本发明涉及反射膜
技术领域：
，尤其涉及一种应用于小尺寸的镀银型反射膜及其制备方法。
背景技术：
：背光模组主要由反射膜、扩散膜和增亮膜构成，其发展趋势在提高其性能的基础上更趋于轻薄。目前反射膜一般为多孔的白色聚酯薄膜，通过控制薄膜中心泡孔的大小和密度来提高反射率。通常，白色反射膜反射率到达97％后即难以继续提高，且在使用过程中易出先白点。用镀银型反射膜代替小尺寸设备中的聚酯反射膜可以解决这一问题。在镀银型反射膜中，由于聚酯薄膜表面的粗糙度较高，使镀银层与聚酯薄膜之间的附着力较低，在反射膜使用过程中，易出现镀银层表面不平整以及镀银层和聚酯薄膜层分离的现象，导致反射膜的反射率降低。技术实现要素：为了解决现有镀银型反射膜中聚酯薄膜的表面粗糙度高，镀银层与聚酯薄膜层的附着力低的问题，本发明提供一种含有钛过渡层的镀银型反射膜及其制备方法。该反射膜反射率较高，能够到达99％以上，且钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。为了解决上述技术问题，本发明提供下述技术方案：本发明提供一种镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层(也称银镀层)和树脂保护层(简称保护层)。进一步的，所述镀银反射膜由聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层组成。进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层位于聚酯薄膜层的上表面；所述镀银层位于钛过渡层的上表面；所述树脂保护层位于镀银层的上表面。所述聚酯薄膜层经过真空溅射刻蚀，表面粗糙度低。进一步的，所述聚酯薄膜层是透明基材层。进一步的，所述聚酯薄膜层不具有反射功能。进一步的，所述聚酯薄膜层选自现有的透明聚酯薄膜。进一步的，所述聚酯薄膜层为长阳科技OS系列透明聚酯薄膜。进一步的，所述树脂保护层是透明树脂薄膜。进一步的，所述树脂保护层是聚乙烯薄膜。进一步的，所述聚酯薄膜层的厚度为50-200μm。进一步的，所述聚酯薄膜层的厚度为75-200μm。进一步的，所述聚酯薄膜层的厚度为75-100μm。进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层厚度为0.2-2μm，所述镀银层的厚度为0.5-2μm，所述保护层厚度为1-10μm。进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层采用真空溅射的方法，将钛溅镀在聚酯薄膜层的一个表面上。进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述镀银层采用真空溅射的方法，将银溅镀在钛过渡层的表面上。进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层厚度为0.8-1.4μm，所述镀银层的厚度为1.5-1.8μm。进一步的，所述保护层厚度为1-2μm。本发明还提供一种所述的镀银型反射膜的制备方法，所述制备方法包括下述步骤：(1)准备聚酯薄膜层；(2)在聚酯薄膜层的上表面进行真空溅射刻蚀处理；(3)在步骤(2)得到的聚酯薄膜层的上表面溅射金属钛，形成钛过渡层；(4)在钛过渡层的上表面溅射金属银，形成镀银层；(5)将树脂薄膜复合到镀银层的表面，形成树脂保护层，得到所述的镀银型反射膜。进一步的，所述的镀银型反射膜的制备方法中，所述步骤(2)中的真空溅射刻蚀方法如下：在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用射频电源，将聚脂薄膜上的偏压加到-200V，对聚酯薄膜刻蚀20-120s。上述真空溅射刻蚀步骤降低了聚酯薄膜的表面粗糙度。优选的，Ar气气压为0.5Pa，对聚酯薄膜刻蚀30s。进一步的，所述的镀银型反射膜的制备方法中，所述步骤(3)中的溅射金属钛的方法如下：在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在刻蚀后的聚酯薄膜上沉积金属钛，形成钛过渡层。优选的，Ar气气压为0.5Pa。进一步的，所述的镀银型反射膜的制备方法中，所述步骤(4)中的溅射金属银的方法如下：在真空溅射室的靶材中安放99.99％的银靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在上述钛过渡层上沉积金属银，形成镀银层。优选的，Ar气气压为0.5Pa。进一步的，采用干式覆膜方式，将保护层树脂薄膜，通过90℃加热通道和热压，复合到上述方法制备出的镀银层上，收卷。本发明提供的镀银型反射膜中，钛过渡层降低了聚酯薄膜层表面的粗糙度，提高了银镀层与聚酯薄膜层的附着力，从而提高了反射膜的反射率。反射膜在使用一段时间后，不会出现镀银层表面不平整以及镀银层和聚酯薄膜层分离的现象，反射率不会下降。与现有镀银反射膜相比，本发明提供的镀银型反射膜反射率较高，钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。而且，该反射膜保护层的表面粗糙度低于100nm。附图说明图1为本发明提供的一种镀银型反射膜的结构示意图。其中1是保护层，2是镀银层，3是钛过渡层，4是聚酯薄膜层。具体实施方式为了更易理解本发明的结构及所能达成的功能特征和优点，下文将本发明的较佳的实施例，并配合图式做详细说明如下：如图1所示，本发明提供的镀银型反射膜包括聚酯薄膜层1，钛过渡层2，镀银层3和保护层4。本发明提供的镀银型反射膜的制备方法包括以下步骤：(1)准备聚酯薄膜层；(2)在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.5Pa，使用射频电源，将聚脂薄膜上的偏压加到-200V，将聚酯薄膜进行刻蚀30s处理，降低表面粗糙度。(3)在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小 于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.5Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在刻蚀后的聚酯薄膜上沉积钛过渡层。(4)在真空溅射室的靶材中安放99.99％的银靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.5Pa，使用中频或直流电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在上述钛过渡层上沉积镀银层。(5)采用干式覆膜方式，将保护层薄膜，通过90℃加热通道和热压，复合到上述方法制备出的镀银层上，收卷。按照上述方法制备得到镀银型反射膜，其各项性能测试方法如下：反射率：按照GB/T3979-2008标准，采用Hunterlab公司制造的ColorQuestXE分光测色仪，在D65光源条件下，通过积分球d/8°结构测试其反射率，反射率数据为400-700nm每隔10nm的波长的反射率的加权平均值，权值对应D65光源的能量分布曲线。