电子照相感光体、处理盒和成像装置制造方法
【专利摘要】本发明提供一种电子照相感光体，其包括：导电基体；设置在所述导电基体上的电荷发生层；设置在所述电荷发生层上的电荷输送层，该电荷输送层被构造为包含电荷输送材料和聚碳酸酯；以及设置在所述电荷输送层上的最外表面层，该最外表面层由含有链聚合性化合物的组合物形成的固化膜构成，该链聚合性化合物在同一分子中至少具有电荷输送骨架和链聚合性官能团，并且所述最外表面层具有由以下等式(1)表示的从0.1至0.3的A值，以及由以下等式(2)表示的0.02以下的B值，所述A和B值均由衰减全反射傅里叶变换红外光谱确定：·等式(1)A=(S1/S13)-(S0/S03)；·等式(2)B=S2/S23。
【专利说明】电子照相感光体、处理盒和成像装置
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及电子照相感光体、处理盒和成像装置。
【背景技术】
[0002]通常，电子照相成像装置具有以下构造和程序。即:通过充电装置将电子照相感光体的表面充电至所限定的极性和电位，并通过成像方式曝光而从所述电子照相感光体的带电表面选择性消除电荷，从而形成静电潜像。然后通过显影单元使调色剂附着于所述静电潜像，从而使所述潜像显影形成调色剂图像，通过转印单元将所述调色剂图像转印到转印介质上，然后转印介质作为成像材料而排出。
[0003]已经提出(例如)在电子照相感光体的表面上设置保护层来增大强度。
[0004]例如，日本专利N0.3287678 (专利文献I)公开了一种将导电性粉末分散在酚树脂中的材料体系JP-A-2000-019749 (专利文献2)公开了一种使用有机-无机杂化材料的材料体系；JP-A-2002-82469(专利文献3)公开了一种使用醇溶性电荷输送材料和酚树脂的材料体系JP-A-62-251757 (专利文献4)公开了一种由烷基醚化苯并胍胺/甲醛树脂和电子接受羧酸或电子接受多元羧酸酐形成的固化膜；JP-A-7-146564(专利文献5)公开了一种用碘、有机磺酸化合物、三氯化铁等掺杂苯并胍胺树脂形成的固化膜；并且JP-A-2006-84711(专利文献6)公开了一种由特定添加剂与酚树脂、三聚氰胺树脂、苯并胍胺树脂、硅氧烷树脂或聚氨酯树脂形成的固化膜。
[0005]此外，由丙烯酸类材料形成的保护层近年来受到越来越多的关注。
[0006]例如，JP-A-5-40360 (专利文献7)公开了一种通过涂布含有光固化性丙烯酸单体的溶液并将其固化而形成的膜JP-A-5-216249 (专利文献8)公开了一种通过利用热能或光能，使具有碳-碳双键的单体、具有碳-碳双键的电荷转移材料、和粘合剂树脂的混合物进行所述单体的碳-碳双键与所述电荷转移材料的碳-碳双键之间的反应，从而形成的膜；并且JP-A-2000-206715 (专利文献9)公开了一种由以下化合物形成的膜:所述化合物通过使在同一个分子中具有两个或更多个链聚合性官能团的空穴传输化合物聚合而得到。
[0007]这些丙烯酸类材料强烈地受固化条件、固化气氛等影响，例如JP-A-2004-12986(专利文献10)公开了一种通过加热丙烯酸类材料而形成的膜，其中所述加热是(例如)在真空或惰性气体中、在用放射线照射之后进行的，并且JP-A-7-72640 (专利文献11)公开了一种通过在惰性气体中加热并固化丙烯酸类材料而形成的膜。
[0008]此外，专利文献8和JP-A-2004-302450 (专利文献12)公开了将电荷输送材料本身进行丙烯酸改性以使其可交联，并向其中添加不具有电荷输送性能的反应单体。
【发明内容】
[0009]本发明的目的是提供一种电子照相感光体，该电子照相感光体具有电特性和耐擦伤性优异的最外表面层。
[0010]根据本发明的第一个方面，提供了一种电子照相感光体，其包括:
[0011]导电基体；
[0012]设置在所述导电基体上的电荷发生层；
[0013]设置在所述电荷发生层上的电荷输送层,该电荷输送层被构造为包含电荷输送材料和聚碳酸酷；以及
