1.一种上扩散光学膜制造方法，其特征在于，具体步骤为：在基材上均匀涂敷光扩散涂料后，经烘干、老化即可，所述光扩散涂料由以下重量份的组分制成：甲基乙基酮18~20份，季戊四醇丙烯酸酯 15~17份，聚甲基丙烯酸正丁酯5~10份，二丁基锡二月桂酸酯1~2份，纳米二氧化硅1~2份，乙酸丁酯15~17份，脂肪族聚异氰酸酯3~4份，聚醚改性聚二甲基硅氧烷0.2~0.5份，聚甲基丙烯10~15份，聚苯乙烯14~15份，光扩散粒子3~5份。
2.根据权利要求1所述的一种上扩散光学膜制造方法，其特征在于，所述光扩散粒子为聚甲基丙烯酸酯颗粒、聚苯乙烯颗粒、聚硅氧烷颗粒、聚丙烯酸颗粒中的一种或多种。
3.根据权利要求2所述的一种上扩散光学膜制造方法，其特征在于，所述光扩散粒子的粒径为0.1~1μm。
4.根据权利要求1所述的一种上扩散光学膜制造方法，其特征在于，所述基材为PET薄膜。
5.根据权利要求1所述的一种上扩散光学膜制造方法，其特征在于，所述烘干具体步骤为：升温至100~120℃，烘40~60s。
6.根据权利要求1所述的一种上扩散光学膜制造方法，其特征在于，所述老化具体步骤为：在50~60℃下老化50~60 小时。