层镀覆而成且层数为25层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；然后在蓝玻璃片的正面镀一层红外截止膜。
[0016]实施例二
步骤一、开料；取蓝玻璃为原料，使用玻璃开料机将蓝玻璃原料按需求进行开料； 步骤二、整形；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行磨边处理；
步骤三、切片；采用金刚砂线切割设备对整形后的蓝玻璃进行切割，金刚砂线的直径为0.14mm，金刚砂线上金刚石的粒径为30 μ m，金刚砂线在切割时以12m/s的速度运动，蓝玻璃相对于金刚砂线的移动速度为0.2mm/min，切割时不断向金刚砂线喷洒切割液，所述切割液中含有粒径为20 μ m的金刚石颗粒和粒径为50 μ m的刚玉颗粒；
步骤四、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理；
步骤五、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘的转速为1000rpm/min ;研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括:0.5%的颗粒大小为10 μ m的立方氮化硼粉末，14%的烷基酚聚氧乙烯醚，4%的甘油，9%的聚丙二醇400，其余为去离子水；
步骤六、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.12 Mpa，抛光盘的转速为lOOOrpm/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括:0.5%的颗粒大小为I μπι的立方氮化硼粉末，14%的烷基酚聚氧乙烯醚，4%的甘油，9%的聚丙二醇400，0.5%的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为11.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值；
步骤七、镀膜；采用光学真空镀膜机对蓝玻璃片的正反两面镀高透膜，高透膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为15层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；然后在蓝玻璃片的正面镀一层红外截止膜。
[0017]实施例三
步骤一、开料；取蓝玻璃为原料，使用玻璃开料机将蓝玻璃原料按需求进行开料； 步骤二、整形；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行磨边处理；
步骤三、切片；采用金刚砂线切割设备对整形后的蓝玻璃进行切割，金刚砂线的直径为0.15mm，金刚砂线上金刚石的粒径为35 μ m，金刚砂线在切割时以13m/s的速度运动，蓝玻璃相对于金刚砂线的移动速度为0.25mm/min，切割时不断向金刚砂线喷洒切割液，所述切割液中含有粒径为25 μ m的金刚石颗粒和粒径为55 μ m的刚玉颗粒；
步骤四、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理；
步骤五、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘的转速为1100rpm/min ;研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括:1%的颗粒大小为15 μπι的立方氮化硼粉末，15%的烷基酚聚氧乙烯醚，5%的甘油，10%的聚丙二醇400，其余为去离子水；
步骤六、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.13 Mpa，抛光盘的转速为1200rpm/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括:1%的颗粒大小为3 μπι的立方氮化硼粉末，15%的烷基酚聚氧乙烯醚，5%的甘油，10%的聚丙二醇400，1%的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为12.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值；
步骤七、镀膜；采用光学真空镀膜机对蓝玻璃片的正反两面镀高透膜，高透膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为20层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；然后在蓝玻璃片的正面镀一层红外截止膜。
[0018]本发明的一种红外截止滤光片的制备方法不局限于上述实施例所述的具体技术方案，凡采用等同替换形成的技术方案均为本发明要求的保护范围。
【主权项】
1.一种红外截止滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下具体步骤: 步骤一、开料；取蓝玻璃为原料，使用玻璃开料机将蓝玻璃原料按需求进行开料； 步骤二、整形；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行磨边处理； 步骤三、切片；采用金刚砂线切割设备对整形后的蓝玻璃进行切割，从而得到蓝玻璃片; 步骤四、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理； 步骤五、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘的转速为1000?1200rpm/min ;研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括:0.5?2%的颗粒大小为10?20 μm的立方氮化硼粉末，14?16%的烷基酚聚氧乙烯醚，4?6%的甘油，9?11%的聚丙二醇400，其余为去离子水； 步骤六、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.12?0.15 Mpa，抛光盘的转速为1000?1500rpm/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括:0.5?2%的颗粒大小为I?6 μ m的立方氮化硼粉末，14?16%的烷基酚聚氧乙烯醚，4?6%的甘油，9?11%的聚丙二醇400，0.5?2%的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为11.0?13.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值； 步骤七、镀膜；采用光学真空镀膜机对蓝玻璃片的正反两面镀高透膜，高透膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为15?25层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；然后在蓝玻璃片的正面镀一层红外截止膜。2.根据权利要求1所述红外截止滤光片的制备方法，其特征在于:所述步骤三中，金刚砂线的直径为0.14?0.16mm，金刚砂线上金刚石的粒径为30?40 μ m，金刚砂线在切割时以12?15m/s的速度运动，蓝玻璃相对于金刚砂线的移动速度为0.2?0.3mm/min，切割时不断向金刚砂线喷洒切割液，所述切割液中含有粒径为20?30 μ m的金刚石颗粒和粒径为50?60 μm的刚玉颗粒。3.根据权利要求1所述红外截止滤光片的制备方法，其特征在于:所述步骤五中，所述研磨液中含有粒径为3?6 μ??的氧化铝颗粒。4.根据权利要求1所述红外截止滤光片的制备方法，其特征在于:所述步骤六中，所述碱性溶液为KOH。5.根据权利要求1所述红外截止滤光片的制备方法，其特征在于:所述步骤六中，所述抛光液PH值为12.0。6.根据权利要求1所述红外截止滤光片的制备方法，其特征在于:所述步骤六中，抛光盘对晶片加压至0.135Mpa。7.根据权利要求1所述红外截止滤光片的制备方法，其特征在于:所述步骤九中，所述光学真空镀膜机，采用离子源产生电子光束，先将低折射率氧化物或高折射率氧化物液化后凝固进行预熔，再将凝固后的低折射率氧化物或高折射率氧化物气化喷射到晶面上形成膜。
【专利摘要】本发明涉及一种红外截止滤光片的制备方法，具体步骤包括；开料、整形、切片、倒角、研磨、双面化学抛光、镀膜等工序；本发明制成的红外截止滤光片成片质量高，废品率低，生产效率高。
【IPC分类】G02B1/115, G02B5/20
【公开号】CN104977639
【申请号】CN201510342806
【发明人】苏凤坚, 刘俊, 郝正平
【申请人】江苏苏创光学器材有限公司
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年6月19日