剂的比例通常为5wtV。以下，优选3wt。/。以下。;这种情况下，如果所用的另外的产酸剂的比例超过给定值，则可能降低本发明的预期效果。树脂组分除了产酸剂(A)之外，本发明的辐射敏感树脂组合物通常包含树脂组分。树脂组分的实例包括(i)不溶或难溶于碱的具有酸敏基团的树脂，该树脂通过酸敏基团的解离而变得易溶于碱(在下文中，称为"含有酸敏基团的树脂")，(ii)可溶于碱的树脂与溶解控制剂的混合物，以及(iii)可溶于碱的树脂与在酸存在下能够交联该可溶于碱的树脂的交联剂的混合物。优选地，使用含有酸敏基团的树脂。在下文中，将描述含有酸敏基团的树脂。描述含有酸敏基团的树脂的短语"不溶或难溶于碱"指的是这样一种性质，即在利用由包含含酸敏基团的树脂的辐射敏感树脂组合物形成的抗蚀剂膜形成抗蚀剂图案时采用的碱性显影条件下显影后，仅用含酸敏基团的树脂得到的膜而不是抗蚀剂膜保留初始厚度的50%以上。本发明的含有酸敏基团的树脂没有特别限制。其优选实例包括具有由下式(2)表示的重复单元(在下文中，称为"重复单元(2)")、由下式(3)表示的重复单元(在下文中，称为"重复单元(3)")和/或由下式(4)表示的重复单元(在下文中，称为"重复单元(4)")的树脂(在下文中，称为"树脂(B)，，)(R0)姐、(OH)n②10CH+0=Co(R3)p(bR9)(3)R,11(4)20其中，在式(2)中，RS表示氢原子或甲基，W表示除叔丁氧基和-O-Z(Z是除叔丁基之外的一价酸敏基团)之外的一价有机基团，m是0~3的任意整数，n是l3的任意整数，多个W可以彼此相同或不同，其中，在式(3)中，W表示氢原子或甲基，W表示除叔丁氧基和-O-Z(Z是除叔丁基之外的一价酸敏基团)之外的一价有机基团，W表示叔丁基，p是03的任意整数，q是l3的任意整数，多个RS可以彼此相同或不同，以及其中，在式(4)中，R"表示氢原子或甲基，R"表示叔丁基。由式(2)中的R6和式(3)中的R8表示的一价有机基团的实例包括具有1~12个碳原子的线型、支化或环状烷基、具有6~20个碳原子的一价芳烃基、含氧原子的一价有机基团和含氮原子的一价有机基团。烷基的实例包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、2-曱基丙基、l-甲基丙基、叔丁基、环戊基和环己基。作为替代方案，一价芳烃基的实例包括苯基、邻曱苯基、间曱苯基、对甲苯基、2,4-二甲苯基、2，6-二甲苯基、3,5-二曱苯基、2,4,6-三甲苯基、邻异丙苯基、间异丙苯基、对异丙苯基、苄基、苯乙基、l-萘基和2-萘基。作为替代方案，含氧一价有机基团的实例包括羧基；具有1~8个碳原子的线型、支化或环状羟烷基，例如羟甲基、l-羟乙基、2-羟乙基、l-羟丙基、2-羟丙基、3-羟丙基、l-羟丁基、2-羟丁基、3-羟丁基、4-羟丁基、3-羟环戊基和4-羟环己基；具有1~8个碳原子的线型、支化或环状烷氡基，例如甲lL基、乙氡基、正丙氡基、异丙氡基、正丁氧基、2-甲基丙|L^、l-甲基丙緣、叔丁lL^、环戊SJ^和环己H^;具有2~9个^^、子的线型烷氧羰氧基，例如甲氧羰氡基、乙氧羰氡基、正丙氧羰氧基和正丁氧羰lL^;具有3~10个碳原子的线型、支化或环状(1-烷氧烷IL^))^,例如(l-甲氧乙猛)甲基、(l-乙氧乙猛)甲基、(l-正丙氧乙猛)甲基、(1-正丁氧乙氧基)甲基、(l-环戊氧乙氧基)甲基、(l-环己氧乙氧基)甲基、(1-甲氧丙HiO甲基和(i-乙氧丙S^)甲基；以及具有3~10个碳原子的线型、支化或环状烷氧羰氧烷基，例如甲氧羰氧甲基、乙氧羰氧甲基、正丙氧羰氧甲基、异丙氧羰氧甲基、正丁氧羰氧曱基、叔丁氧羰氧甲基、环戊氧羰氧甲基和环己氧羰氧甲基。作为替代方案，含氮原子的一价有机基团的实例包括氰基；以及具有29个碳原子的线型、支化或环状氰烷基，例如氰甲基、l-氰乙基、2-氰乙基、l-氰丙基、2-氰丙基、3-氰丙基、l-氰丁基、2-氰丁基、3-氰丁基、4-氰丁基、3-氰环戊基和4-氰环己基。优选用在本发明中的重复单元(2)的实例包括通过使化合物中的可聚合不饱和键断裂得到的重复单元，所述化合物例如2-羟基苯乙烯、3-羟基苯乙烯、4-羟基苯乙烯、2-羟基-a-甲基苯乙烯、3-羟基-a-甲基苯乙烯、4-羟基-a-甲基苯乙烯、2-甲基-3-羟基苯乙烯、4-甲基-3-羟基苯乙烯、5-曱基-3-羟基苯乙烯、2-甲基-4-羟基苯乙烯、3-甲基-4-羟基苯乙烯、3，4-二羟基苯乙烯和2,4,6-三羟基苯乙烯。在树脂(B)中，这些重复单元(2)可以单独存在或者以它们中两种或更多种的组合存在。此外，优选用在本发明中的重复单元(3)的实例包括通过使化合物中的可聚合不饱和键断裂得到的重复单元，所述化合物例如2-叔丁氧基苯乙烯、3-叔丁氧基苯乙烯、4-叔丁氧基苯乙烯、2-叔丁氧基-a-甲基苯乙烯、3-叔丁氧基-a-甲基苯乙烯、4-叔丁氧基-a-甲基苯乙烯、2-甲基-4-叔丁氧基苯乙烯和3-曱基-4-叔丁氧基苯乙烯。在树脂(B)中，这些重复单元(3)可以单独存在或者以它们中两种或更多种的组合存在。此外，重复单元(4)是衍生自丙烯酸叔丁酯或甲基丙烯酸叔丁酯的单元。这些单元均是优选的。在树脂(B)中，这些重复单元(4)可以单独存在或者以它们中两种或更多种的组合存在。除了重复单元(2)~(4)之外，树脂(B)还可以具有其它重复单元(在下文中，称为"另外的重复单元")。