专利名称：水溶性负性光刻胶组合物的制作方法
背景技术：
本发明涉及一种水溶性聚合物，当该聚合物与光致酸生成剂(PAG)一起使用时，形成负性(negative working)水溶性光刻胶。
光刻胶组合物用于制造微型化电子部件如制造计算机芯片和集成电路的微平版印刷方法中。通常，在这些方法中，首先将光刻胶组合物薄膜涂层施于基材，如用于制造集成电路的硅片上。然后将该涂敷基材加热以蒸出光刻胶组合物中的任何溶剂并使涂层固定于基材上。然后将该基材的涂敷表面掩蔽，接着在照射下曝光。
该照射曝光在涂敷表面的曝光区域引起化学变化。可见光、紫外(UV)光、电子束和X射线能量是目前常用于微平版印刷方法中的照射类型。在该掩蔽曝光后，将涂敷基材用显影剂溶液处理，以溶解并除去基材涂敷表面的照射曝光或未曝光区域。
存在两种类型的光刻胶组合物，即负性和正性光刻胶组合物。当将负性光刻胶组合物进行照射曝光时，照射曝光的光刻胶组合物区域变得不太溶于显影剂溶液中，而光刻胶涂层的未曝光区域仍溶于该溶液中。因此，用显影剂处理已曝光的负性光刻胶导致除去光刻胶涂层的未曝光区域，并在涂层中形成负性图象，由此露出其上沉积有光刻胶组合物的下层基材表面的所需部分。
另一方面，当将正性光刻胶组合物进行照射曝光时，光刻胶组合物的照射曝光区域变得更可溶于显影剂溶液中，而未曝光的区域仍然不溶于显影剂溶液中。因此，用显影剂处理已曝光的正性光刻胶导致除去涂层的曝光区域，并在光刻胶涂层中形成正性图象。同样露出下层基材表面的所需部分。
显影后，可以将部分未保护的基材用基材-浸蚀剂溶液或等离子体气体等进行处理。该浸蚀剂溶液或等离子气体浸蚀在显影期间除去光刻胶涂层的基材部分。仍然保留光刻胶涂层的基材区域被保护，由此在基材中形成浸蚀图形，这相当于用于照射曝光的光罩。接着，光刻胶涂层的剩余区域可在反萃取操作期间除去，留下清洁的浸蚀基材表面。在某些情况下，需要在显影步骤之后在浸蚀步骤之前对剩余的光刻胶层进行热处理，以提高其与下层基材的粘结力和其耐浸蚀溶液性能。
光刻胶图形分辨率定义为该光刻胶组合物在曝光和显影后能以高图象敏锐度自光罩转移至基材上的最小特征。在目前大多数制造应用中，要求光刻胶分辨率大约低于1μm。此外，几乎总是要求显影的光刻胶侧壁轮廓差不多与基材垂直。这种在光刻胶涂层的已显影与未显影区域之间的分界线转化为掩蔽图象向基材上的精确的图案转移。
以前，正性光刻胶优于负性光刻胶，因为它们通常显示优异的分辨性能。这通常是由于负性图象在显影期间溶胀造成的。本发明消除了这种溶胀，因为聚合物进行光化学诱导的消除反应而非交联，由此改变了溶解性。在此反应期间，出现了极性转换，且所得产物具有不同的溶解度参数。结果，该产品与流延时所用的溶剂无亲和性。因此，对于水流延光刻胶，刻蚀图象在显影期间与显影剂水溶液无亲和性，所以不会溶胀。