[0014]设置在所述电荷输送层上的最外表面层，该最外表面层由含有链聚合性化合物的组合物形成的固化膜构成，所述链聚合性化合物在同一分子中至少具有电荷输送骨架和链聚合性官能团，并且所述最外表面层具有由以下等式(I)表示的从0.1至0.3的A值，以及由以下等式(2)表示的0.02以下的B值，所述A和B值均由衰减全反射傅里叶变换红外光谱确定:
[0015].等式(I) A= (S1/S13) - (S0/S03)，
[0016]?等式(2)B=S2/S23，
[0017]其中在等式⑴和⑵中，
[0018]SI表不基于所述最外表面层中的单取代苯的峰(在1750cm-1至71501^1范围内的峰)的峰面积；
[0019]S13表示基于所述最外表面层的芳族化合物的C=C伸缩振动的峰(在1500cm-1至1525CHT1范围内的峰)的峰面积；
[0020]SO表示基于经洗漆的所述最外表面层的单取代苯的峰(在68501^1至715CHT1范围内的峰)的峰面积；
[0021]SO 3表示基于经洗涤的所述最外表面层的芳族化合物的C=C伸缩振动的峰(在1500cm 1至1525cm 1范围内的峰)的峰面积；
[0022]S2表示基于所述最外表面层的聚碳酸酯的C=O键的峰(在1750CHT1至lSOOcnT1范围内的峰)的峰面积；以及
[0023]S23表示基于所述最外表面层的芳族化合物的C=C伸缩振动的峰(在1500cm-1至1525cm-1范围内的峰)的峰面积。
[0024]根据本发明的第二个方面，在根据第一个方面所述的电子照相感光体中，所述聚碳酸酯为溶解度参数为11.40至11.75的聚碳酸酯共聚物，所述溶解度参数是通过Feders方法计算的。
[0025]根据本发明的第三个方面，在根据第二个方面所述的电子照相感光体中，所述聚碳酸酯共聚物具有溶解度参数为12.20至12.40的重复结构单元，所述溶解度参数是通过Feders方法计算的。
[0026]根据本发明的第四个方面，在根据第二个方面所述的电子照相感光体中，所述聚碳酸酯共聚物为具有由下式(PC-1)表示的重复结构单元的聚碳酸酯共聚物:
[0027]
【权利要求】
1.一种电子照相感光体,其包括: 导电基体； 设置在所述导电基体上的电荷发生层； 设置在所述电荷发生层上的电荷输送层，该电荷输送层被构造为包含电荷输送材料和聚碳酸酯；以及 设置在所述电荷输送层上的最外表面层，该最外表面层由含有链聚合性化合物的组合物形成的固化膜构成，所述链聚合性化合物在同一分子中至少具有电荷输送骨架和链聚合性官能团，并且所述最外表面层具有由以下等式(I)表示的从0.1至0.3的A值，以及由以下等式(2)表示的0.02以下的B值，所述A和B值均由衰减全反射傅里叶变换红外光谱确定: ?等式(1)A=(S1/S13)-(S0/S03)， ?等式(2)B=S2/S23， 其中在等式(I)和⑵中， SI表示基于所述最外表面层中的单取代苯的峰(在68501^1至7150cm-1范围内的峰)的峰面积； S13表示基于所述最外表面层的芳族化合物的C=C伸缩振动的峰(在1500cm-1至1525Cm-1范围内的峰)的峰面积； SO表示基于经洗涤的所述最外表面层的单取代苯的峰(在685Cm-1至715Cm-1范围内的峰)的峰面积； S03表示基于经洗涤的所述最外表面层的芳族化合物的C=C伸缩振动的峰(在l5OOcm-1至1525Cm-1范围内的峰)的峰面积； S2表示基于所述最外表面层的聚碳酸酯的C=O键的峰(在1750Cm-1至1800Cm-1范围内的峰)的峰面积；以及 S23表示基于所述最外表面层的芳族化合物的C=C伸缩振动的峰(在1500cm-1至1525cm-1范围内的峰)的峰面积。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中所述聚碳酸酯为溶解度参数为11.40至11.75的聚碳酸酯共聚物，所述溶解度参数是通过Feders方法计算的。
3.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其中所述聚碳酸酯共聚物具有溶解度参数为12.20至12.40的重复结构单元，所述溶解度参数是通过Feders方法计算的。