所述另外的重复单元的实例包括通过使化合物(在下文中，称为"另外的含酸敏基团的苯乙烯化合物")中的可聚合不饱和键断裂得到的单元，在所述化合物中提供重复单元(2)的羟基苯乙烯或a-甲基苯乙烯中酚羟基的氢原子被除叔丁基之外的一价酸敏基团取代；以及通过使例如下列的化合物中的可聚合不饱和键断裂得到的单元乙烯基芳族化合物，例如苯乙烯、a-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-曱基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2-甲氧基苯乙烯、3-甲氧基苯乙烯、4-甲氧基苯乙烯和4-(2-叔丁氧羰乙氧基)苯乙烯；(曱基)丙烯酸酯，例如(甲基)丙烯酸曱酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(曱基)丙烯酸异丙酯、(曱基)丙烯酸正丁酯、(曱基)丙烯酸2-曱基丙酯、(曱基)丙烯酸l-甲基丙酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(曱基)丙烯酸2-乙基己酯、(曱基)丙烯酸2-羟基乙酯、(曱基)丙烯酸2-羟基丙酯、(曱基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(曱基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸l-甲基环戊酯、(曱基)丙烯酸l-乙基环戊酯、(甲基)丙烯酸1-甲基金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸1-乙基金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸8-甲基-8-三环癸基酯、(甲基)丙烯酸8-乙基-8-三环癸基酯、(甲基)丙烯酸3_甲基_3-四环十二碳烯基酯、(甲基)丙烯酸3-乙基-3-四环十二碳烯基酯和2,5-二甲基己烷-2,5-二(甲基)丙烯酸酯；不饱和羧酸(酐)，例如(曱基)丙烯酸、巴豆酸、马来酸、马来酸酐、富马酸和肉桂酸；不饱和羧酸的羧烷基酯，例如(甲基)丙烯酸2-羧乙酯、(甲基)丙烯酸2-羧丙酯和(甲基)丙烯酸3-羧丙酯；不饱和腈化合物，例如(甲基)丙烯腈、a-氯丙烯腈、巴豆腈、马来腈和反丁烯二腈；不饱和酰胺化合物，例如(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、巴豆酰胺、马来酰胺和富马酰胺；不饱和酰亚胺化合物，例如马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺和N-环己基马来酰亚胺；以及其它含氮乙烯基化合物，例如N-乙烯基-s-己内酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、2-乙烯基吡咬、3-乙烯基吡咬、4-乙烯基吡咬、2-乙烯基咪唑和4-乙烯基咪唑。所述另外的含酸敏基团的苯乙烯化合物中的一价酸敏基团的实例包括取代的甲基、1-取代的乙基、l-支化烷基、三有机甲硅烷基、三有机甲锗烷基、烷氧羰基、酰基和一价环状酸敏基。取代的甲基的实例包括曱氧甲基、甲石危甲基、乙氧曱基、乙石危曱基、(2-甲氧乙氧基)甲基、节氧甲基、节硫曱基、苯甲酰甲基、溴苯曱酰甲基、甲氧苯甲酰甲基、甲硫苯甲酰甲基、a-甲基苯曱酰甲基、环丙基甲基、爷基、二苯基甲基、三苯基甲基、溴节基、硝基节基、曱氧千基、甲硫节基、乙氧节基、乙硫节基、胡椒基、甲氧羰甲基、乙氧羰甲基、正丙氧羰甲基、异丙氧羰甲基、正丁氧羰甲基和叔丁氧羰甲基。1-取代的乙基的实例包括1-甲氧乙基、1-甲硫乙基、1,1-二曱氧乙基、l-乙氧乙基、l-乙疏乙基、l，l-二乙氧乙基、l-乙氧丙基、l-丙氧乙基、1-环己氧乙基、l-苯氧乙基、l-苯硫乙基、l，l-二苯氧乙基、l-节氧乙基、l-节硫乙基、l-环丙乙基、l-苯乙基、l，l-二苯乙基、1-甲氧羰乙基、1-乙氧羰乙基、1-正丙氧羰乙基、1-异丙氧羰乙基、1-正丁氧羰乙基和1-叔丁氧羰乙基。1-支化烷基的实例包括异丙基、l-甲基丙基、l，l-二曱基丙基、1-甲基丁基和1,1-二甲基丁基。三有机曱硅烷基的实例包括三曱基甲硅烷基、乙基二甲基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、三乙基曱硅烷基、异丙基二甲基甲硅烷基、甲基二异丙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、甲基二叔丁基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、苯基二甲基甲硅烷基、曱基二苯基甲硅垸基和三苯基甲硅烷基。三有机甲锗烷基的实例包括三曱基甲锗烷基、乙基二曱基曱锗烷基、甲基二乙基甲锗烷基、三乙基甲锗烷基、异丙基二甲基甲锗烷基、甲基二异丙基甲锗烷基、三异丙基甲锗烷基、叔丁基二甲基甲锗烷基、甲基二叔丁基甲锗烷基、三叔丁基甲锗烷基、苯基二甲基甲锗烷基、甲基二苯基曱锗烷基和三苯基甲锗烷基。烷氧羰基的实例包括甲氧羰基、乙氧羰基、异丙氧羰基和叔丁氧羰基。酰基的实例包括乙酰基、丙酰基、丁酰基、庚酰基、己酰基、戊酰基、新戊酰基、异戊酰基、月桂酰基、肉豆寇酰基、棕榈酰基、硬脂酰基、草酰基、丙二酰基、琥珀酰基、戊二酰基、已二酰基、胡椒酰基、辛二酰基、壬二酰基、癸二酰基、丙烯酰基、丙炔酰基、曱基丙烯酰基、巴豆酰基、油酰基、马来酰基、富马酰基、中康酰基、樟脑酰基、苯甲酰基、邻苯二甲酰基、间苯二甲酰基、对苯二甲酰基、萘酰基、甲苯酰基、氬化阿托酰基、阿托酰基、肉桂酰基、糠酰基、噻吩甲酰基、烟酰基、异烟酰基、对甲苯磺酰基和甲磺酰基。此外，一价环状酸敏基的实例包括环丙基、环戊基、环己基、环己烯基、4-甲氧基环己基、四氢呋喃基、四氢吡喃基、四氢噻吩基、四氢噻喃基、3-溴四氢吡喃基、4-甲氧基四氢吡喃基、4-甲氧基四氢蓉喃基和3-四氢漆吩-l,l-二氧化物基团。这些一价酸敏基团中，优选苄基、l-甲氧乙基、l-乙氧乙基、三甲基甲硅烷基、叔丁氧羰基、叔丁氧羰甲基、四氢呋喃基、四氢吡喃基、四氢噢汾基或四氢漆喃基等。优选用在本发明中的另外的重复单元的实例包括通过使化合物中的可聚合不饱和键断裂得到的单元，所述化合物例如4-(l-乙氧乙氧基)苯乙烯、4-(l-乙氧乙氧基)-a-曱基苯乙烯、4-(2-乙基-2-丙氧基)苯乙烯、4-(2-乙基-2-丙氧基)-a-甲基苯乙烯和苯乙烯。在树脂(B)中，这些另外的重复单元可以单独存在或者以它们中两种或更多种的组合存在。树脂(B)还可以具有支化单元(在下文中，称为"酸敏支化单元")，其中通过使可聚合不饱和键断裂形成的两个或更多个结构单元通过酸敏连接基结合。