1.一种曝光机，用于制作显示器(7)，所述曝光机包括传送装置(3)、掩膜板(1)和光源(2)，所述传送装置(3)传送玻璃基板(6)经过所述掩膜板(1)，所述光源(2)通过开设在所述掩膜板(1)上的透光孔照射所述玻璃基板(6)，其特征在于，所述掩膜板(1)形成为可绕轴线回转的筒状结构，该筒状结构的轴线沿所述玻璃基板(6)的宽度方向延伸，所述光源(2)固定地设置在所述掩膜板(1)的空腔内，所述曝光机还包括用于带动所述掩膜板(1)回转的驱动装置(4)。
2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光源(2)为线形光源(2)，该线性光源(2)的延伸方向与所述掩膜板(1)的轴线平行。
3.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述透光孔的尺寸与所述显示器(7)的显示单元的尺寸相同，所述曝光机还包括控制系统，以保持曝光时所述掩膜板(1)的线速度与所述传送装置(3)的运动速度一致。
4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述控制系统包括用于检测所述传送装置(3)的运动速度并向外发送信号的传感器(5)，与所述传感器(5)电连接以接收所述信号的控制器，所述控制器与所述驱动装置(4)电连接，以通过所述驱动装置(4)调节所述掩膜板(1)的线速度。
5.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，所述传感器(5)为编码器。
6.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，所述驱动装置(4)为伺服电机或步进电机。
7.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述玻璃基板(6)为柔性玻璃基板(6)。
8.一种掩膜板，其特征在于，该掩膜板为根据权利要求1-7中任意一项所述的曝光机中的掩膜板。
9.一种玻璃基板曝光方法，用于在所述玻璃基板(6)上制作尺寸相同且相互间隔的多个显示器(7)，所述显示器(7)在所述玻璃基板(6)的长度方向的尺寸为L1，任意两个沿所述玻璃基板(6)长度方向相邻的显示器(7)之间的间距为L2，其特征在于，该曝光方法使用根据权利要求1-7中任意一项所述的曝光机对所述玻璃基板(6)进行曝光，所述曝光方法包括，
传送装置(3)传送所述玻璃基板(6)经过所述掩膜板(1)；
所述掩膜板(1)绕轴线回转，所述光源(2)通过透光孔照射所述玻璃基板(6)。
10.根据权利要求9所述的玻璃基板曝光方法，其特征在于，所述曝光机为根据权利要求4所述的曝光机，当掩膜板(1)的截面周长L3＝L1+L2时，所述曝光方法包括，传感器(5)检测传送装置(3)的运动速度V并向控制器发送信号，控制器接收该信号并启动驱动装置(4)，掩膜板(1)开始转动直至曝光完成。
11.根据权利要求9所述的玻璃基板曝光方法，其特征在于，所述曝光机为根据权利要求4所述的曝光机，当掩膜板(1)的截面周长L3为任意值时，所述曝光方法包括，
S1：传感器(5)检测传送装置(3)的运动速度V并向控制器发送信号，控制器接收该信号启动驱动装置(4)，经过时间T1，且T1·V＝L1时，控制器控制驱动装置(4)停止，
S2：经过时间T2，且T2·V＝L2时，重复S1，
重复S1和S2步骤至曝光完成。