发明概述本发明涉及一种水溶性聚合物，当该聚合物与合适的光致酸生成剂(PAG)一起使用时，形成负性水溶性光刻胶。照射曝光时，聚合物不交联，但改变溶解度参数，因此在显影时不溶胀，由此获得改进的分辨率。这使所用的光刻胶在流线(i-line)上和深UV波长下能够具有高分辨率。此外，由于与本发明光刻胶一起使用的溶剂为水，因此在半导体制造中使用这种光刻胶将是环保的。该聚合物由通过连接基团与缩醛保护的β-酮酸基团偶联的主链，如聚乙烯基醚组成。主链和任何共聚单体的选取受到其在水中的溶解度的影响，因为初始聚合物必须足以溶于水中，以提供合适的制剂粘度。通过加入大量的市购光致酸生成剂，聚合物制剂形成水溶性负性光刻胶。照射曝光会造成光致酸催化的缩醛基团脱保护，生成β-酮酸，该β-酮酸在加热时会进行脱羧反应，导致水不溶性光致产品。由于起始聚合物是水溶性的，因此当用含水基质显影时，极性转换将形成负性图象。
该聚合物具有如下结构 其中R1-R4独立地为H、(C1-C5)烷基或(C1-C5)烷氧基，X为C=O、OCO、CONH、O、芳基(C1-C5)烷基。
本发明的聚合物通常为水溶性粉末形式。然而，光刻胶制剂为包括聚合物、PAG和溶剂水的液体溶液。通常用作光刻胶的溶液含1至30 wt％的聚合物粉末、在照射曝光时导致该聚合物的活性基团开裂的有效量的光致酸生成剂，余量为水。可与本发明聚合物一起使用的光致酸生成剂可市购。所要求的是，经合适波长照射曝光时，该光致酸生成剂生成导致缩醛部分开裂的足够的酸。合适的光致酸生成剂包括鎓盐、羟基马来酰亚胺三氟甲磺酸盐和磺酸重氮盐。不同的光致酸生成剂通过不同波长的光活化，因此光致酸生成剂的选取可以基于微平版印刷方法的分辨率要求。光致酸生成剂的分辨率和灵敏度可以用于种方法改变。例如，鎓盐还可用蒽敏化通过以用于i-线微平版印刷方法。其它光致酸生成剂见于美国专利5,585,223第3栏中，该专利公开的内容这里作为参考全文引入。
可将制备的光刻胶组合物溶液通过光刻胶领域中使用的任何常规方法，包括浸涂、喷涂、涡转涂布和旋涂施于基材上。例如当进行旋涂时，可调节该光刻胶溶液的固含量百分比，以在给定使用的旋涂装置类型和旋涂方法允许的时间下提供所需的涂层厚度。合适的基材包括硅、铝、聚合树脂、二氧化硅、掺杂二氧化硅、氮化硅、钽、铜、多晶硅、陶瓷、铝/铜混合物；砷化镓和其它这样的ⅢN族化合物。
本发明的光刻胶涂料特别适合施用于热成硅(thermally grownsilicon)/二氧化硅涂布的平板，如用于生产微处理器和其它微型化集成电路部件的平板。还可以使用铝/氧化铝平板。该基材还可包括各种聚合树脂，特别是透明聚合物如聚酯。该基材可具有合适组合物，如含六烷基二硅氨(氮)烷的组合物的粘合促进层。
然后将该光刻胶组合物溶液涂于基材上，将基材在温度约70℃至约200℃下在热板上处理或“软烘烤”约30秒至约180秒，或在对流烘箱中处理或“软烘烤”约15至约90分钟。选取此温度处理以降低残余溶剂在光刻胶中的浓度，同时不造成光敏剂的明显热降解。通常，希望将溶剂的浓度降至最低并进行该第一次温度处理，直至基本上所有溶剂已蒸发，且约1μm厚的光刻胶组合物薄涂层留于基材上。进行处理直至除去溶剂的速率变化相对不明显为止。软烘烤的温度和时间的选取取决于用户所需的光刻胶性能，以及使用的装置和商业上所需的涂布次数。