具有这样的酸敏支化单元的树脂(B)给出粘度比没有支化单元的线型树脂低的树脂溶液。结果，产生分子量较高的树脂，从而进一步改善抗蚀剂的耐热性并改善分辨率。此外，降低了聚合物的分子链活动性，导致抑制热变形并改善耐热性。此外，在酸的作用下使酸敏连接基解离，从而使树脂中的支化单元断裂，以产生较低分子量的树脂，导致在酸存在下树脂溶解性的进一步改善并改善分辨率。优选用在酸敏支化单元中的酸敏连接基的实例包括由下式(8)表示的二价酯基和由下式(9)表示的二价碳酸酯基<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>(8〉<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>(9〉其中，在式(8)和(9)中，每个R"独立地表示具有1~5个碳原子的烷基或具有6~14个碳原子的芳基。例如可以通过由下式(IO)~(12)表示的任意多元醇与具有一个可聚合不饱和键的一价羧酸进行酯化反应来合成给出具有由式(8)表示的二价酯基的酸敏支化单元的可聚合不饱和单体<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>16其中，在式(10)中，每个R15与式(8)和(9)中的每个R"相同，R表示i价有机基团(前提是可以具有一个或更多个伯醇羟基或仲醇鞋基)或者在1=2时表示单键，并且i是24的任意整数，其中，在式(ll)中，每个R15与式(8)和(9)中的每个R"相同，R17表示具有1~5个碳原子的烷基(前提是可以具有一个或更多个伯羟基或仲羟基)，j是24的任意整数，a是04的任意整数，并且(j+a)S6，以及其中，在式(12)中，每个R15与式(8)和(9)中的每个R"相同，R18表示具有1~5个碳原子的烷基(前提是可以具有一个或更多个伯羟基或仲羟基)，R19表示x价有机基团(前提是可以具有一个或更多个伯羟基或仲羟基)、-O-、-S-、-CO-或-SOr，k是l或2，b是03的任意整数，x是24的任意整数。作为替代方案，例如可以通过如下步骤合成给出具有由式(9)表示的二价碳酸酯基的酸敏支化单元的可聚合不饱和单体利用光气等将由式(10)~(12)表示的任意多元醇转化为聚(氯曱酸酯)，以及使该聚(氯甲酸酯)与具有一个可聚合不饱和键的一元醇进行酯化反应。由式(10)表示的多元醇的实例包括二元醇，例如2,3-二甲基-2，3-丁二醇、2,3-二乙基-2，3-丁二醇、2，3-二正丙基-2，3-丁二醇、2，3-二苯基國2,3-丁二醇、2,4-二甲基-2，4-戊二醇、2,4-二乙基-2，4-戊二醇、2，4-二正丙基-2,4-戊二醇、2，4-二苯基-2,4-戊二醇、2,5-二甲基-2，5-己二醇、2,5-二乙基-2，5-己二醇、2，5-二正丙基-2,5-己二醇、2,5-二苯基-2，5-己二醇、2，6-二曱基-2,6-庚二醇、2，6-二乙基-2,6-庚二醇、2，6-二正丙基-2，6-庚二醇、2，6-二苯基-2，6-庚二醇、2，7-二曱基-2，7-辛二醇、2，7-二乙基-2,7國辛二醇、2,7-二正丙基-2,7-辛二醇和2，7-二苯基-2,7-辛二醇；三元醇，例如2,4-二甲基-2,4-二羟基-3-(2-羟丙基)戊烷、2,4-二乙基-2,4-二羟基-3-(2-羟丙基)戊烷、2,5-二甲基-2,5-二羟基-3-(2-羟丙基)己烷和2,5-二乙基-2,5-二羟基-3-(2-羟丙基)己烷；以及四元醇，例如2，4-二甲基-2,4-二羟基-3，3-二(2-羟丙基)戊烷、2,4-二乙基-2，4-二羟基-3,3-二(2-羟丙基)戊烷、2,5-二曱基-2,5-二羟基-3,4-二(2-羟丙基)己烷和2,5-二乙基-2，4-二羟基-3,4-二(2-羟丙基)己烷。作为替代方案，由式(ll)表示的多元醇的实例包括1，4-二(2-羟丙基)苯、1,3-二(2-羟丙基)苯、1，3,5-三(2-羟丙基)苯和1,2,4,5-四(2-羟丙基)苯。作为替代方案，由式(12)表示的多元醇的实例包括2,2-二{4-(2-羟丙基)苯基}丙烷、1，2,2-三{4-(2-羟丙基)苯基}丙烷、1,2，3,4-四{4-(2-羟丙基)苯基}丁烷、二{4-(2-羟丙基)苯基}醚、二{4-(2-羟丙基)苯基}硫醚、二{4-(2-羟丙基)苯基}酮和二{4-(2-羟丙基)苯基}砜。这些多元醇中，优选由式(10)表示的多元醇。更优选使用2,3-二甲基-2，3-丁二醇、2,4-二甲基-2,4-戊二醇、2，5-二曱基-2,5-己二醇、2,6-二曱基-2,6-庚二醇、2,7-二甲基-2,7-辛二醇等。尤其优选使用2，5-二甲基-2,5-己二醇。此外，用于合成出具有由式(8)表示的二价酯基的酸敏支化单元的可聚合不饱和单体的具有一个可聚合不饱和键的一价羧酸的实例包括(甲基)丙烯酸、巴豆酸、肉桂酸、马来酸、富马酸、衣康酸、2-(甲基)丙烯酰氧乙基羧酸和4-(甲基)丙烯醜氧环己基羧酸。作为替代方案，用于合成出具有由式(9)表示的二价碳酸酯基的酸敏支化单元的可聚合的不饱和单体的具有一个可聚合不饱和键的一元醇的实例包括羟基苯乙烯，例如2-羟基苯乙烯、3-羟基苯乙烯、4-羟基苯乙烯、2-异丙烯基苯酚、3-异丙烯基苯酚和4-异丙烯基苯酚；以及(甲基)丙烯酸羟烷基酯，例如(甲基)丙烯酸-2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸3-羟丁酯和(甲基)丙烯酸-4-羟丁酯。在本发明中，酸敏支化单元优选为由下式(5)表示的单元，其具体实例包括通过使化合物中的两个可聚合不饱和键断裂得到的单元，所述化合物例如2，5-二甲基己烷-2,5-二丙烯酸酯、2，6-二曱基庚烷-2，6-二丙烯酸酯和2，7-二曱基辛烷-2，7-二丙烯酸酯<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>其中，在式(5)中，每个1112独立地表示氢原子或甲基，r是04的任意整数。在树脂(B)中，这些酸敏支化单元可以单独存在或者以它们中两种或更多种的组合存在。