附着力：按照ASTMD3359标准，采用百格刀，用于均匀划出一定规格尺寸的方格，使用3M思高系列测试胶带，通过评定方格内涂膜的完整程度来评定涂膜对基材附着程度，以‘级’表示。通过胶带测试后切口的边缘完全光滑，格子边缘没有任何剥落，ASTM等级为5B；在切口的相交处有小片剥落，划格区内实际破损不超过5％，ASTM等级为4B；切口的边缘和/或相交处有被剥落，其面积大于5％，但不到15％，ASTM等级为3B；沿切口边缘有部分剥落或整大片剥落，及/或者部分格子被整片剥落。被剥落的面积超过15％，但不到35％，ASTM等级为2B；切口边缘大片剥落/或者一些方格部分或全部剥落，其面积大于划格区的35％，但不超过65％，ASTM等级为1B；超过65％的ASTM等级为0B.实施例中使用的聚酯薄膜层为长阳科技OS系列透明聚酯薄膜。实施例1本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的 厚度为0.2μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例2本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.4μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例3本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.6μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例4本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例5本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.0μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为2μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例6本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.2μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为 1.5μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例7本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.4μm，镀银层的厚度为1.6μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例8本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.6μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例9本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.8μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例10本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为2.0μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例11本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为0.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例12本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为0.75μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例13本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例14本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1.25μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例15本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为100μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1.8μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例16本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为200μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为2μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为10μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。实施例17本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为150μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为2μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为5μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。表1实施例1-17所得镀银型反射膜的保护层表面的粗糙度测试结果实施例123456789粗糙度(nm)4634361514610929实施例1011121314151617粗糙度(nm)2236284037167880表2实施例1-17所得镀银型反射膜的附着力测试表表3实施例1-17所得镀银型反射膜的反射率测试结果。由上述实施例的测试结果可以得出，本发明提供的镀银型反射膜具有较高的反射率，较高的附着力，反射膜的表面粗糙度较低。其中，实施例4、5、6、7和实施例15提供的镀银型反射膜具有更高的反射率(高于99.5％)。以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本
发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。当前第1页1 2 3