然后可将涂布的基材以通过使用合适的罩、底片、模版、样板等产生的任何所需的图形暴露于光化照射，例如波长约200 nm至约450nm的紫外照射，X-射线、电子束、离子束或激光照射。照射曝光将激活光致酸生成剂，并导致2-取代的3,3-亚乙基二氧基-丁酸的缩醛基团发生光致酸催化脱保护作用，生成β-酮酸，该β-酮酸在加热时会进行脱羧反应，产生水不溶性光致产品并放出CO2。然后将该光刻胶在显影前或显影后进行后曝光第二次烘烤或热处理。第二次热处理将赶走另外的CO2。
将已曝光的光刻胶涂敷基材通过浸入碱性显影水溶液中显影以除去图象位置(image-wise)的曝光区域或通过喷涂显影法显影。该溶液优选进行搅拌，例如通过氮气脉冲搅拌。使该基材留在显影剂中，直至所有或基本上所有光刻胶涂层已从未曝光区域溶解为止。显影剂可包括铵或碱金属氢氧化物的水溶液。一种优选的氢氧化物是氢氧化四甲基铵。从显影剂溶液中取出涂布的平板后，可进行任选的后显影热处理或烘烤以提高涂层的粘合性和对浸蚀溶液和其它物质的耐化学性。
本发明的光刻胶还可含有其它任选组分如着色剂、染料、抗条纹剂、敏化剂、均化剂、增塑剂、增粘剂、速度增强剂、溶剂，并可在将光刻胶组合物涂于基材上之前将表面活性剂(如非离子表面活性剂)加入聚合物树脂、敏化剂和溶剂的溶液中。
溶剂在整个组合物中的存在量可为组合物中固体重量的95％。当然，在将光刻胶溶液涂于基材上并干燥后，溶剂基本上被除去了。可使用的非离子表面活性剂包括例如壬基苯氧基聚(乙烯氧基)乙醇；辛基苯氧基乙醇，其用量按成膜树脂和敏化剂的总重量计为至多约10重量％。
下面的具体实施例将提供生产和使用本发明组合物的方法的详细描述。然而，这些实施例不以任何方式限制本发明范围，并且也不应认为是提供实施本发明必须专用的条件、参数或数值。
在下面的实施例中，实施例1至4给出形成含缩醛保护的β-酮酸基团的官能化苯乙烯聚合物，该聚合物加入光致酸生成剂后将形成负性水溶性光刻胶。实施例5-8涉及含缩醛保护的β-酮酸基团的官能化乙烯基聚合物，实施例9给出官能化乙烯基单体与苯乙烯的共聚物。
实施例1制备2-(4-乙烯基苄基)-3-氧代丁酸乙酯将乙酰乙酸乙酯(27.61g,O.21mol)溶于在冰-水浴中冷却的乙醇(100 ml)中，并加入乙醇钠(15.59g,0.22 mol)。加入4-乙烯基苄基氯(33.92g,O.2mol)。将该混合物回流16小时，然后将所得浆料过滤以除去任何盐，并收集溶液。在减压下除去溶剂，得到浅红色液体形式的2-(4-乙烯基苄基)-3-氧代丁酸乙酯(49g)，收率95％。1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):7.30和7.10(m,4H,芳族),6.60(m,1H,H2C=CH-),5.70和5.15(d,2H,=CH顺H反),4.45(d,2H,-CH2-芳族),4.10(q,2H,-OCH2CH3),3.10[t,1H,-COCH(R)CO2-],2.15(s,3H,CH3CO-),1.15(t,3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),169(-CO-),138(=CH2),136(H2C=CH-),135,129,126和113(芳族),61[-COCH(R)CO2-],50(-OCH2CH3),34(-CH2-),29(CH3CO-),14(-OCH2CH3).