特别优选用在本发明中的树脂(B)的具体实例包括4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯共聚物、4-羟基苯乙烯/4-叔丁氡基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯共聚物、4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/4-(1-乙氧乙氧基)苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/4-叔丁|1&苯乙烯/苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯/4-(1-乙氧乙IUO苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯/苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯/4-(1-乙氧乙氧基)苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯/苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/2,5-二甲基己烷-2,5-二(甲基)丙烯酸酯共聚物和4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯/2，5-二甲基己烷-2,5-二(甲基)丙烯酸酯共聚物。在树脂(B)中，重复单元(2)的含量优选为60~80mol%,尤其优选<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>为6575mo1。/。。重复单元(3)和(4)的总含量优选为10~40mol%,尤其优选为10~35mol%。另外的重复单元的含量通常为25mol。/o以下，优选为10moP/Q以下。酸敏支化单元的含量通常为10moP/。以下，优选5molQ/o以下。在这种情况下，如果重复单元(2)的含量低于给定范围，则抗蚀剂图案对衬底的粘附性趋于下降。另一方面，如果重复单元(2)的含量超过给定范围，则显影后的对比度趋于下降。另外，如果重复单元(3)和(4)的总含量低于给定范围，则分辨率趋于下降。另一方面，如果重复单元(3)和(4)的总含量超过给定范围，则抗蚀剂图案对衬底的粘附性趋于下降。另外，如果另外的重复单元的含量超过给定值，则抗蚀剂图案对衬底的粘附性趋于下降或者分辨率趋于下降。此外，如果酸敏支化单元的含量超过给定值，则所得的树脂在溶剂中的溶解性趋于下降。通过凝胶渗透色镨(GPC)测量的树脂(B)的换算为聚苯乙烯的重均分子量(在下文中，称为"Mw")优选为1,000~150,000，更优选3,000~100,000。另外，Mw与通过凝胶渗透色镨(GPC)测量的树脂(B)的换算为聚苯乙烯的数均分子量(在下文中，称为"Mn")的比(Mw/Mn)通常为1~10,优选为1~5。在本发明中，这些树脂(B)可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物^f吏用。添加剂优选本发明的辐射敏感树脂组合物还应该含有酸扩^L控制剂，该酸扩散控制剂具有控制由产酸剂(A)在曝光时产生的酸在抗蚀剂膜中的扩散现象的作用，以《更抑制非曝光区中的不希望的化学反应。使用这样的酸扩散控制剂进一步改善组合物的储存稳定性并改善作为抗蚀剂的分辨率。另外，使用这样的酸扩散控制剂防止抗蚀剂图案的线宽由于在从曝光到曝光后热处理的曝光后延迟(PED)的波动而改变，从而具有极好的工艺稳定性。所述酸扩散控制剂优选为在抗蚀剂图案形成步骤中其碱度不随曝光或热处理而改变的含氮有机化合物。这样的含氮有机化合物的实例包括由下式(13)表示的化合物(在下文中，称为"含氮化合物(i)"):R幼一N—R幼(13)其中，在式(13)中，每个R"独立地表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基，并且这些烷基、芳基和芳烷基中的每一个可以被取代；在一个分子中具有两个氮原子的二氨基化合物(在下文中，称为"含氮化合物(ii)");在一个分子中具有三个或更多个氮原子的二氨基聚合物(在下文中，称为"含氮化合物(iii)");以及含有酰胺基的化合物、脲化合物、含氮杂环化合物和N,N-二曱基丙烯酰胺聚合物(共聚物)。含氮化合物(i)的实例包括线型、支化或环状一烷基胺，例如正己胺、正庚胺、正辛胺、正壬胺、正癸胺和环己胺；线型、支化或环状二烷基胺，例如二正丁胺、二正戊胺、二正己胺、二正庚胺、二正辛胺、二正壬胺、二正癸胺、甲基环己基胺和二环己胺；线型、支化或环状三烷基胺，例如三乙胺、三正丙胺、三正丁胺、三正戊胺、三正己胺、三正庚胺、三正辛胺、三正壬胺、三正癸胺、环己基二甲基胺、甲基二环己基胺和三环己胺；线型、支化或环状烷醇胺，例如乙醇胺、二乙醇胺和三乙醇胺；以及芳族胺，例如苯胺、N-甲基苯胺、N,N-二甲基苯胺、2-甲基苯胺、3-甲基苯胺、4國甲基苯胺、4-硝基苯胺、二苯胺、三苯胺和l-萘胺。含氮化合物(ii)的实例包括乙二胺、N,N，N'，N'-四甲基乙二胺、N，N，N'，N'，-四(2-羟丙基)乙二胺、四亚甲基二胺、六亚甲基二胺、4,4'-二氨基二苯基甲烷、4，4'-二絲二苯基醚、4,4'-二絲苯曱酮、4,4'-二絲二苯胺、2,2'-二(4-樣苯基)丙烷、2-(3-絲苯基)-2-(4-絲苯基)丙烷、2-(4画氨基苯基)-2-(3-羟基苯基)丙烷、2-(4-氨基苯基)-2-(4-羟基苯基)丙烷、1,4-二[l-(4-狄苯基)-l-甲基乙基苯和l,3-二[l-(4-絲苯基H-甲基乙基苯。含氮化合物(iii)的实例包括聚氮丙啶、聚烯丙胺和N-(2-二甲氨基乙基)丙烯酰胺聚合物(共聚物)。