4.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其中所述聚碳酸酯共聚物为具有由下式(PC-1)表示的重复结构单元的聚碳酸酯共聚物:
其中在式(PC-ι)中，Rpca和Rpc"各自独立地表示卤素原子、具有I至6个碳原子的烷基、具有5至7个碳原子的环烷基、或是具有6至12个碳原子的芳基；并且pea和pcb各自独立地表示O至4的整数。
5.根据权利要求4所述的电子照相感光体，其中基于所述聚碳酸酯共聚物，所述由式(PC-ι)表示的重复结构单元的比率为20摩尔％至40摩尔％。
6.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其中所述聚碳酸酯共聚物为具有由下式(PC-2)表示的重复结构单元的聚碳酸酯共聚物:
其中在式(PC-2)中，IT3和IT4各自独立地表示卤素原子、具有I至6个碳原子的烷基、具有5至7个碳原子的环烷基、或是具有6至12个碳原子的芳基；pCC和pcd各自独立地表示O至4的整数；并且Xpc表示-Crt--(条件是IT5和各自独立地表示氢原子、三氟甲基、具有I至6个碳原子的烷基、或是具有6至12个碳原子的芳基)、具有5至11个碳原子的1，1_环亚烷基、具有2至10个碳原子的α, ω -亚烷基、-0_、-S-、-S0-或-S02_。
7.根据权利要求6所述的电子照相感光体，其中所述由式(PC-2)表示的重复结构单元的比率为35摩尔％至55摩尔％。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的电子照相感光体，其中所述最外表面层的链聚合性化合物为选自由式(I)和(II)表示的链聚合性化合物中的至少一种:
其中在式⑴中，F表示电荷输送骨架；L表示包含选自由亚烷基、亚烯基、-C(=0)-、-N(R)-λ -S-和-O-构成的组中的两种或更多种的二价连接基团；1?表不氢原子、烷基、芳基或芳烷基；并且m表示I至8的整数，
其中在式(II)中，F表示电荷输送骨架；L’表示这样的(n+1)价连接基团，该(n+1)价连接基团包含选自由衍生自烷烃或烯烃的三价或四价基团、亚烷基、亚烯基、-C(=0)-、-N(R)-, -S-和-O-构成的组中的两种或更多种；R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基；m’表示I至6的整数；并且η表示2至3的整数。
9.根据权利要求8所述的电子照相感光体，其中所述由式(I)表示的链聚合性化合物为选自由式(1-a)、(1-b)、(1-c)和(1-d)表示的链聚合性化合物中的至少一种链聚合性化合物:
其中在式(1-a)中，Aral至Ara4各自独立地表示取代或未取代的芳基；Ara5和Ara6各自独立地表示取代或未取代的亚芳基；Xa表示通过组合选自亚烷基、-O-、-S-和酯基的基团而形成的二价连接基团；Da表示由下式(IA-a)表示的基团；并且acl至ac4各自独立地表示O至2的整数；条件是Da的总数为I或2:
其中在式(IA-a)中，La由*_ (CH2)an-O-CH2-表示，并且表示在*处连接至由Aral至Ara4所表示的基团的二价连接基团；并且an表示I或2的整数；
其中在式(1-b)中，Arbl至Arb4各自独立地表示取代或未取代的芳基；Arb5表示取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的亚芳基；Db表示由下式(IA-b)表示的基团；bcl至bc5各自独立地表示O至2的整数；并且bk表示O或I ;条件是Db的总数为I或2:
其中在式(IA-b)中，Lb包括由*-(CH2)bn-0-表示的基团，并且表示在*处连接至由Arbl至Arb5所表示的基团的二价连接基团；并且bn表示3至6的整数；