实施例2制备2-(4-乙烯基苄基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯将在苯(100ml)中的2-(4-乙烯基苄基)-3-氧代丁酸乙酯(24.63g,0.1 mol)(在实施例1中形成)、乙二醇(12.54 g,0.2 mol)和对甲苯磺酸(250 mg)的混合物回流72小时(Dean-Stark分水器，1.9ml水)。将该溶液冷却，并用碳酸氢钠水溶液(5％,2x100 ml)、水(100ml)和盐水(150 ml)洗涤。将有机层干燥(MgSO4)、过滤并在减压下除去溶剂，得到橙色液体(27.7 g)，收率81％。将残余物减压蒸馏以提供纯的无色液体产品2-(4-乙烯基苄基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯(22 g,64％)；bp 121℃(22 mmHg)。1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):7.35和7.15(m,4H,芳族),6.70(m,1H,H2C=CH-),5.75和5.20(d,2H,=CH顺H反),4.55(d,2H,-CH2-芳族),4.05(q,2H,-OCH2CH3),4.0(m,4H,2x-OCH2-),3.05[t,1H,-COCH(R)CO2-],1.55(s,3H,CH3C-),1.10(t,3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),171(-CO-),139(=CH2),136(H2C=CH-),135,129,126和113(芳族),109[-O(R)C(R)O-],65(-OCH2CH2O-),60(-OCH2CH3),56[-COCH(R)CO2-],34(-CH2-),22(CH3C-),14(-OCH2CH3).
实施例3制备2-(4-乙烯基苄基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯聚合物将2-(4-乙烯基苄基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯(14.2 g,0.05 mol)(在实施例2中形成的)溶于DMF(75 ml)中。将该混合物加热至65℃，同时通过将氩气经密封橡胶隔膜中的入口针剧烈鼓入溶液中搅拌和脱气0.5小时。注射AIBN(0.0838 g,0.5 mmol，总单体量的1 mol％)在DMF(0.9ml)中的等分溶液并脱气0.25小时。取出入口和出口针，并使密封容器在65℃下搅拌24小时。将所得混合物在l600 ml 2-丙醇中沉淀，然后过滤得到灰白色粉末产品。将该产品通过溶于乙酸乙酯中并在2-丙醇中再沉淀进行纯化。将固体2-(4-乙烯基苄基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯聚合物在空气中干燥，得到10g白色固体。
1H NMR(200 MHz,CDCl3+TMS,δppm):6.20～7.10(4H,芳族),3.90～4.20(6H,-OCH2CH3和2×-OCH2-),3.40～3.60[1H,-COCH(R)CO2-],2.80-3.00(2H,-CH2-芳族),2.00～2.20(-CH-,王链).1.00～1.70(-CH2-,主链),1.00(3H,CH3C-),0.80(3H,～OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3+TMS,δppm):172(-CO2-),142～146(1C,芳族),135～137(1C,芳族),126～130(4C,芳族),110[-O(R)C(R)O-],65(-OCH2CH2O-),61(-OCH2CH3),56[-COCH(R)CO2-],44～47(-CH2-,主链),40～42(-CH-,主链),34(-CH2-芳族),22(CH3C-),14(-OCH2CH3).
实施例4制备2-(4-乙烯基苄基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯聚合物将2-(4-乙烯基苄基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯聚合物(在实施例3中形成的)(1.9 g,7.7 mmol)溶于g-丁内酯 (30 ml)中。加入NH4OH溶液(30％,在水中)，并将该溶液温热至110℃5小时。将所得溶液通过加入HCl变为弱酸性，并将2-(4-乙烯基苄基)-3,3～(亚乙二氧基)丁酸乙酯聚合物在甲苯中沉淀，然后干燥，得到白色粉末(0.6g)。
1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):6.20～7.10(4H,芳族),4.00～4.20(2H,-OCH2CH3),3.60～3.80[1H,-COCH(R)CO2-],2.90～3.10(2H,-CH2-芳族),1.90～2.20(-CH-,主链).1.00～1.70(-CH2-,主链)，1.25(3H,CH3C-),1.20(3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),169(-CO-),143～146(1C,芳族),135～136(1C,芳族),126～130(4C,芳族),62[-COCH(R)CO2-],61(-OCH2CH3),42～46(-CH2-,主链)，40～42(-CH-,主链),34(-CH2-芳族),29(CH3C-),14(-OCH2CH3).