含有酰胺基的化合物的实例包括甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二曱基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二曱基乙酰胺、丙酰胺、苯甲酰胺、吡咯烷酮和N-甲基吡咯烷酮。脲化合物的实例包括脲、甲基脲、1,1-二甲基脲、1，3-二甲基脲、1,1,3,3-四甲^JIU1，3-二苯基脲和三丁J^IL脲。含氮杂环化合物的实例包括咪唑，例如咪唑、苯并咪唑、4-甲基咪唑、4-甲基-2-苯基咪唑和2-苯基苯并咪唑；吡啶，例如吡啶、2-甲基吡咬、4-曱基吡啶、2-乙基吡咬、4-乙基吡啶、2-苯基他咬、4-笨基p比咬、2-甲基-4-苯基吡啶、烟碱、烟酸、烟酸酰胺、会啉、8-羟基会啉和吖啶；以及吡溱、吡唑、歧溱、查喔啉、嘌呤、吡咯烷、派咬、吗啉、4-甲基吗啉、p底溱、1,4-二甲基哌溱和1，4-二氮二环[2.2.2]辛烷。N，N-二甲基丙烯酰胺聚合物(共聚物)的实例包括4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/N，N-二甲基丙烯酰胺共聚物和4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/苯乙烯/N，N-二甲基丙烯酰胺共聚物。此外，可以将具有酸敏基团的碱前体(例如，N-(叔丁氧g)哌咬、N-(叔丁氧g)咪唑、N-(叔丁氧n)苯并咪唑、N-(叔丁氧g)-2苯基苯并咪唑、N-(叔丁氧n)二正辛胺、N-(叔丁氧n)二乙醇胺、N-(叔丁氧n)二环己胺或N-(叔丁氧a^)二苯胺)用作起酸扩散控制剂作用的含氮有机化合物。这些含氮有机化合物中，优选含氮化合物(i)、含氮杂环化合物、N,N-二甲基丙烯酰胺聚合物(共聚物)、具有酸M团的碱前体等。这些酸扩散控制剂可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物使用。相对于100重量份含酸敏基团的树脂或可溶于碱的树脂，所用的酸扩1t控制剂的量通常为15重量份以下，优选0.001~10重量份，尤其优选0.0055重量份。在这种情况下，如果所用的酸扩散控制剂的量超过给定值，则作为抗蚀剂的感度或曝光区的可显影性趋于下降。如果所用的酸扩散控制剂的量小于0.001重量份，则在某些工艺条件下抗蚀剂图案的图案外形或尺寸保真度可能降低。本发明的辐射敏感树脂组合物中还可以添加含氛基的蒽衍生物。含羧基的蒽衍生物的具体实例包括蒽-9-羧酸、蒽-9，10-二羧酸、10-羧甲基蒽-9-羧酸、10-甲氧羰基蒽-9-羧酸、10-叔丁氧羰基蒽-9-羧酸、10-甲氧羰甲基蒽-9-羧酸和10-叔丁氧羰甲基蒽-9-羧酸。这些含氛基的蒽衍生物可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物使用。相对于100重量份含酸敏基团的树脂或可溶于碱的树脂，所用的含氛基的蒽衍生物的量通常为40重量份以下，更优选20重量份以下，尤其优选10重量份以下。在这种情况下，如果所用的含羧基的蒽衍生物的量超过给定量，则感度趋于下降。此外，还可以向本发明的辐射敏感树脂组合物中添加除了含氣基的蒽衍生物之外的染料(在下文中，称为"额外的染料")。额外的染料优选具有高的远紫外线吸收性的任何物质。其实例包括其它的蒽衍生物，例如蒽-9-羧酸曱氧絲甲酯、蒽-9-羧酸-叔丁氧羰基甲酯、9-曱氧a^甲基蒽和9-叔丁氧M^甲基蒽；咔喳衍生物，例如9-呻唑基乙酸、N-(甲氧羰基曱基)^唑和N-(叔丁氧氛基甲基)^唑；以及苯甲酮衍生物，例如苯曱酮-2-羧酸、苯曱酮-4-羧酸、苯甲酮-2-羧酸叔丁氧羰基甲酯和苯甲酮-4-羧酸叔丁氧g甲酯。这些额外的染料可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物使用。相对于含氯基的蒽衍生物和额外的染料的总量，所用的额外的染料的比例通常为20wt。/o以下，优选10wto/。以下。此外，可以向本发明的辐射敏感树脂组合物中添加表现出改善组合物的涂布性、光条紋、抗蚀剂可显影性等作用的表面活性剂。这样的表面活性剂的实例包括聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯正辛基酚醚、聚氧乙烯正壬基酚醚、聚二月桂酸乙二醇酯和聚二硬脂酸乙二醇酯，并且包括可以从市场上以例如下列商品名购得的产品EFTOPEF301、EF303和EF352(由TOHKEMPRODUCTSCORPORATION生产)，MEGAFACF171和F173(由DainipponInkandChemicals,Inc.生产)，FluoradFC430和FC431(由Sumitomo3M,Ltd.生产)，AsahiGuardAG710、SurflonS-382、SCIOI、SC102、SC103、SC104、SC105和SC106(由AsahiGlassCo.,Ltd.生产)，KP341(由Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd，生产)以及PolyflowNo.75和No.95(由KyoeishaChemicalCo.，Ltd.生产)。这些表面活性剂可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物使用。相对于100重量份含酸敏基团的树脂或可溶于碱的树脂，所用的表面活性剂的量通常为2重量份以下。此外，除了蒽衍生物(A)和额外的染料之外，本发明的辐射敏感树脂组合物可以添加例如一种或更多种玟瑰红等。相对于100重量份含酸敏基团的树脂或可溶于碱的树脂，所用的玟瑰红等的量通常为50重量份以下。另外，添加除了上述那些之外的染料和/或颜料可以使曝光区的潜像显现并在曝光时緩解光晕的影响。添加粘附助剂可以改善对衬底的粘附性。此外，还可以向其中加入防光晕剂(例如4-羟基-4'-甲基查耳酮)、成形改善剂(formimprover)、储存稳定剂、消泡剂等。组合物溶液在使用时，通常通过如下步骤以组合物溶液形式制备本发明的辐射敏感树脂组合物将各组分均匀地溶于溶剂中，使得总的固体含量通常落在0.1~50wt%内，优选在1~40wt%内，然后通过孔径为约0.2nm的过滤器过滤所得的组合物。