其中在式(1-c)中，Arel至Are4各自独立地表示取代或未取代的芳基；Are5表示取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的亚芳基；Dc表示由下式(ΙΑ-c)表示的基团；ccl至cc5各自独立地表示O至2的整数；并且ck表示O或I ;条件是Dc的总数为I至8:
其中在式(ΙΑ-c)中，U表示这样的二价连接基团，该二价连接基团包含选自由以下基团构成的组中的一个或多个基团:-C(=0)-、-N(R)-, -S-、以及通过组合-C(=0)_与-O-、-N(R)-或-S-而形成的基团；并且R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基:
其中在式(1-d)中，Ardl至Ard4各自独立地表示取代或未取代的芳基；Ard5表示取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的亚芳基；Dd表示由下式(IA-d)表示的基团；dcl至dc5各自独立地表示O至2的整数；并且dk表示O或I ;条件是Dd的总数为3至8:
其中在式(IA-d)中，Ld包括由^-(CH2)dn-O-表示的基团，并且表示在*处连接至由Ardl至Ard5所表示的基团的二价连接基团；并且dn表示I至6的整数。
10.根据权利要求9所述的电子照相感光体，其中所述由式(ΙΑ-c)表示的基团为由下式(ΙΑ-cl)表示的基团:
其中在式(IA-cl)中，cpI表示O至4的整数。
11.根据权利要求8所述的电子照相感光体，其中所述由式(II)表示的链聚合性化合物为由下式(ΙΙ-a)表示的链聚合性化合物:
其中在式(ΙΙ-a)中，Arkl至Ark4各自独立地表示取代或未取代的芳基；Ark5表示取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的亚芳基；Dk表示由下式(IIA-a)表示的基团；kcl至kc5各自独立地表示O至2的整数；并且kk表示O或I ;条件是Dk的总数为I至8:
其中在式(IIA-a)中，Lk表示这样的(kn+Ι)价连接基团，该(kn+Ι)价连接基团包含选自由衍生自烷烃或烯烃的三价或四价基团、以及亚烷基、亚烯基、-C (=0)-、-N(R)-, -S-和-O-构成的组中的两种或更多种；R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基；并且kn表示2至3的整数。
12.根据权利要求11所述的电子照相感光体，其中连接至所述由式(II)表示的化合物的F所表示的电荷输送骨架上的基团是由下式(IIA-al)或(IIA-a2)表示的基团:
其中在式(IIA-al)或(IIA_a2)中，Xkl表示二价连接基团；kql表示O或I的整数；Xk2表示二价连接基团；并且kq2表示O或I的整数。
13.根据权利要求11所述的电子照相感光体，其中连接至所述由式(II)表示的链聚合性化合物的F所表示的电荷输送骨架上的基团是由下式(IIA-a3)或(IIA-a4)表示的基
其中在式(IIA-a3)或(IIA_a4)中，Xk3表示二价连接基团；kq3表示O或I的整数；Xk4表示二价连接基团；并且kq4表示O或I的整数。
14.一种处理盒，其包括根据权利要求1至13中任意一项所述的电子照相感光体， 所述处理盒可从成像装置上拆卸下来。
15.一种成像装置，其包括: 根据权利要求1至13中任意一项所述的电子照相感光体； 充电单元，其对所述电子照相感光体的表面进行充电；静电潜像形成单元，其在所述电子照相感光体的充电表面上形成静电潜像； 显影单元，其利用含有调色剂的显影剂使在所述电子照相感光体的表面上形成的所述静电潜像显影，从而形成调色剂图像；以及 转印单元 ，其将所述调色剂图像转印至转印介质上。
【文档编号】G03G15/00GK104076625SQ201310551477
【公开日】2014年10月1日 申请日期:2013年11月7日 优先权日:2013年3月26日
【发明者】岩馆侑子, 山田涉, 广濑英一, 梶原贤志, 额田克己, 关口良, 伊藤隆行 申请人:富士施乐株式会社