实施例5制备2-乙酰基-5-己烯酸乙酯将乙酰乙酸乙酯(6.57 g,0.05 mo1)溶于乙醇(25 ml)中并加入乙醇钠(3.9 g,0.55 mol)。将溶液冷却至室温并加入4-溴-1-丁烯(6.96 g,0.05 mol)。将该混合物回流5小时。将所得溶液过滤，加入乙酸乙酯(75 ml)，并用盐酸溶液(2×200 ml,5N)和盐水(100 ml)洗涤。将有机层干燥(MgSO4)、过滤、并在减压下除去溶剂，得到浅黄色液体状2-乙酰基-5-己烯酸乙酯(9.29 g)，收率91％。
1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):5.75(m,1H,H2C=CH-),5.00(m,2H,=CH顺H反),4.15(q,2H,-OCH2CH3),3.40[t,1H,-COCH(R)CO2-],2.10(s,3H,CH3CO-),1.80～2.10(m,4H,-CH2CH2-),1.20(t,3H,-OCH2CH3).
13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),170(-CO-),137(H2C=CHO-),115(=CH2),61(-OCH2-),59(-CH-),31(=CH-CH2-),29(CH3-),27(=CHCH2CH2-),14(-OCH2CH3).
实施例6制备2-(3-丁烯基)-3.3-(亚乙二氢基)丁酸乙酯将在苯(150ml)中的2-乙酰基-5-己烯酸乙酯(30.62 g,0.15mol)(在实施例5中形成的)、乙二醇(18.82 g,0.3 mol)和对甲苯磺酸(250 mg)的混合物回流48小时(Dean-Stark分水器,2.3 ml水)。将该溶液冷却，并用碳酸氢钠水溶液(5％,2 x100 ml)、水(100 ml)和盐水(150 ml)洗涤。将有机层干燥(MgSO4)、过滤并在减压下除去溶剂，得到橙色液体(27.7 g)，收率81％。将残余物减压蒸馏以提供纯的无色液体产品2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯(22 g,64％)；bp 121℃(22 mmHg)。
1H NMR (200 MHz,CDCl3,δppm):5.75(m,1H,H2C=CH-),5.00(m,2H,=CH顺H反),4.15(q,2H,-OCH2CH3),3.95(m,4H,2x-OCH2-),2.60[dd,1H,-CCH(R)CO2-],1.60～2.10(m,4H,-CH2CH2-),1.40(s,3H,CH3-),1.20(t,3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):172(-CO2-),137(H2C=CHO-),115(=CH2),109[-O(R)C(R)O-],64(-OCH2CH2O-),60(-OCH2CH3),53(-CH-),32(=CH-CH2-),27(=CHCH2CH2-),21(CH3-),14(-OCH2CH3).
实施例7制备2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯将2-(3-丁烯基)-3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯(在实施例6中形成的)(6.85 g,0.03 mol)和氢氧化钾水溶液(50 ml, 1.1 M)的混合物回流22小时。然后将冷却的混合物用醚(100 ml)萃取。将水层(pH=13)在冰水浴中用盐酸(100 ml,1M,pH=1)酸化，并用醚(2×100ml)萃取。在减压下除去溶剂，得到粘稠的浅黄色液体状2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯(5.29 g)，收率88％。
1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):5.70(m,1H,H2C=CH-),4.95(m,2H,=CH顺H反),3.95(m,4H,2×-OCH2-),2.6[dd,1H,-CCH(R)CO2-],1.60～2.10(m,4H,-CH2CH2-),1.35(s,3H,CH3-),13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):1 78(-CO2-),137(H2C=CHO-),115(=CH2),109[-O(R)C(R)O-],65(-OCH2CH2O-),53(-CH-),32(=CH-CH2-),27(=CHCH2CH2-),21(CH3-).