用于制备所述组合物溶液的溶剂的实例包括乙二醇单烷基醚乙酸酯，例如乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单正丙醚乙酸酯和乙二醇单正丁醚乙酸酯；丙二醇单烷基醚，例如丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚和丙二醇单正丁醚；丙二醇二烷基醚，例如丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、丙二醇二正丙醚和丙二醇二正丁醚；丙二醇单烷基醚乙酸酯，例如丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单正丙醚乙酸酯和丙二醇单正丁醚乙酸酯；脂肪族羧酸酯，例如甲酸正戊酯、甲酸异戊酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸异丙酯、丙酸正丁酯和丙酸异丁酯；乳酸酯，例如乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯和乳酸异丙酯；其它酯，例如羟基乙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、3-甲氧基丙酸曱酯、3-曱氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、丙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、丁酸3-甲基-3-曱氧基丁酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、丙酮酸甲酯和丙酮酸乙酯；芳香烃，例如曱苯和二甲苯；酮，例如甲基乙基酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮和环己烷；酰胺，例如N-曱基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮；以及内酯，例如Y-丁内酯。这些溶剂可以单独使用或者以它们中两种或更多种的混合物使用。抗蚀剂图案的形成为了由本发明的辐射敏感树脂组合物形成抗蚀剂图案，通过适当的涂覆方法(例如，旋涂法、流延涂布法或辊涂法)将由此制备的组合物溶液涂覆在衬底(例如，硅晶片或覆铝晶片)上，以形成抗蚀剂膜。在任选的预先在约70~160。C的温度下的热处理或预烘焙(在下文中，称为"PB")之后，通过指定掩模图案使抗蚀剂膜曝光。例如，优选极紫外线或远紫外线例如[KrF准分子激光(波长248nm)、ArF准分子激光(波长193nm)、F2准分子激光(波长157nm)和EUV(波长13nm等)]或带电粒子束例如电子束作为用在曝光中的辐射。根据例如另外的产酸剂的类型，也可以使用X射线(例如同步辐射)或常规紫外线[例如i射线(波长365nm)。此外，根据辐射敏感树脂组合物的配方组成、每种添加剂的类型等适当地选择曝光M例如曝光剂量。在本发明中，为了稳定地形成高度精确的精细抗蚀剂图案，优选在曝光后，在70~160。C的温度下进行30秒以上的热处理或曝光后烘焙(在下文中，称为"PEB，，)。在这种情况下，如果PEB温度低于70'C，贝'J感度可能在较大程度上随衬底的类型而变化。然后，通过在通常在1050。C下10~200秒、优选1530'C下15~100秒、尤其优选在2025。C下15~卯秒的条件下利用碱性显影液显影形成指定抗蚀剂图案。例如，将含有以通常为1~10wt%、优选1~5wt%、尤其优选1~3wt的浓度溶解的碱性化合物(例如，碱金属氢氧化物、氨水、单烷基胺、二烷基胺或三烷基胺、单烷醇胺、二烷醇胺或三烷醇胺、杂环胺、四烷基铵氢氧化物、胆碱、1,8-二氮杂双环-[5.4.0-7-十一碳烯或1,5-二氮杂双环-[4.3.0卜5-壬烯)的碱性水溶液用作碱性显影液。例如，还可以将适量可溶于水的有机溶剂(例如曱醇或乙醇)或表面活性剂加入所述碱性水溶液中。在形成这样的抗蚀剂图案的过程中，可以将保护膜设置在抗蚀剂膜上，以避免包含在环境或气氛中的碱性杂质等的影响。图1是显示测量由驻波引起的线宽波动值测定结果的一个实例的图；图2是用于描述由驻波引起的图案外形劣化程度评价方法的线图案纵剖面的示意图；图3是用于描述纳米边缘粗糙度评价方法的线图案纵剖面示意图；图4是用于描述LEF评价方法的图案的平面示意图；以及图5是显示用于描述LEF评价方法的图案平面观察结果的一个实例的图。具体实施方式在下文中，将参照附图更具体地描述本发明。然而，本发明不以任何方式受限于这些实例。合成例1将101g4-乙酰氧基苯乙烯、42g4-叔丁氧基苯乙烯、5g苯乙烯、6g偶氮二异丁腈(AIBN)和lg叔十二烷基硫醇溶于160g丙二醇单甲醚中，随后在氮气氛中在保持在70。C的反应温度下聚合16小时。聚合后，将反应溶液逐滴加入到大量正己烷中，固化所产生的树脂并纯化。随后，向该已纯化的树脂中再次加入150g丙二醇单曱醚，再加入300g甲醇、80g三乙胺和15g水。当混合物在沸点下回流时，进行水解反应8小时。反应后，减压蒸出溶剂和三乙胺。将所得的树脂溶于丙酮中。然后，将该溶液逐滴加入到大量水中并固化。过滤所产生的白色粉末并在50。C下减压干燥过夜。所得的树脂的Mw=16,000，Mw/Mn=1.7，13C-NMR分析的结果是4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/苯乙烯的共聚摩尔比为72:23:5。将该树脂称为"树脂(B-1)"。在包括流量为l.Oml/分钟、四氢呋喃用作洗脱溶剂和柱温为40。C的分析条件下，利用由TOSOHCORP.生产的GPC柱(两个G2000HXL柱、一个G3000HXL柱和一个G4000HXL柱)并将单分散聚苯乙烯用作标准物，通过凝胶渗透色谱法(GPC)测量树脂(B-1)和在下面的合成例2~4中得到的每种树脂的Mw和Mw/Mn。