1.一种防水镜片镀膜方法，其包括在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防水光学镜片，其特征在于：所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗；
2）基片清洗后的干燥：将清洗后的基片用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；
3）加硬处理：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；
4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
6）基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系；
A、基片的外表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀光学调控膜层、镀防水膜层；
A1、镀抗冲击强化膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片外表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；
A2、镀抗紫外线膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20%-80%；
A3、镀防蓝光膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤A3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；
A4、镀光学调控膜层：采用电子枪将光学调控膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A3中防蓝光膜层的表面，形成光学调控膜层，光学调控膜层的厚度为20-100纳米；所述光学调控膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：铝40%-60%；氧化硅40%-60%；
A5、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层；
防水膜层镀膜完成，基片的外表面镀膜系完成后，转入基片的内表面镀膜系；
B、基片的内表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀防水膜层；
B1、镀抗冲击强化膜层：采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片内表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；
B2、镀抗紫外线膜层：采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20-80%；
重复步骤B2至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的抗紫外线膜层；
B3、镀防蓝光膜层：采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤B2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤B3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；
B4、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层。
2.根据权利要求1所述的一种防水镜片镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中，对基片的清洗具体步骤如下：
a、采用有机溶剂清洗剂对基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
c、将步骤b处理的基片依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。
3.根据权利要求1所述的一种防水镜片镀膜方法，其特征在于：所述基片为高分子树脂成型。