光模块、电子设备、食物分析装置以及分光照相机的制造方法

技术特征：
1.一种光模块，其特征在于，包括波长可变干涉滤波器以及向所述波长可变干涉滤波器施加电压的电压控制部，所述波长可变干涉滤波器包括第一反射膜、隔着反射膜间间隙与所述第一反射膜相对的第二反射膜、以及通过施加电压来改变所述反射膜间间隙的量的静电致动器部，所述静电致动器部包括第一静电致动器以及第二静电致动器，所述电压控制部包括：偏压施加单元，对所述第一静电致动器施加偏压；间隙检测单元，检测所述反射膜间间隙的量；以及反馈电压施加单元，对所述第二静电致动器施加与通过所述间隙检测单元检测出的所述反射膜间间隙的量相对应的反馈电压，所述偏压被施加以使所述第二静电致动器的灵敏度为固定。2.根据权利要求1所述的光模块，其特征在于，所述偏压施加单元对所述第一静电致动器施加所述反射膜间间隙变化规定的量所需的所述反馈电压变为规定电压值的所述偏压。3.根据权利要求2所述的光模块，其特征在于，所述波长可变干涉滤波器包括：第一基板，所述第一基板设置于所述第一反射膜及所述第二反射膜中的一个反射膜；以及第二基板，所述第二基板与所述第一基板相对设置且设置于所述第一反射膜及所述第二反射膜中的另一个反射膜，所述第一静电致动器包括：设置于所述第一基板的第一电极、以及设置于所述第二基板且隔着第一间隙与所述第一电极相对的第二电极，所述第二静电致动器包括：设置于所述第一基板的第三电极、以及设置于所述第二基板且隔着间隙与所述第三电极相对的第四电极，在将所述第二基板具有的弹簧系数设为k、将所述间隙的介电常数设为ε、将在从所述第一基板及所述第二基板的基板厚度方向俯视观察时所述第一电极及所述第二电极相互重叠的区域的面积设为Sb、将在所述俯视时所述第三电极及所述...