实施例8制备2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯聚合物将在实施例7中形成的2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯(4.7 g,0.023 mol)加入四癸基铝锂(22.2 ml)、在环己烷(4 ml)中的四氯化钛和40 ml环己烷的混合物中。将溶液搅拌22小时。形成浅灰色悬浮体，然后加入MeOH使固体溶解，并将所得溶液在EtOAc中沉淀，得到灰白色固体2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯聚合物。
实施例9制备2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯与苯乙烯的共聚物将2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯(在实施例7中形成的)(9.18 g,0.051mol)和苯乙烯(7.59g,0.05 mol)的混合物溶于g-丁内酯(100 ml)中。将该混合物加热至65℃，同时通过将氩气经密封橡胶隔膜中的入口针剧烈鼓入溶液中搅拌和脱气0.5小时。注射入AIBN(0.1314 g，0.8 mmol，总单体量的1 mol％)在g-丁内酯(2.8ml)中的等分溶液并脱气0.5小时。总计以5小时间隔加入两个等分部分。取出入口和出口针，并使密封容器在65℃下搅拌20小时。将所得混合物在1000 ml 2-丙醇中沉淀，然后过滤得到白色粉末产品。将该产品溶于乙酸乙酯中并在己烷中再沉淀。将固体2-(3-丁烯基)-3,3-(亚乙二氧基)丁酸乙酯与苯乙烯的共聚物在空气中干燥，得到1.0 g，收率为13％。
本发明已通过优选的实施方案进行了描述。然而，正如本领域技术人员将认识到的，可在不离开所附权利要求定义的本发明精神和范围的条件下，对已描述和说明的具体细节进行改进和变动。
权利要求
1． 一种特别适合用作光刻胶的聚合物，包括如下结构 其中R1-R4独立地为H、(C1-C5)烷基或(C1-C5)烷氧基，X为C=O、OCO、CONH、O、芳基(C1-C5)烷基。
2．如权利要求1的聚合物，还包括光致酸生成剂，以形成光刻胶。
3．一种特别适合用作光刻胶的聚合物，包括a)聚合物主链；b)缩醛保护的β-酮酸基团；和c)连接主链和缩醛保护的β-酮酸基团的连接基团。
4．如权利要求3的聚合物，其中缩醛保护的β-酮酸基团包括2-取代3,3-亚乙二氧基-丁酸。
5．如权利要求3的聚合物，其中连接基团包括酯基、苯基、烷基和烷氧基中的至少一种。
6．如权利要求3的聚合物，其中主链聚合物包括乙烯基类聚合物、乙烯基醚、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基酚、乙烯基羧酸和乙烯基丙烯酰胺中的至少一种。
7．一种光刻胶组合物，包括a)聚合物主链；b)缩醛保护的β-酮酸基团；c)连接主链和缩醛保护的β-酮酸基团的连接基团；d)能够使缩醛基团脱保护的光敏剂。
8．如权利要求7的光刻胶，其中光敏剂包括光致酸生成剂。
9．如权利要求7的光刻胶，其中缩醛保护的β-酮酸基团包括2-取代3,3-亚乙二氧基-丁酸。
10．如权利要求7的光刻胶，其中连接基团包括酯基、苯基、烷基和烷氧基中至少一种。
全文摘要
一种水溶性聚合物,当该聚合物与光致酸生成剂(PAG)一起使用时,形成负性水溶性光刻胶。该聚合物包括通过连接基团与缩醛保护的β－酮酸基团偶联的主链,如聚乙烯基醚。通过加入大量的市购光致酸生成剂,聚合物制剂形成水溶性负性光刻胶。照射曝光会造成先致酸催化缩醛基团脱保护,生成β－酮酸,该β－酮酸在加热时会发生脱羧,得到水不溶性光致产品并放出二氧化碳副产品。该光化学诱导反应导致聚合物溶解度参数明显变化,且产品不再溶于水。由于溶解度改变不需要交联,因此显影期间暴露于含水基质时不会出现刻蚀图象溶胀,因此不会降低分辨率。这使所用的光刻胶在i－线和深UV波长下具有高分辨率。
文档编号G03F7/038GK1303401SQ99806602
公开日2001年7月11日 申请日期1999年5月18日 优先权日1998年5月27日
发明者I·麦克库罗克, A·J·伊斯特, 康明, R·克西安, H－N·尹 申请人:克拉里安特国际有限公司