合成例2将100g4-乙酰氧基苯乙烯、25g丙烯酸叔丁酯、18g苯乙烯、6gAIBN和lg叔十二烷基硫醇溶于230g丙二醇单曱醚中，随后在氮气氛中在保持在70'C的反应温度下聚合16小时。聚合后，将反应溶液逐滴加入到大量正己烷中，固化所产生的树脂并纯化。随后，向该已纯化的树脂中再次加入150g丙二醇单甲醚，再加入300g甲醇、80g三乙胺和15g水。当混合物在沸点下回流时，进行水解反应8小时。反应后，减压蒸出溶剂和三乙胺。将所得的树脂溶于丙酮中。然后，将该溶液逐滴加入到大量水中并固化。过滤所产生的白色粉末并在50'C下减压干燥过夜。所得的树脂的Mw=11,500，Mw/Mn=1.6,13C-NMR分4斤的结果是4-羟基苯乙烯/丙烯酸叔丁酯/苯乙烯的共聚摩尔比为61:19:20。将该树脂称为"树脂(B-2)"。合成例3将173g4-乙酰氧基苯乙烯、56g4-叔丁氧基苯乙烯、11g2，5-二甲基己烷-2,5-二丙烯酸酯、14gAIBN和llg叔十二烷基硫醇溶于240g丙二醇单甲醚中，随后在氮气氛中在保持在70。C的反应温度下聚合16小时。聚合后，将反应溶液逐滴加入到大量正己烷中，固化所产生的树脂并纯化，随后在50。C下减压干燥3小时。随后，向该l卯g已纯化的树脂中再次加入150g丙二醇单甲醚，再加入300g甲醇、100g三乙胺和15g水。当混合物在沸点下回流时，进行水解反应8小时。反应后，减压蒸出溶剂和三乙胺。将所得的树脂溶于丙酮中。然后，将该溶液逐滴加入到大量水中并固化。过滤所产生的白色粉末并在50。C下减压干燥过夜。所得树脂的Mw=27,000,Mw/Mn=2.6，"C-NMR分析的结果是4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/2，5-二甲基己烷-2，5-二丙烯酸酯的共聚摩尔比为75:22:3。将该树脂称为"树脂(B-3)"。合成例4在此所用的溶剂在钠金属存在下回流6小时、随后在氮气氛中蒸馏后使用。另外，每种单体在利用干燥的氮气鼓泡l小时、随后在氮气36氛中蒸馏后使用。将含有溶于200g环己烷的37.6g4-(l-乙氧乙氧基)苯乙烯、ll.Og4-叔丁氧基苯乙烯和1.4g苯乙烯的溶液置于干燥的耐压瓶中，并用具有孔的冠状瓶盖和Neoprene(商品名；由Dupont生产)垫片密封该瓶。然后，将该耐压瓶冷却到-20。C。然后，向其中依次加入2.96ml含有以1.83mol/l的浓度溶于环己烷的正丁基锂的溶液和0.98gN,N，N'，N'-四甲基乙二胺。反应在保持在-20'C的温度下进行l小时。然后，通过注入l.Og甲醇终止反应。在该步骤中，溶液由红色变为无色。结果，证实了反应的终止。随后，用200g3wt。/。的草酸水溶液清洗反应溶液。然后，向其中加入200g丙二醇单甲醚和1.5g对曱苯磺酸。通过在室温(2325。C)下搅拌3小时进行水解反应。然后，将反应溶液逐滴加入到大量水中并固化得到树脂。过滤所产生的白色粉末并在50'C下减压干燥过夜。所得的树脂的Mw=16,000，Mw/Mn=1.3，13C-NMR分才斤的结果是4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯/苯乙烯的共聚摩尔比为72:23:5。将该树脂称为"树脂(B-4)"。在本文中，通过如下方式评价每种抗蚀剂感度在变化的曝光剂量下使在硅晶片上形成的抗蚀剂膜曝光，随后立即对晶片进行PEB，随后进行碱性显影，然后用水清洗，随后干燥，以形成抗蚀剂图案。在该方法中，将形成线宽为130nm的线和空间(l:l)图案(1L1S)的曝光剂量定义为最佳曝光剂量，该最佳曝光剂量评价感度。分辨率将在最佳曝光剂量下曝光时分辨出的线和空间图案(1L1S)中的线的最小尺寸定义为分辨率。由驻波引起的线宽波动值在硅晶片上形成的抗蚀剂膜的厚度以O.Olum的增量在0.2um到0.4um范围内变化，在最佳曝光剂量下在0.3um的膜厚下利用CD(临界尺寸)扫描电子显微镜S-9220(商品名；由HitachiHigh-TechnologiesCorp.生产)测量设计线宽为130nm的线和空间图案(1L1S)的线宽。绘出测量结果的一个实例的图如图l所示。在该方法中，将在0.24~0.35um的膜厚下图案的线宽的最大值和最小值之间的差定义为"由驻波引起的线宽波动值"。由驻波引起的形状劣化度在最佳曝光剂量下利用扫描电子显微镜S-4200(商品名；由HitachiHigh-TechnologiesCorp.生产)观察线宽为130nm的线和空间图案(1L1S)中的线的截面，以测量线中粗糙区域的宽度。线的纵剖面示意图如图2所示(注意粗糙度比实际的粗糙度放大了)。在图2中，附图标记1表示线，附图标记3表示衬底。在该方法中，将所述线的侧边的粗糙度的宽度b定义为"由驻波引起的形状劣化度"。纳米边#糙度在最佳曝光剂量下利用CD扫描电子显微镜S-9220(商品名；由HitachiHigh-TechnologiesCorp.生产)，见察线宽为130nm的线和空间图案(1L1S)。线的纵剖面示意图如图3所示(注意粗糙度比实际的粗糙度放大了)。在图3中，附图标记l表示线。在该方法中，将沿着所述线的侧边出现的粗糙度的最大宽度c定义为"纳米边缘M度"。LEF:在最佳曝光剂量下利用CD扫描电子显微镜S-9220(商品名；由HitachiHigh-TechnologiesCorp.生产)观察线宽为130nm的线和空间图案(1L1S)。图案的平面示意图如图4所示，观察结果的一个实例如图5所示。图4(a)是图案的平面示意图，图4(b)是沿图4(a)中的剖面线A-A切开的线的纵剖面的局部剖面图。附图标记l表示图案中的线，附图标记t表示膜厚度，附图标记2表示图案中的空间，附图标记3表示衬底。图4(b)中的膜厚度较薄的边缘d对应于图5中看起来较白的边缘d。在该方法中，测量每条线中的边缘d的尺寸，将由在总计25条线的中央部分中的15条线确定的平均值定义为"LEF"。实施例1~13和对比例1~2混合如表l(注份是指重量份)中所示的组分，以制备均匀的溶液。然后，通过孔径为0.2nm的Teflon(注册商标)膜过滤器过滤溶液，以制备组合物溶液。随后，通过旋涂法将每种组合物溶液涂覆到硅晶片上。然后，釆用如表2所示的温度和时间对硅晶片进行PB，以形成膜厚度为0.3|im的抗蚀剂膜。然后，使用KrF准分子激光曝光装置NSR-S203B(商品名；由NikonCorp.生产)在变化的曝光剂量下通过掩模图案使每个抗蚀剂膜曝光于KrF准分子激光(波长248nm)下。然后，采用如表2所示的温度和时间对硅晶片进行PEB。然后，利用作为显影液的2.38wt。/。氢氧化四甲铵水溶液在23。C下对晶片进行60秒显影，然后用水清洗30秒，随后干燥，以形成抗蚀剂图案。每个实施例和对比例的评价结果如表3所示。在表l中，除了树脂(B)之外的各组分如下产酸剂(A)A-l:2,4-二氟糾酸2,4，6-三甲基苯基二苯基锍A-2:4-三氟甲基苯磺酸2，4，6-三甲基苯基二苯基锍A-3:N-(三氟甲磺酰IU0双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺A-4:N-(5-甲基-5-羧甲基双环[2.2.1庚烷-2-基)磺酰lL^]琥珀酰亚胺A-5:N-(九氟正丁磺酰HJ0双环[2.2.1庚-5-烯-2，3-二甲酰亚胺A-6:糾酸三苯基锍A-7:10-樟脑磺酸双(4-叔丁基苯基)碘镥酸扩散控制剂C-l:2-苯基苯并咪唑添加剂D-l:9-蒽羧酸溶剂S-l:乳酸乙酯S-2:丙二醇单曱醚乙酸酯表l<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>表2<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>工业实用性本发明的辐射敏感树脂组合物在分辨率、图案外形、密度依赖性和环境耐受性等方面极好。另外，本发明的辐射敏感树脂组合物极其有效地抑制了由基于衬底反射的驻波引起的线宽波动和图案外形劣化，还在纳米边,糙度和LEF方面得到改善。因此，本发明的辐射敏感树脂组合物尤其可用作化学放大型抗蚀剂等，用于制造可能会追求越来越精细的图案的集成电路器件。权利要求1.一种辐射敏感树脂组合物，其特征在于包含(A)辐射敏感产酸剂，所述辐射敏感产酸剂包含具有由下式(l-a)表示的结构和由下式(l-b)表示的结构的化合物，和磺酰亚胺化合物，(1-a)(1-b)其中，在式(l-a)中，每个R1、每个I^和每个RS独立地表示氬原子、羟基、具有1~10个碳原子的线型、支化或环状烷基、具有110个碳原子的线型、支化或环状烷lL基、或叔丁氧羰基甲氣基，并且满足下列4Ht中的至少一个条件两个或更多个Ri分别是除氬原子之外的基团，两个或更多个R2分别是除氢原子之外的基团，和两个或更多个R3分别是除氲原子之外的基团，以及其中，在式(l-b)中，每个议4独立#示氢原子、氟原子或三氟甲基，并且一个或更多个W分别是氟原子或三氟甲基。2.根据权利要求l的辐射敏感树脂组合物，其特征在于还包含(B)具有由下式(2)表示的重复单元、由下式(3)表示的重复单元和/或由下式(4)表示的重复单元的树脂<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(4)其中，在式(2)中，RS表示氢原子或甲基，W表示除叔丁氧基和-O-Z(Z是除叔丁基之外的一价酸敏基团)之外的一价有机基团，m是0~3的任意整数，n是l3的任意整数，多个W可以彼此相同或不同，其中，在式(3)中，W表示氢原子或甲基，RS表示除叔丁氧基和-O-Z(Z是除叔丁基之外的一价酸敏基团)之外的一价有机基团，R"表示叔丁基，p是03的任意整数，q是l3的任意整数，多个议8可以彼此相同或不同，以及其中，在式(4)中，R"表示氢原子或甲基，R"表示叔丁基。3.根据权利要求2的辐射敏感树脂组合物，其中所述作为组分(B)的树脂是还具有支化单元的树脂，在所述支化单元中由可聚合的不饱和键断裂形成的两个或更多个结构单元通过酸敏连接基结合。4.根据权利要求3的辐射敏感树脂组合物，其中在所述作为组分(B)的树脂中的所述支化单元是由下式(5)表示的单元，其中由可聚合的不饱和键断裂形成的两个结构单元通过酸敏连接基结合<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>其中，在式(5)中，每个R"独立地表示氢原子或甲基，r是04的任意整数。5.根据权利要求l的辐射敏感树脂组合物，其特征在于组分(A)中的磺酰亚胺化合物由下式(6)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>其中，在式(6)中，X表示二价基团，例如亚烷基、亚芳基或亚烷氧基，R"表示一价基团，例如烷基、芳基、卣代烷基或g代芳基。6.根据权利要求l的辐射敏感树脂组合物，其特征在于组分(A)中的具有由式(l-a)表示的结构和由式(l-b)表示的结构的化合物是2,4-二氟苯磺酸2，4,6-三甲基苯基二苯基锍或4-三氟甲基苯磺酸2，4，6-三甲基苯基二苯基锍。全文摘要本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含在分辨率性能、热稳定性和储存稳定性方面极好的辐射敏感产酸剂，该组合物抑制由驻波引起的线宽波动和图案外形劣化，并提供在纳米边缘粗糙度和LEF方面改善的抗蚀剂图案。所述辐射敏感树脂组合物的特征在于(A)包含锍盐化合物和磺酰亚胺化合物的辐射敏感产酸剂，所述锍盐化合物例如2，4-二氟苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍等。优选的是所述组合物还包含(B)树脂，例如4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯等。文档编号G03F7/039GK101313246SQ200680043960公开日2008年11月26日申请日期2006年11月21日优先权日2005年11月25日发明者永井智树,矢田勇二申请人:Jsr株式会社